안녕하세요. 공정기술팀 이은별입니다.

문의주신 내용 답변드립니다.

저희가 보유중인 Suss Microtec MA6 장비는 i-line(365nm) 파장대가 맞습니다. 최소 선폭 구현 가능 CD는 Positive PR 기준 1um입니다.

그리고 보통 365nm 이하의 파장으로 노광을 진행하려면 KrF 수준의 장비가 필요한데, i-Line 파장대로는 진행이 불가능합니다.

정말 죄송하지만 말씀주신 290nm~330nm의 노광은 불가능합니다.

상기 내용 참고부탁드립니다.

감사합니다.

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↓ 원문 : 김웅지 님께서 2021-04-12 21:35에 작성하신 글입니다. ↓
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안녕하세요,

저는 포항공과대학교 기계공학과 대학원생 김웅지입니다.

Mask Aligner의 UV Lamp 관련하여 문의를 드립니다. 

현재 나노융합기술원에서 보유하고 있는 Suss MicroTec MA6 장비의 UV Lamp가 UV 400 (i-line)인 것으로 알고 있습니다.

290 ~ 330 [nm]에서의 노광이 필요하여, UV 300은 사용이 가능한지 알고 싶습니다.

그럼, 안녕히 계세요.