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B0000055-062005-A0021 | ||||
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E-Beam Lithography System - I | |||||
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전자빔리소그래피시스템 | |||||
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Elionix | |||||
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ELS-7000 | |||||
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4㎚ @100㎸ | |||||
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4nm급 직접노광 | ||||
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Litho, Lithography, 리소, 리소그라피, 패턴 | |||||
장비상세설명
장비사용료
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| 4nm급 직접노광 | 0 | 500,000 | 1시간 단위 | ||
- 포항공과대학교 및 현금 출자기관 사용자는 장비사용료에서 20% 할인 된 금액으로 청구 됩니다.
- 이용자협의회 사용자는 장비사용료에서 10% 할인 된 금액으로 청구 됩니다.
- 장비사용료 청구 는 익월초 일괄 정산합니다. 단, 요청시 당월 발행도 가능합니다.
장비담당자
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| 노병훈 | 054-279-0227 | open13@postech.ac.kr |
