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Technology 나노기술동향
주식회사 참그래핀이 5나노 이하 공정 반도체 EUV 장비용 그래핀 펠리클 개발에 박차를 가한다고 밝혔다.
이와 관련 참그래핀은 지난 7일 킨텍스에서 열린 나노코리아 2021에 그래핀 펠리클 시제품을 출품해 이목을 집중시킨 바 있다.
펠리클은 포토마스크 오염을 방지하는 덮개역할을 하는 부품으로 EUV 장비의 핵심 부품이다.
참그래핀이 이번 행사에 출품한 그래핀 펠리클은 고품질 CVD 그래핀을 이용하여 제작한 제품으로써 지금까지 구현된 적이 없었던 25나노 이하 두께의 그래핀으로 펠리클 사이즈를 구현하였다는 점에 주목을 받았다.
출처 : https://www.sedaily.com/NewsView/22P0GT2FR8
