나노융합기술원

Equipment

첨단 기술가치, 나노융합기술원의 장비를 통해 실현하세요

Technology

나노기술의 global leader, 나노융합기술원의 첨단기술을 안내해 드립니다.

Support

인프라 활용을 통해 사업화 및 맞춤형 교육을 지원합니다.

Information

나노융합기술원의 새로운 소식을 알려드립니다.

Introduction

새로운 가치로, 새로운 미래를 여는 나노기술. 나노융합기술원이 함께합니다.

Laser Lithography System 레이저리소그래피시스템(Cr Mask 제작)

모델명	DWL200
제조사	Heidelberg
용도	7 inch, 6T 이하 Free Size 노광 (2,4,5,6 inch wafer, mask, etc.)



사용불가 장비	까지
사용불가 사유	활용도 저하
시작일	시
종료일	시
	신청날짜를 선택하시기 바랍니다.(Please select an application date.)
기본료
수가
기준	원 회/매
예상 사용료: 0원 기준(회/매)

Laser Lithography System 가동중

레이저리소그래피시스템(Cr Mask 제작)

모델명

DWL200

제조사

용도

7 inch, 6T 이하 Free Size 노광 (2,4,5,6 inch wafer, mask, etc.)

사용불가 장비

까지

사용불가 사유

활용도 저하

시작일

시

종료일

시

기본료

수가

기준

원 회/매

예상 사용료: 0원 기준(회/매)

장비사용료 안내

용도	이용료부과기준	이용수가(원)				비고
용도	이용료부과기준	기본료	내부(포스텍 소속)	직접이용-외부	서비스	비고
7inch 2㎛ 이상 직접노광(Exposing Time 2시간 기준)	회/매	0	0	0	500,000	Blank Mask, 재료비 비용 추가
6inch 2㎛ 이하 직접노광(Exposing Time 6시간 기준)	회/매	0	0	0	700,000	Blank Mask, 재료비 비용 추가
5inch 2㎛ 이상 직접노광(Exposing Time 2시간 기준)	회/매	0	0	0	300,000	Blank Mask, 재료비 비용 추가