나노융합기술원

Equipment 공정기술 포토공정

연관장비

Optical Microscopes-EBL 광학현미경-EBL

모델명	MX51
제조사	Zeiss,Olympus
용도	Wafer의 표면 및 패턴 형상 관찰



시작일	시
종료일	시
	신청날짜를 선택하시기 바랍니다.(Please select an application date.)
기본료
수가
기준	원 30분
예상 사용료: 0원 기준(30분)

장비사용료 안내

장비사용료	용도	이용료부과기준	이용수가(원)				비고
	용도	이용료부과기준	기본료	내부(포스텍 소속)	직접이용-외부	서비스	비고
	Wafer의 표면 및 패턴 형상 관찰	30분	0	5,000	8,000	10,000	초기 10분간 무료, 이후 사용시 10,000원/30분

Optical Microscopes-EBL(광학현미경-EBL) 총 이용료: 0원 기준(30분)