나노융합기술원

Equipment 공정기술 포토공정

연관장비

LP-CVD 저압 화학증착장치

모델명	BJM100
제조사	유진테크
용도	SiO2, Si3N4, (doped)Poly-Si



사용불가 장비	2024-11-15까지
사용불가 사유	장비 점검 중
시작일	시
종료일	시
	신청날짜를 선택하시기 바랍니다.(Please select an application date.)
기본료
수가
기준	원 회/매
예상 사용료: 0원 기준(회/매)

장비사용료 안내

장비사용료	용도	이용료부과기준	이용수가(원)				비고
	용도	이용료부과기준	기본료	내부(포스텍 소속)	직접이용-외부	서비스	비고
	Poly-Si 증착	회/매	0	0	0	170,000	두께 3,000Å 기준 (Nomal Process 외 청구 금액 협의 필요)
	SiO2, Si3N4, (doped)Poly-Si	회/매	0	0	0	170,000	두께 100Å 기준 (550℃ 기준)

LP-CVD(저압 화학증착장치) 총 이용료: 0원 기준(회/매)