안녕 하세요.
포토 공정 서비스 김동현 입니다.
NEMS Base System(Spin Coater -Ⅱ) 는 wafer chuck 배큠이 뽑히는 구멍이 막혔을때 그런 현상이 발생합니다. 아세톤으로 클리닝하여 조치된 상태 이며
NEMS Base System(Spin coater -Ⅰ) 는 메모리쪽에서 간헐적으로 발생되는 문제이며 현재 조치중에 있습니다.
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↓ 원문 : 강준수 님께서 2015-08-15 15:16에 작성하신 글입니다. ↓
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스핀코터가 모두 고장이네요
NEMS Base System(Spin coater -Ⅰ)은 레시피가 이상한 데이터로 가득차서 수정이 안되는 상태이고
NEMS Base System(Spin Coater -Ⅱ)<SPAN style=""font-size: " 1.5\? line-height: 9pt;>는 Vacuum pump가 작동은 하는데 wafer를 잡지는 못하는 상태입니다.
빠른 조치 부탁드리겠습니다.
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