나노융합기술원

Equipment 공정기술 포토공정

APLT SPEED-200iD APLT SPEED-200iD

모델명
제조사
용도	Size: 6 inch, 8inch Materials: Si, SiC PR Thickness: 0.8~3.0uｍ Resolution : 0.8um ~

신 청

E-Beam Lithography System - 2 전자빔리소그래픽시스템-2

모델명	ELS-7800
제조사	Elionix
용도	10nm급 고속 직접노광

신 청

I-Line Stepper - 1 노광기-1

모델명	NSR 2005 i10C
제조사	NIKON
용도	미세 Pattern 형성용

신 청

I-Line Stepper - 2 노광기-2

모델명	NSR 2205 i10C
제조사	NIKON
용도	미세 Pattern 형성용

신 청

I-Line Stepper - 3 노광기-3

모델명	NSR 2205 i11D
제조사	NIKON
용도	미세 Pattern 형성용

신 청

Mask Aligner (ME) 마스크얼라이너

모델명	MA6
제조사	-
용도	UV노광, 6\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\" & 4\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\\" 조각 및 BSA 가능

신 청

Mask Aligner_MA6 마스크얼라이너

모델명	MA6
제조사	Suss Microtec
용도	UV노광, 4"& 6" 조각 및 BSA 가능

신 청

Mask Aligner_MA8 마스크 정렬 노광 장비

모델명	MA8
제조사	Suss Microtec
용도	8 inch wafer 정렬 노광, Top side ,Back side Align 가능.

신 청

Maskless laser lithography system 마스크리스 레이저 리소그래피 시스템

모델명	MLA-150
제조사	Heidelberg Instruments
용도	2.5um 수준 패턴 사이즈 Direct Writing 8 inch, 6T 이하 Free Size 노광 (2,4,5,6,8 inch wafer, 조각샘플, mask etc.)

신 청

MEMS Spin Coater MEMS Spin Coater

모델명	SPIN-3000A
제조사	MIDAS System
용도	PR, PMMA 등 도포

신 청

MEMS Yellow Wet station MEMS Yellow Wet station

모델명	-
제조사	ATIS, Midas System, Jeio Tech, 성원포밍
용도	NEMS Cleaning, wet etching (산 취급)

신 청

PR Spin Coater_Sawatec 감광막 도포 시스템

모델명	LSM 250
제조사	Sawatec
용도	PR 도포 및 Bake 수동진행

신 청

PR Track_DAVID 자외선 트렉 시스템

모델명	Track
제조사	CND PLUS
용도	미세공정 PR도포 및 현상용

신 청

PR Track_SVS - 1 자동 반송 도포, 현상기

모델명	MSX1000
제조사	SVS
용도	미세공정 PR도포 및 현상용

신 청

PR Track_SVS - 2 자동 반송 코팅기

모델명	MSX2000
제조사	SVS
용도	미세공정 PR 도포용

신 청

PR Track_SVS - 3 자동반송 현상기

모델명	MSX2000
제조사	SVS
용도	미세공정 현상용

신 청

PR Track_TEL - 1 트렉 시스템-I

모델명	MARK-7
제조사	TEL
용도	미세공정 PR도포 및 현상용

신 청

Wet Station_Ebeam Wet Station_Ebeam

모델명	HWC-MCP
제조사	HIT
용도	현상 및 세정(수동)

신 청