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Equipment 공정기술 에칭공정 |
Deep Reactive Ion Etcher(DRIE) - 1 이온실리콘식각장치 |
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| 모델명 | Multiplex Lite ASE-SR | |
| 제조사 | STS | |
| 용도 | Si 고종횡비 식각 | |
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Deep Reactive Ion Etcher(DRIE) - 2 실리콘 고종횡비 식각장치 - 2 |
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| 모델명 | Pegasus | |
| 제조사 | SPTS | |
| 용도 | Deep Silicon Etching | |
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Dry Etcher - TEL 절연막건식 식각 장비 |
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| 모델명 | DRM85DD | |
| 제조사 | TEL | |
| 용도 | SiO2 , SiN Etch | |
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Dry Etcher_DMS 플라즈마 유도결합 식각장치 |
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| 모델명 | Silicon/metal hybrid etcher | |
| 제조사 | DMS | |
| 용도 | 20nm급 식각 | |
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Dry Etcher_Oxide 산화막 식각장치 |
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| 모델명 | Rainbow-4528 | |
| 제조사 | LAM | |
| 용도 | Oxide Etch | |
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Dry Etcher_Poly Si 다결정규소막 식각장치 |
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| 모델명 | Rainbow-4428 | |
| 제조사 | LAM | |
| 용도 | Poly Si Etch | |
| 사용불가 장비 | 까지 | |
| 사용불가 사유 | Dry Pump Error | |
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Dry-Etcher_Ulvac ICP 식각 장치 - 2 |
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| 모델명 | NE-7800 | |
| 제조사 | ULVAC | |
| 용도 | . Metal Dry Etching . Special Material Etching : SiC, Polyimide 등 | |
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Metal Lift-Off - |
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| 모델명 | ||
| 제조사 | ||
| 용도 | Metal Pattern | |
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NEMS White Wet station - Acid NEMS 제작을 위한 Base System |
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| 모델명 | - | |
| 제조사 | ATIS, Midas System, Jeio Tech, 성원포밍 | |
| 용도 | 산 습식 공정 | |
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NEMS White Wet station - Organic NEMS 제작을 위한 Base System |
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| 모델명 | - | |
| 제조사 | ATIS, Midas System, Jeio Tech, 성원포밍 | |
| 용도 | 유기/산 습식 세정 | |
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NEMS Yellow Wet station - Organic NEMS 제작을 위한 Base System |
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| 모델명 | - | |
| 제조사 | ATIS, Midas System, Jeio Tech, 성원포밍 | |
| 용도 | NEMS Cleaning, wet etching | |
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PR Asher_BEOL 메탈 공정용 감광막 제거 장치 |
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| 모델명 | DAS2000 | |
| 제조사 | PSK | |
| 용도 | BEOL 공정의 잔류 PR 제거, DESCUM | |
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PR Asher_FEOL - 1 감광제 제거 시스템-I |
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| 모델명 | DAS2000 | |
| 제조사 | PSK | |
| 용도 | FEOL 공정의 잔류 PR 제거, DESCUM | |
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PR Asher_FEOL - 2 감광제 제거 시스템-Ⅱ |
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| 모델명 | DAS2000 | |
| 제조사 | PSK | |
| 용도 | FEOL 공정의 잔류 PR 제거, DESCUM | |
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PR Asher_NEMS 감광제 제거 시스템 |
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| 모델명 | YES-CV200RFS | |
| 제조사 | Yield Engineering System | |
| 용도 | NEMS공정의 잔류 PR 제거 및 Descum | |
| 사용불가 장비 | 까지 | |
| 사용불가 사유 | Pump Down | |
