안녕하세요. 공정기술팀장입니다.

SiO2 Dry Etching 가능합니다.

Etch 파트장인 김수곤선임(279-0227, sukoni@postech.ac.kr)로 문의하시면 됩니다.

감사합니다.

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↓ 원문 : 박혁 님께서 2017-05-18 17:12에 작성하신 글입니다. ↓
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안녕하세요, postech 전자전기공학과 대학원생 박혁입니다.

SiO2 anisotropic etching 하고 싶은데, 

1. 하나 아는 것으로 CF4 plasma가 있는데 이 것의 etching rate, 

2. 다른 plasma를 사용할 만한 것이 있는지와 그 etching rate,

3. 아예 다른 방법이 존재하는지 

궁금합니다. 

감사합니다. 박혁 올림.