NINT 나노융합기술원

Wet Station_Acid - 1 장비일지

기자재관리번호 : -

No	장비이용내역			이용내역		사용자	장비이용료
No	시작일	종료일	세부내용	기관명	부서(학과명)	성명	확정금액
1	2010-12-27 10시	11시	웨이퍼 세정	삼성종합기술원	반도체 랩	하종봉	75,000원
2	2011-10-10 13시	14시	0-4-2 Buffer Ox Strip_DHF	삼성전기	AMD랩	한승훈	100,000원
3	2012-01-02 14시	15시	9-3-2 PAD Acetone Wet Strip	삼성종합기술원	반도체 랩	하종봉	112,500원
4	2012-01-03 14시	15시	4-3-2 Gate Acetone Wet Strip	삼성종합기술원	반도체 랩	하종봉	112,500원
5	2012-01-04 09시	10시	- Si-SEG 진행 전 세정 작업 (Process 측정 분석 결과 공유조건으로 50% 할인)	나노종합기술원	CMOS소자팀	전호승	150,000원
6	2012-01-04 17시	18시	3-3 Gate Acetone Wet Strip	삼성종합기술원	반도체 랩	하종봉	112,500원
7	2012-01-09 13시	14시	5-3-2 S/D Cont Acetone Wet Strip	삼성종합기술원	반도체 랩	하종봉	112,500원
8	2012-01-10 17시	18시	8-3 FP Cont Acetone Wet Strip	삼성종합기술원	반도체 랩	하종봉	112,500원
9	2012-01-12 15시	16시	6-3 SD Acetone Wet Strip	삼성종합기술원	반도체 랩	하종봉	112,500원
10	2012-01-16 15시	16시	6-3 SD Cont Acetone Wet Strip	삼성종합기술원	반도체 랩	하종봉	112,500원
11	2012-01-17 11시	12시	9-3 PAD Acetone Wet Strip	삼성종합기술원	반도체 랩	하종봉	112,500원
12	2012-01-17 17시	18시	7-3 FP Cont Acetone Wet Strip	삼성종합기술원	반도체 랩	하종봉	112,500원
13	2012-01-19 14시	16시	6-3 SD Metal PR Strip	삼성종합기술원	반도체 랩	하종봉	112,500원
14	2012-01-27 09시	10시	6-3-2 PR Strip	삼성종합기술원	반도체 랩	하종봉	112,500원
15	2012-02-07 17시	18시	3-3-2 PR Strip ★과청구로 인한 할인율 적용	삼성종합기술원	반도체 랩	하종봉	0원
16	2012-02-15 11시	12시	Pre Clean 진행 ★과청구로 인한 할인율 적용	삼성종합기술원	반도체 랩	하종봉	0원
17	2012-02-17 17시	18시	6-3 SD Acetone Wet Strip ★과청구로 인한 할인율 적용	삼성종합기술원	반도체 랩	하종봉	0원
18	2012-02-22 10시	11시	7-3 FP Cont Acetone Wet Strip ★과청구로 인한 할인율 적용	삼성종합기술원	반도체 랩	하종봉	0원
19	2012-02-24 16시	17시	8-3 FP Acetone Wet Strip ★과청구로 인한 할인율 적용	삼성종합기술원	반도체 랩	하종봉	0원
20	2012-02-28 08시	12시	UHV-CVD 진행전 전처리 진행	나노종합기술원	CMOS소자팀	전호승	250,000원
21	2012-02-28 16시	17시	9-3 PAD Acetone Wet Strip ★과청구로 인한 할인율 적용	삼성종합기술원	반도체 랩	하종봉	0원
22	2012-03-13 16시	17시	4-3-1 Al Wet Etch	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	150,000원
23	2012-03-13 17시	18시	4-3-2 Acetone PR Strip	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	150,000원
24	2012-03-14 17시	18시	4-3 Al Wet Etch (재작업)	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	150,000원
25	2012-03-20 15시	16시	Native Oxide Remove	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	150,000원
26	2012-03-21 13시	14시	Al Wet Etch	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	150,000원
27	2012-04-05 10시	11시	3-3-3 DOP Bath_DHF	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	150,000원
28	2012-04-13 10시	11시	Metal(Al) Wet Etch	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	150,000원
29	2012-04-13 11시	12시	Metal(Ti) Wet Etch	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	150,000원
30	2012-05-04 15시	16시	1-4 NW PR Remove	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	150,000원
31	2012-05-14 15시	16시	HfO Etch 후 PR 제거	서강대학교	전자공학과	이기봉	150,000원
32	2012-05-21 13시	14시	K04 Native oxide제거 DHF 100:1	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	150,000원
33	2012-05-23 15시	15시	4-3-3 Bath_multietchant	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	150,000원
34	2012-06-11 10시	12시	Metal Wet Etch 공정 평가	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
35	2012-06-11 12시	14시	Metal Wet Etch 공정 평가 - Multi Etchant Manual 사용	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	100,000원
36	2012-06-18 15시	16시	APM Clean(6매)	LG이노텍	차세대소자개발	서덕원	100,000원
37	2012-06-18 16시	17시	SPM Clean(6매)	LG이노텍	차세대소자개발	서덕원	210,000원
38	2012-06-19 15시	16시	1-3-1 ISO PR Remove SPM	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
