안녕하세요. 공정기술팀장 입니다.

TiO2는 Reactive Sputter로만 가능합니다.

Reactive sputter이므로 증착율이 0.2A/s로 매우 느리며 조성비도 보증할 수 없습니다.

Sputter 관련은 이원범책임(279-0226, wblee@postech.ac.kr)로 문의하시면 됩니다.

감사합니다.

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↓ 원문 : 정유진 님께서 2017-05-29 14:49에 작성하신 글입니다. ↓
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혹시 TiO2를 glass에 증착하려고 하는데 가능한 장비가 있을까요?

정유진 올림