나노융합기술원

Equipment 공정기술 포토공정

연관장비

PE-CVD - 2 플라즈마증착장치-2

모델명	TELIA200
제조사	TES
용도	박막 TFT 형성, 저온산화막 형성



시작일	시
종료일	시
	신청날짜를 선택하시기 바랍니다.(Please select an application date.)
기본료
수가
기준	원 회/매
예상 사용료: 0원 기준(회/매)

장비사용료 안내

장비사용료	용도	이용료부과기준	이용수가(원)				비고
	용도	이용료부과기준	기본료	내부(포스텍 소속)	직접이용-외부	서비스	비고
	SiN, SiO2 박막 증착	회/매	0	0	0	140,000	1. 두께 1㎛ 기준, 2. 8인치 전용, 3. 6인치는 지그 사용, 4. 조각진행 불가, 5. Ti, TiN, Al 진행 가능 (Ch.A)

PE-CVD - 2(플라즈마증착장치-2) 총 이용료: 0원 기준(회/매)