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가동중
기자재관리번호 B0000055-072002-A0022
장비명(영문) Laser Lithography System
장비명(국문) 레이저리소그래피시스템
제조사 Heidelberg
모 델 DWL200
사 양 Minimum Feature Size : 1㎛(4mm lens) , 2㎛(10mm lens)
용 도 9인치, 6T 이하 Free Size 노광 ( 2,4,5,6,7,8,9 inch wafer, mask, etc. )
키워드 Litho, Lithography, 리소, 리소그라피, 패턴, 레이져
 

장비상세설명

장비사용료

장비사용료 용도 이용료부과기준 이용수가(원) 비고
직접사용 서비스
7inch 1㎛ 급 직접노광 회/매 0 700,000 재료비 및 공정비 별도
Mask Design Fee 1시간 0 50,000 Mask Design 작업
5inch 2㎛ 급 직접노광 회/매 0 300,000 재료비 및 공정비 별도
7inch 2㎛ 급 직접노광 회/매 0 500,000 재료비 및 공정비 별도
6inch 2㎛ 급 직접노광 회/매 0 400,000 재료비 및 공정비 별도
5inch 1㎛ 급 직접노광 회/매 0 500,000 재료비 및 공정비 별도
6inch 1㎛ 급 직접노광 회/매 0 600,000 재료비 및 공정비 별도
  • 포항공과대학교 및 현금 출자기관 사용자는 장비사용료에서 20% 할인 된 금액으로 청구 됩니다.
  • 이용자협의회 사용자는 장비사용료에서 10% 할인 된 금액으로 청구 됩니다.
  • 장비사용료 청구익월초 일괄 정산합니다. 단, 요청시 당월 발행도 가능합니다.

 

장비담당자

장비담당자 전화번호 이메일주소
황정희 054-279-0226 poshboy@postech.ac.kr
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