깊이 약 2 um 정도로 진행하고 싶으며,

사용하게 될 photolithography 용 마스크는 보유하고 있습니다.

minimum feature size는 약 2 um 이며, 

간단히 설명드리자면, 지름 약 2 um 정도 되는 원형모양의 패턴이 약 2 um 간격을 두고 떨어져서 굉장히 많이 분포하고 있는

모양입니다.

가능한지, 가능하다면 어떤 분께 여쭤봐야 할 지 답변 부탁드립니다, 감사합니다.