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포스텍 나노융합기술원
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플라즈마 유도결합 식각 장비(ICP Dry Etcher_GIGALANE) 소개

작성자조은경
등록일2026-04-09 11:37:48
조회수754
[보이기/감추기]

나노융합기술원은

실리콘·금속 소재 하이브리드 식각에 특화된

ICP Dry Etcher_GIGALANE를 소개합니다.


2025년 도입된 본 장비는

정밀 식각과 공정 최적화 서비스 제공에 적합한 장비로,

반도체 및 나노 공정의 정밀도 향상에 활용될 수 있습니다. 


여러분의 많은 관심과 이용 바랍니다.


 

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