39	2012-06-19 16시	17시	Ohmic COntact 평가 1-4-1. Bath DHF	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	100,000원
40	2012-06-19 21시	24시	Metal - Bath_Multi Etchant Setup	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
41	2012-06-20 15시	18시	2-2-2 MET1 Bath_Multi Etchant	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
42	2012-06-20 16시	17시	APM Clean	LG이노텍	차세대소자개발	서덕원	0원
43	2012-06-20 17시	18시	SPM Clean	LG이노텍	차세대소자개발	서덕원	0원
44	2012-06-20 19시	21시	2-3-1 MET1 Acetone PR Strip	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
45	2012-06-22 15시	16시	1-3-1 MESA PR Remove	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
46	2012-06-25 16시	18시	Ohmic Contact MET1 Depo. BOE 6:1 20sec	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
47	2012-06-25 20시	21시	1-3-1 ISO PR Remove	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	0원
48	2012-06-27 14시	15시	1-4-1 MET1 Depo DHF Clean	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	0원
49	2012-06-28 16시	17시	2-2-2 MET1 Metal Wet Etch	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	0원
50	2012-06-28 17시	18시	2-3-1 MET1 PR Remove	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	0원
51	2012-07-02 09시	10시	DHF OPEN BOE(6:1) 20sec L02 Lot 2매	LG이노텍	차세대소자개발	서덕원	150,000원
52	2012-07-03 11시	12시	3-2-1 MET1 Depo BOE 6:1 , 20s	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
53	2012-07-03 13시	15시	2-2-2 MET1 Metal Wet Etch	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	0원
54	2012-07-04 11시	12시	2-3 MET1 PR Remove	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	0원
55	2012-07-04 16시	17시	Fab In APM Clean	LG이노텍	차세대소자개발	서덕원	100,000원
56	2012-07-04 17시	19시	Fab-In SPM Clean	LG이노텍	차세대소자개발	서덕원	150,000원
57	2012-07-05 17시	18시	1-3-1 ISO SPM PR Strip	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
58	2012-07-09 09시	10시	1-2-1 Cr Wet Etch	포항공과대학교	포항가속기연구소	임재홍	120,000원
59	2012-07-09 17시	18시	1-3-3 Front Si Etch PR Remove	포항공과대학교	포항가속기연구소	임재홍	120,000원
60	2012-07-09 17시	18시	1-4-1 Cr Wet Etch	포항공과대학교	포항가속기연구소	임재홍	120,000원
61	2012-07-16 10시	11시	0-2-1 Fab-in (SPM)	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	150,000원
62	2012-07-23 10시	11시	2-3-1 2nd Etch PR Remove SPM 5Min	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	150,000원
63	2012-07-24 10시	11시	1-3-1 PR Remove_SPM (H02)	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	150,000원
64	2012-07-30 15시	17시	APM Clean 2매(L05M)	LG이노텍	차세대소자개발	서덕원	100,000원
65	2012-08-01 13시	15시	1-3-1 MESA PR Remove	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
66	2012-08-02 10시	11시	4-3-1 TE etch_Al 5000A	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	180,000원
67	2012-08-02 11시	12시	4-3-2 TE etch_Cr 300A	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	180,000원
68	2012-08-03 14시	17시	SPM Clean(K05) 3회 진행(Total : 25매)	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	0원
69	2012-08-06 10시	11시	2-3-1 Gate PR Remove	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
70	2012-08-08 13시	16시	5-2 Au, Cr, BOE Wet Etch	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	450,000원
71	2012-08-08 20시	21시	3-3-1 PAD PR Remove	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
72	2012-08-13 10시	11시	DHF 100:1(60sec) + QDR(2cycle)	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
