안녕하세요

삼성전자 종합기술원의 조준석입니다.

제가 필요로 하는 공정은 implant 공정입니다.

샘플은 1.5t의 8인치 Si wafer(flat zone)이며 공정은 Ar으로 GaN을 isolation하는 작업입니다.

1.5t의 Si wafer에 대해서 공정이 가능한지 확인 후 회신주시면 감사하겠습니다.

(junseok.cho@samsung.com)

아니면 여기 사이트에 다시 접속해서 답변을 봐야하는건지요?

처음 문의드리는 것이라서 잘 모르겠네요....!!