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포스텍 나노융합기술원
장비

[답변] 폴리머 에칭

작성자이현규
등록일2021-02-05 11:36:45
조회수1514

안녕하세요.

DRIE 장비에서 O2를 사용한 공정은 가능합니다.

단, 장비 특성상 다른 ICP 장비에서도 가능합니다.

어떤 폴리머인지, 식각 깊이가 어느정도인지에 따라 다를것 같습니다.

에칭파트장인 김수곤책임(054-279-0227,  sukoni@postech.ac.kr)으로 바로 문의하시면 됩니다.

감사합니다.
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↓ 원문 : 고병수 님께서 2021-02-04 09:35에 작성하신 글입니다. ↓
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안녕하세요? 

 

현재 보유 중 이신 DRIE 에칭 장비로 폴리머 계열 O2 RIE 공정이 가능할까요?