기업현장과 밀접한 나노융합산업 분야의 프로그램을 개발하여 수요자 중심의
교육을 실행하고 기업체(대/중소기업), 연구소, 대학, 공공기관 재직 근로자의 직무
능력 및 기업체의 생산성 향상과 경쟁력 강화 달성을 위하여 포항공과대학교
나노융합기술원에 기 구축된 나노인프라(첨단 장비 및 시설, 기술, 인력)를
활용하여 반도체/디스플레이/특성평가 분야 산업체재교육을 추진
- 교육분야 : 반도체 풀공정 교육
- 주관기관 : 포항공과대학교 나노융합기술원 C홀 및 슈퍼 클린룸
- 교육기간 : 2013.11.5(화) ~ 11.8(금)
- 교육대상 : 기업체(대/중소기업), 연구소, 대학, 공공기관 재직자 대상
- 교육인원 : 10명 (선착순 접수)
- 접수방법 : 참가 신청서 제출 (이메일 회신)
- 교육개요
본 교육 과정에서는 반도체 소자 및 MEMS 제작 공정을 위한 Photo, Etch, Thinfilm, Diffusion Process에 대한 이론 지식과 기술을 습득하고자 한다.
이론 교육에서는 지난 수십 년간 실리콘 반도체 공정에서 Scaling 다운을 가능하게 했던 Lithography 공정의 기초인 노광 기술의 3요소, Mask, Photoresist 등의 내용을 리뷰하고 차세대 Lithography이자 연구단계에서 활용 가능한 Electron Beam Lithography에 대해서도 살펴본다.
Etching 공정에서는 크게 Wet Etching과 Dry Etching으로 나누어 기초적인 내용을 살펴본다. 특히, 실습 교육에서는 교육 대상자가 직접 나노융합기술원의 장비를 이용하여 실습해봄으로써 향후 관련된 연구에 적용할 수 있는 기술 및 지식을 습득하게 된다.
Thinfilm 공정에서는 PVD와 CVD 공정에 대한 이론 및 실습에 대한 기술을 익히고, Diffusion 공정에서는 Implant, RTP, Oxidation등의 공정에 대한 이론과 기술을 습득하고자 한다.
주시기 바랍니다.
※ 맞춤형 교육 가능 (원하는 일시 및 인원을 알려주시면 교육 실시 가능)
※ 원하시는 교육을 첨부의 교육신청서에 기입 후 회신하여 주시기 바랍니다.
앞으로 해 주시기 바랍니다.
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