NINT Information System
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| 휴가일수 | 사용일수 | 잔여일수 | ||
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| 이월 | 당해 | 계 | ||
| 일 | 일 | 0일 | 0일 | 0 일 |
| 구분 | 연간 교육 | 이수 시간 | 잔여 시간 |
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| 시간 |
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개인정보 수정
장비 리스트 관리 | 장비 리스트 관리
| 번호 | 장비명 | 모델명 | 사양 | 용도 | 일지 | 상태 | 관리 |
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| 131 | NEMS Yellow Wet station - Organic | - | 6 | NEMS Cleaning, wet etching |  |
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| 130 | NEMS Base System (optical microscope) | - | 6 | NEMS Cleaning, baking, wet etching - Spin Coater(PR, PMMA 등 | |
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| 129 | E-Beam Evaporator - 1 | KVE-C300160 | 4,6inch wafer 전용 (Max 4장/회, 8 inch wafer 사용 불가) | Ag, Al, Cr, Cu, Fe, Ni, Ti증착 lift-off 공정은 별도 문의 | |
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| 128 | PZT Coater | TS8162FD | 6 | PZT Coating | |
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| 127 | Deep Reactive Ion Etcher(DRIE) - 1 | Multiplex Lite ASE-SR | 6 inch | Si 고종횡비 식각 | |
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| 126 | PZT Etcher | PZT | 4 | Pb(Zr,Ti)O3 압전체 건식 식각 | |
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| 125 | Spin Coater with Glove Box | Spin coater(SUSS MicroTec), glove box(Unilab) | 200 ~ 6000 rpm | 고분자 유기 반도체 물질 도포 | |
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| 124 | Mask Aligner_MA8 | MA8 | 8 inch wafer, 200mm/200mm Square | 8 inch wafer 정렬 노광, Top side ,Back side Align 가능. | |
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| 123 | Display Photo Base System | H-MDS-P01, H-MES-P01 / SmartCube-MS | 200*200mm | Glass 세정, 에칭 시스템 200x200 사이즈 이하의 기판 세척 및 현상 | |
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| 122 | Ink Jet Printing System | UJ 2100 | 30~60㎛ | 유기반도체물질 전극패턴형성 | |
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| 121 | OMBD_Metal Evaporation System | alpha-plus | ≤±3.0%,um | OTFT 제작용 유기 및 금속증착 | |
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| 120 | OLED Systems | Sunicel plus 200 / 1 inch full color PMOLED | ±5%(organic), ±7%(metal) | OLED 제작용 유기 증착, Metal Thermal Evaporation | |
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| 119 | Sputter (OLED) | Sunicel plus 200 | 200*200mm | |
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| 118 | PECVD System | UF-CVD200 | 30~50nm/min, ≤±5.0% | 플라즈마 화학 기상 증착기 | |
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| 117 | Probe Station_Power Semiconductor | Probe station, Black Box, I-V/C-V meter | 0.1fA, 20 Hz-1MHz / <1ppm H₂O, <1ppm O₂/ 4200scs | 파워반도체소자의 I-V, C-V특성 측정 | |
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| 116 | Surface Potential Measurement System | 표면 전위 측정 | |
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| 115 | High Resolution FE-SEM-I (JSM 7401F) | JEOL JSM-7401F | 1.0 nm/15kV | 나노재료의 표명 및 형태관찰/ 성분분석 SEI/ BEI/EDS | |
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| 114 | Focused Ion Beam -Ⅳ(SMI 3050) / FIB-Ⅳ | SII SMI3050SE | IM4nm,EM5nm | 3차원 가공 및 TEM 시료제작, 단면 관찰 | |
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| 113 | SPM System (GUMI Center) | VEECO Dimension 3100 + Nanoscope V (Version 7.0) | 0.1 nm(X-Y) , 0.01nm (Z) | Atomic Force Microscope / 표면분석/ MFM/ EFM/ AFM/ | |
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| 112 | Focused Ion Beam -Ⅰ(Helios 600 with TKD) / FIB -Ⅰ | Helios 600, EBSD Quantax CrystAlign 400 | Beam Resolution : Electro Beam >1nm, Ion Beam >5nm EBSD : 1. | 3차원 가공 및 TEM 시료제작, 단면 관찰, 미세 집합조직 해석 | |
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