접수번호: 13-A0041567
장비이용 신청 내역서
◆ 신청자 기본정보
신청일
2013-02-12
기관명
신청자
전화번호
휴대전화
메일
◆ 신청내용
접수번호
13-A0041567
구분
공정기술팀 그룹
이용목적
연구과제
장비명
Atomic Layer Deposition (ALD)
이용희망 시작일
2013-02-12 [12]시
이용희망 종료일
2013-02-12 [12]시
◆ Wafer/시편정보
Wafer/시편재질
Wafer/시편두께 및 장수
두께 :
장수 : 장
Wafer/시편크기
인치
공정/분석 물질정보
◆ 요청사항
유리기판위에 코팅한 Nb2O5 필름을 Al2O3로 1nm 두께 이내로 코팅
2026년 07월 27일
