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번호
장비명(영문)
장비명(국문)
상태
1
E-Beam Lithography System - I
전자빔리소그래피시스템
2
E-Beam Lithography System - II
전자빔리소그래픽시스템
3
Laser Lithography System
레이저리소그래피시스템
4
I-Line Stepper
노광기
5
PR Track
트렉 시스템
6
EUV-IL System
극자외선 간섭 리소그라피 장치
7
EUV-IL PR Track
극자외선 트렉 시스템
8
PR Spin Coater
감광막 도포 시스템
9
Rinse and Dryer
웨이퍼세정장치
10
Developer
감광제 현상 시스템
11
Pt coater
Pt 박막 코팅
12
Wet Station_Organic
습식현상
13
Atomic Layer Deposition(ALD)
원자층증착장치
14
UHV-CVD
초고진공화학기상증착기
15
Sputter - I
물리증착장치(스퍼터)
16
Sputter - II
물리증착장치(스퍼터)
17
AP-CVD
대기압 화학증착장치
18
LP-CVD
저압 화학증착장치
19
Furnace
산화막 증착
20
PE-CVD - I
플라즈마증착장치
21
Sputter - III
물리증착장치(스퍼터)
22
PE-CVD - II
플라즈마증착장치
23
Dry Etcher_ICP
ICP 식각장치
24
Dry Etcher_20nm급
플라즈마 유도결합 식각장치
25
Dry Etcher_Oxide
산화막 식각장치
26
Dry Etcher_Poly Si
다결정규소막 식각장치
27
PR Asher_BEOL
감광제 제거 시스템
28
PR Asher_FEOL
감광제 제거 시스템
29
Dry Etcher_Metal
금속막 식각장치
30
Wet Station_Acid
세정 및 에칭장치
31
Spin Dryer
스핀건조기
32
Wet Station_Pre Clean - I
Wafer 전처리 장치
33
Wet Station_SPM
SPM 세정
34
Wet Station 전처리 - II
Wafer 전처리 장치
35
Furnace_Low T Ann.
저온 열처리로
36
Furnace_N+ Dopant Ann.
N+ 불순물 열처리로
37
Furnace_Pyro Oxidation
습식열산화막 반응로
38
Furnace_Poly Si
다결정규소박막증착로
39
Furnace_High T Anneal
고온열처리로
40
Furnace_Dry Oxidation
건식열산화막 반응로
41
RTP for RTO
급속열산화막용 급속열처리기
42
RTP for Silicide
실리사이드용 급속열처리기
43
High Current Implanter
고전류 이온주입장치
44
Medium Current Implanter
중전류 이온주입장치
45
CD-SEM
임계치수 측정 주사현미경
46
Spectroscopic Ellipsometer
박막두께측정기
47
4 Point Probe-1
4단 면저항 측정기
48
3D Profiler
3차원 프로파일러
49
Stress Measurement System
스트레스측정시스템
50
4 Point Probe-2
4단 면저항 측정기
51
HR FE-SEM(Clean Room)
전계방출전자현미경
52
Thickness Measurement
박막두께측정기
53
EUV Aerial Image Microscope(AIMS)
극자외선 마스크 결함분석장치
54
EUV Reflectometry
극자외선반사광측정장치
55
Cryogenic RF Measurement System
초저온RF측정시스템
56
Flicker Noise Measurement System
노이즈분석측정시스템
57
FT-IR
적외선 분광 농도측정기
58
Nanocrystal-Synthesis System
나노입자제조 시스템
59
Mask Aligner for NEMS
마스크얼라이너
60
NEMS Base System
NEMS 제작을 위한 Base System
61
PR Asher for NEMS
감광제 제거 시스템
62
E-Beam Evaporator
이온빔증착기
63
PZT Coater
PZT 코팅기
64
Deep Reactive Ion Etcher(DRIE)
이온실리콘식각장치
65
PZT Etcher
PZT 식각장치
66
Mask Aligner
마스크 정렬 노광 장비
67
Semiconductor technical support service(1)
반도체 기술지원 서비스(1)
68
Semiconductor technical support service(2)
반도체 기술지원 서비스(2)
69
Semiconductor technical support service(3)
반도체 기술지원 서비스(3)
번호
장비명(영문)
장비명(국문)
상태
1
Spin Coater with Glove Box
스핀코터
2
Display Photo Base System
디스플레이포토베이스시스템
3
Ink Jet Printing System
잉크젯프린팅시스템
4
OMBD_ Metal Evaporation System
유기&금속 증착 시스템
5
OLED Evaporation System
OLED 증착장비(200x200 glass)
6
Sputter (OLED)
스퍼터 (OLED)
7
PECVD System
플라즈마 화학 기상 증착기
8
OLED Probe Station with Glove Box
OLED 프로브스테이션_글로브 박스
9
Surface Potential Measurement System
표면장력측정시스템
번호
장비명(영문)
장비명(국문)
상태
1
CNT Synthesis System
탄소나노튜브 합성장치
2
High Resolution FE-SEM
고분해능 전계방출 주사전자현미경
3
Focused Ion Beam System (GUMI Center)
집속이온빔 (구미분소)
4
Focused Ion Beam/EBSD
집속이온빔/전자후방산란 회절
5
HR (S)TEM - I (2100F with Cs Corrected STEM)
구면수차보정 투과전자현미경
6
HR-[S]TEM-2200FS(with Image Cs-corrector)
구면수차보정 투과전자현미경
7
3 Dimensional Atom Probe
3차원원자현미경
8
SPM System (AFM/STM Base)
원자탐침현미경
9
Multi-mode STM_AFM
다기능 주사형탐침현미경
10
Secondary Ion Mass Spectrometry(SIMS)
2차이온질량분석기
11
Magnetic Property Measurement System(MPMS)
자기적특성분석시스템
12
Sample Preparation System
TEM, AP 샘플준비
13
Cutting/Grinding/Polishing System
절단/연마시스템
14
Gentle Mill
젠틀 밀
15
Ion Beam Thinner
이온빔연마기