안녕하세요

대진대학교 이명복입니다. 

6인치 Si 기판의 KOH 이방성 습식 식각을 이용한 Si master 제작 관련하여 문의 드립니다.  

제작하고자 하는 Si master의 스펙은 아래와 같습니다. 

- 패턴 스펙 : pitch 21 um, depth 10 um

- 패턴 형태 : 정사각형 어레이 (식각 후, 역 피라미드 형상)

- 패턴 영역 : 50 mm x 50 mm

첨부 파일을 참조하시고, 전체적인 일관 공정이 가능한지 답신 부탁드립니다. 

감사합니다.

대진대학교 이명복 교수

(Mobile) 010-9075-3310

(E-mail) mblee3@daejin.ac.kr