포스텍 전자공학과 대학원생 박슬기입니다.

 

시료(Cu/Ni/SiO2/Si wafer 조각) 표면에 carbon이 얼마나 존재하는지 확인하고 싶은데 가능한 장비가 있나요?

 

또 위와 같은 시료 위에 산화막(SiO2나 Al2O3)를 증착하고 싶은데 가능한 장비가 있을까요?

(나노센터의 장비는 Cu가 포함되면 대부분의 공정이 불가능하다고 들었습니다.)

 

답변 기다리겠습니다.