장비 사양

 O2 primary ion at 1keV DUO(+3kV)/Secondary(+2kV) without Oxygen flooding/ Cs

 Boron deta layer in Si 50nm(1.9nm/e)

 Sputter rate 3nm/min

응용분야

 질량분석기를 통해 시편에서 튀어나온 이차이온의 원소의 정보 동소체 혹은 분자의 조성 등을 ppb 단위까지 분석 

  ① mass spectrum

    : 임의의 물질의 성분을 분석하기 위한 방법으로 이온 질량에 따른 성분들의 분포를 확인하는 방법

  ② depth profile

    : 대표적인 분석방법으로 분석원소의 성분이 ppm ppb 단위의 미량 분석을 가능하게 하는 분석법이며 깊이 방향에 따라 성분 분포를 확인 할 수 있는 분석법

  ③ image scan

    : 표면의 분석 성분이 어떻게 분포하는지 확인하는 방법으로 cluster의 존재유무와 성분을 확인하는 방법