장비·기술
포스텍 나노융합기술원

기술 소개

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Platform Technologies
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핵심 공정·분석 플랫폼

01 차세대 전력반도체 일괄 제조 공정 지원

전력반도체 소자 제작을 위한 증착·포토·에칭·패키징, 이온주입 및 열처리 등 일괄 공정 지원

• 공정 단계

  • Well 형성
  • Junction 형성
  • Activation 공정
  • Gate 공정
  • Contact 공정
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02 SiC 전력반도체 제작을 위한 증착·패터닝·고온 열처리 및 산화 공정 지원

전력반도체 소자 제작을 위한 증착·포토·에칭·패키징, 이온주입 및 열처리 등 일괄 공정 지원

• 공정 단계

  • Well 형성
  • Implanter 공정
  • Activation 공정
  • Oxide NO Anneal 공정
  • Metal Silicide 공정
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03 우주급 내방사선 전력반도체 일괄 제조 공정 지원

우주급 수준의 고신뢰성 방사선 내성 Power MOSFET 제작 공정 지원

• 공정 단계

  • Activation 공정
  • Implanter 공정
  • Drive-in 공정
  • Contact 공정
  • Metal 공정
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04 Si 기반 3세대급 전력반도체 일괄 제조 공정 지원

전력 공급 스위치 기능 고성능화를 위한 Si 기반 3세대급 전력반도체 제조 공정 지원

• 공정 단계

  • Activation 공정
  • Implanter 공정
  • Drive-in 공정
  • Contact 공정
  • Metal 공정
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05 PSS 공정을 이용한 LED Substrate 일괄 제조 공정 지원

LED 광효율 향상을 위한 PSS 공정 기반 패터닝·식각 공정 지원

• 공정 단계

  • Well 형성
  • Junction 형성
  • Activation 공정
  • Gate 공정
  • Contact 공정
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06 MEMS·바이오센서 일괄 제조 공정 지원

MEMS·바이오센서 제작을 위한 디자인·설계·증착·패터닝·식각 등 일괄 공정 지원

• 공정 단계

  • Low Stress Thinfilm 증착
  • Front 거울 형성
  • Back 지지막 형성
  • Front 반사막 형성
  • 회전형 그레이팅
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07 나노와이어 기반 바이오센서 소자 제조 공정 지원

나노와이어 기반 바이오센서 제작을 위한 식각·패터닝·증착 공정 지원

• 공정 단계

  • Well 형성
  • Junction 형성
  • Activation 공정
  • Gate 공정
  • Contact 공정
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08 측정분석·특성평가 지원

3D Correlative Workflow 기반 장비·소재 성능 평가

• 분석 항목

  • FIB 시편 제작
  • AFM/SEM/EDS 표면·구조 분석
  • APT 3D 미량원소 분석
  • TEM/EELS 원자 스케일 분석
  • XRD/RAMAN 결정 구조 분석
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