첨부 1		교육 일정

□ (장비 교육) 공정 및 측정분석 장비

구분	공정 파트명	교육 일정
1	Dry	10.13~10.17 중 2~3일
2	Meas	10.27~10.31 중 1~4일
3	Photo	11.24~11.28 중 2~3일
4	TF	10.27~10.31 중 1~4일
5	Wet	12.01~12.05 중 1~2일
구분	물리분석 장비명	교육 일정
1	High Resolution FE-SEM-Ⅰ (JSM 7401F)	11~12월 중 총 7시간 ·1일차 : 이론 교육 + 실습 1차 (2시간) ·2일차 : 실습 2차 (1시간) ·3일차 : 실습 3차 (3시간) ·4일차 : TEST (1시간)
2	Focused Ion Beam-Ⅰ (Helios 600 with TKD)	12월 8일(월)~12월 9일(화) 총 16시간
3	Focused Ion Beam-Ⅱ (Helios 650 with EBSD)	11~12월 중 총 16시간 ·1일차 : 샘플 제작 교육 및 실습 (5시간) ·2일차 : 샘플 제작 교육 및 실습 (5시간) ·3일차 : 실습 (3시간) ·4일차 : 실습 및 TEST (3시간)
4	Focused Ion Beam-Ⅲ (Helios G3 CX)	11~12월 중 총 12시간
5	HR-[S]TEM-Ⅰ (2100F with Probe Cs-Corrector)	11~12월 중 총 20시간 ·1일차 : TEM 교육 및 실습 (3시간) ·2일차 : TEM 실습 (3시간) ·3일차 : TEM 실습 (2시간) ·4일차 : 특수모드-STEM/EDS (5시간) ·5일차 : 특수모드-STEM/EDS/SAED (5시간) ·6일차 : 최종 TEST (2시간)
6	Atomic Force Microscope-Ⅱ (Jupiter XR)	11~12월 중 6시간 ·1일차 : 이론 교육 및 실습 (3시간) ·2일차 : 실습 (1시간) ·3일차 : 실습 (1시간) ·4일차 : TEST (1시간)
7	High Resolution Powder-XRD	11~12월 중 4시간

◦ 장비 교육 참여 인원 : 공정 1명, 물리분석 3명

□ (클린룸 안전교육) 10.01~10.13 중, 집체 교육

첨부 2		교육 장비

□ 공정지원 장비목록 (40대)

구분	공정 파트 / 교육생 정원	장비명	교육 횟수 (회)
1	Dry / 5명	Dry Etcher_Ulvac	3
2		Dry Etcher_TEL	3
3		Dry Etcher_Oxide	3
4		Dry Etcher_Poly Si	3
5		PR Asher_FEOL-1	2
6		PR Asher_FEOL-2	2
7		PR Asher_BEOL	2
8		Deep Reactive Ion Etcher(DRIE)-1	3
9	Meas / 5명	CD-SEM	4
10		Spectroscopic Ellipsometer	1
11		4 Point Probe-1	1
12		3D Profiler	1
13		Stress Measurement System	1
14		Optical Microscopes-Photo	1
15		Optical Microscopes-Etch	1
16		Optical Microscopes-ThinFilm	1
17		Optical Microscopes-Diffusion	1
18		Optical Microscopes-EBL	1
19		HR FE-SEM(in Clean Room)	4
20		Thickness Measurement_KMAC	1
21		Probe Station_Power Semiconductor	1
22		Curve Tracer with Probe Station(in Clean Room)	1
23	Photo / 5명	Maskless Laser Lithography System	2
24		Mask Aligner_MA6	3
25		Mask Aligner_MA8	3
26		Mask Aligner_ME	3
27		MEMS Spin Coater	1
28		E-Beam Lithography System-2_Elionix	3
29		MEMS Yellow Wet Station	1
30		Wet Station_Ebeam	1
32	TF / 5명	PE-CVD-1	2
33		E-Beam Evaporator-1	2
34	Wet / 5명	Wet Station_Acid-1	2
35		Wet Station_Acid-2	2
36		Spin Dryer	1
37		Wet Station_Pre Clean	2
38		Metal Lift-Off	2
40		NEMS White Wet station-Acid	2
38		NEMS White Wet station-Organic	2
40		NEMS Yellow Wet station-Organic	2
합계	25명

□ 물리분석 장비목록 (7대)

구분	장비명	교육생 정원(명)
1	High Resolution FE-SEM-Ⅰ (JSM 7401F)	3
2	Focused Ion Beam-Ⅰ (Helios 600 with TKD)	3
3	Focused Ion Beam-Ⅱ (Helios 650 with EBSD)
4	Focused Ion Beam-Ⅲ (Helios G3 CX)
5	HR-[S]TEM-Ⅰ (2100F with Probe Cs-Corrector)	3
6	Atomic Force Microscope-Ⅱ (Jupiter XR)	3
7	High Resolution Powder-XRD	3
합계		15명