| 휴가일수 | 사용일수 | 잔여일수 | ||
|---|---|---|---|---|
| 이월 | 당해 | 계 | ||
| 일 | 일 | 0일 | 0일 | 0 일 |
| 구분 | 연간 교육 | 이수 시간 | 잔여 시간 |
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| 시간 |
| 번호 | 장비명 | 모델명 | 사양 | 용도 | 일지 | 상태 | 관리 |
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| 151 | EUV Aerial Image Microscope (AIMS) | EZM-1000 | 2.5 GeV | EUV Mask의 결함유무 검사 | ![]() |
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| 150 | EUV Reflectometry | ARX-2000RM | 70 ~ 150eV | EUVL Mask의 분석 반사도 측정 | ![]() |
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| 149 | Cryogenic RF Measurement System | SUSS VIT-801 | 50GHz,DC,RF | 나노소자의 저온고주파특성측정 | ![]() |
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| 148 | Flicker Noise Measurement System | 89410A | up to 8 | noise analysis | ![]() |
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| 147 | Noise Parameter Test System | NP3000A-115 | 2 to 26.5 GHz | 잡음지수측정 | ![]() |
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| 146 | Virtuoso Noise Pro | BTA9812B | 1Hz-1MHz | Noise Parameter를 Extraction 하기위해 사용 | ![]() |
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| 145 | Vector Signal Analyzer 외 2 | 89410A | dc to 10MHz | 디지털 변조나 AM, FM 분석용 | ![]() |
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| 144 | Logic Analyzer | TLA5202 | 68 ch | 통신용칩 개발을 위한 로직분석 | ![]() |
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| 143 | FT-IR | ECO-1000s | up to 8 | dopant concentration in BPSG | ![]() |
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| 142 | CNT Synthesis System | TCP CVD SYSTEM | Wafer Capacity : 6 | CNT Synthesis System | ![]() |
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| 141 | Nanocrystal-Synthesis System | Nano-Particle | up to 8 | Silicon nanoparticle synthesis | ![]() |
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| 140 | Mask Aligner_MA6 | MA6 | 4,6inch | UV노광, 4"& 6" 조각 및 BSA 가능 | ![]() |
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| 139 | Mask Aligner (ME) | MA6 | 4,6inch | UV노광, 6\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\" & 4\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\" 조각 및 BSA 가능 | ![]() |
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| 138 | NEMS Base System | - | 6 | NEMS Cleaning, baking, wet etching - Spin Coater(PR, PMMA 등) | ![]() |
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| 137 | PR Asher_NEMS | YES-CV200RFS | 8 | NEMS공정의 잔류 PR 제거 및 Descum | ![]() |
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| 136 | Parylene Coater (ME) | - | - | - | ![]() |
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| 135 | Spray coater (ME) | - | - | - | ![]() |
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| 134 | NEMS White Wet station - Acid | - | 6 | 산 습식 공정 | ![]() |
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| 133 | NEMS White Wet station - Organic | - | 6 | 유기/산 습식 세정 | ![]() |
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| 132 | MEMS Yellow Wet station | - | 6 | NEMS Cleaning, wet etching (산 취급) | ![]() |
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