NINT Information System
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| 휴가일수 | 사용일수 | 잔여일수 | ||
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| 이월 | 당해 | 계 | ||
| 일 | 일 | 0일 | 0일 | 0 일 |
| 구분 | 연간 교육 | 이수 시간 | 잔여 시간 |
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| 시간 |
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개인정보 수정
장비 리스트 관리 | 장비 리스트 관리
| 번호 | 장비명 | 모델명 | 사양 | 용도 | 일지 | 상태 | 관리 |
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| 11 | Curve Tracer with Probe Station (in Clean Room) | 370A, MS Tech 8000 | 반도체 소자의 전기 특성 분석 |  |
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| 10 | Atomic Force Microscope-Ⅱ(Jupiter XR) / AFM-Ⅱ | Jupiter XR | Lateral Resolution 10nm, Vertical Resolution 15pm (Contact M | Atomic Force Microscope/표면분석/Tapping mode/Contact mode/KPFM/AMFM | |
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| 9 | NINT Semiconductor Education Platform | 나노융합기술원 | 나노융합기술원 | 나노융합기술원 반도체 공정교육 | |
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| 8 | Silvaco TCAD Simulation | TCAD Simulation | Silvaco TCAD Simulation | |
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| 7 | LPCVD Furnace | VUCLAN-H83SL | Max 800℃ anneal / D-poly depo | 1) H2 Alloy 2) N2 anneal 3) D-poly depo | |
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| 6 | High Resolution FE-SEM-Ⅳ (JSM-IT710HR) | JSM-IT710HR | 나노재료의 표면 및 형태관찰/성분분석 EDS | |
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| 5 | High Resolution Powder-XRD | SmartLab 9kW | 분말의 상 조성, 결정질 크기, 결정방향, 구조 등 물리적 특성 분석 | |
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| 4 | Raman Spectroscopy(Alpha 300 R) | Alpha 300 R | 523nm/100x, 50x, 20x, 10x | Raman Spectroscopy | |
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| 3 | Furnace Activator_SiC 200 | ACTIVATOR 200 | 8INCH | 1500℃ ~ 1850℃ 고온 열처리 (SiC 전용) | |
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| 2 | SiC ion implantation | ULVAC IH-860PSiC | |
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| 1 | APLT SPEED-200iD | Size: 6 inch, 8inch Materials: Si, SiC PR Thickness: 0.8~3.0uｍ Resolution : 0.8um ~ | |
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