안녕하세요, postech 전자전기공학과 대학원생 박혁입니다.

SiO2 anisotropic etching 하고 싶은데, 

1. 하나 아는 것으로 CF4 plasma가 있는데 이 것의 etching rate, 

2. 다른 plasma를 사용할 만한 것이 있는지와 그 etching rate,

3. 아예 다른 방법이 존재하는지 

궁금합니다. 

감사합니다. 박혁 올림.