73	2012-08-16 10시	12시	2-2 MET1 Metal Wet Etch (wf01-220sec , wf02-200sec , wf03 170sec)	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
74	2012-08-16 15시	16시	2-3 MET1 PR Remove	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
75	2012-08-17 14시	16시	특성화고 교육(SPM/DHF/QDR)	파워마스터반도체 주식회사	공정기술팀	기종	150,000원
76	2012-08-20 09시	13시	L06M Pre_Clean	LG이노텍	차세대소자개발	서덕원	240,000원
77	2012-08-20 14시	15시	1-3-2 NW PR Remove (SPM)	(주)아이엠헬스케어		이인제	0원
78	2012-08-20 15시	17시	특성화고 교육(SPM/DHF/QDR)	파워마스터반도체 주식회사	공정기술팀	기종	150,000원
79	2012-08-21 10시	11시	1-3 NW PR Remove (DHF)	(주)아이엠헬스케어		이인제	0원
80	2012-08-22 10시	11시	2-3-1 MET1 Wet Etch (Al Etchant)	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
81	2012-08-22 11시	12시	2-3-2 MET1 PR Remove (Acetone)	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
82	2012-08-22 14시	15시	2-3-2 SE PR Remove (SPM)	(주)아이엠헬스케어		이인제	0원
83	2012-08-24 14시	16시	Deep Etch Test(Oxide 제거 - BOE 6:1 / 5min / 2매)	LG이노텍	차세대소자개발	서덕원	150,000원
84	2012-08-28 14시	16시	특성화고 교육(SPM/DHF/QDR)	파워마스터반도체 주식회사	공정기술팀	기종	150,000원
85	2012-08-29 14시	16시	특성화고 교육(SPM/DHF/QDR)	파워마스터반도체 주식회사	공정기술팀	기종	150,000원
86	2012-08-30 09시	10시	MET1 Depo. DHF Clean	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
87	2012-08-30 10시	11시	3-3-2 DOP PR Remove	(주)아이엠헬스케어		이인제	0원
88	2012-08-30 14시	16시	특성화고 교육(SPM/DHF/QDR)	파워마스터반도체 주식회사	공정기술팀	기종	150,000원
89	2012-08-30 16시	17시	2-2-1 MET1 Metal Wet Etch	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
90	2012-08-31 09시	10시	2-3-1 MET1 Acetone	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
91	2012-09-03 10시	11시	4-2-1 MET Sputter DHF Wet Etch	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	0원
92	2012-09-04 16시	17시	5-2-1 METR Al etchant	(주)아이엠헬스케어		이인제	0원
93	2012-09-04 16시	17시	5-2-2 METR Ti etch	(주)아이엠헬스케어		이인제	0원
94	2012-09-04 16시	17시	5-2-1 METR Al etchant	(주)아이엠헬스케어		이인제	0원
95	2012-09-05 17시	18시	5-2-2 METR Ti etch	(주)아이엠헬스케어		이인제	0원
96	2012-09-07 10시	11시	1-4-1 MET1 Depo. Clean	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
97	2012-09-12 10시	11시	2-2 MET1 Etch	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
98	2012-09-12 12시	13시	0-2-1 Fab-In Clean SPM	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	150,000원
99	2012-09-12 13시	14시	2-3-1 MET1 PR Remove	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
100	2012-09-14 13시	14시	L11M APM Clean(8매)	LG이노텍	차세대소자개발	서덕원	150,000원
101	2012-09-14 15시	16시	L11M SPM Clean(8매)	LG이노텍	차세대소자개발	서덕원	150,000원
102	2012-09-14 16시	17시	L08M : Contact Recess Etch - PR Remove	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
103	2012-09-20 10시	11시	1-3-1 ISO PR Remove	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
104	2012-09-24 16시	17시	L12M APM Clean	LG이노텍	차세대소자개발	서덕원	150,000원
105	2012-09-24 17시	18시	L12M SPM Clean(8매/1회)	LG이노텍	차세대소자개발	서덕원	150,000원
106	2012-10-04 15시	16시	1-4-1 MET1 Depo. DHF Clean	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
107	2012-10-05 16시	18시	L14M APM Clean	LG이노텍	차세대소자개발	서덕원	150,000원
108	2012-10-05 19시	20시	L14M SPM Clean	LG이노텍	차세대소자개발	서덕원	150,000원
109	2012-10-09 14시	15시	2-2-1 MET1 Metal Wet Etch	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	100,000원
110	2012-10-09 16시	17시	2-3-1 MET1 Acetone PR Strip	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	100,000원
111	2012-10-15 10시	11시	SPM Cleaning (Si 6inch_10ea)	포항공과대학교	신소재공학과	이준호	120,000원
112	2012-10-16 11시	12시	1-4-21st PR Remove (SPM)	LG 이노텍	TS 생산기술	오정훈	150,000원
113	2012-10-16 11시	12시	1-3-2 AKEY PR Remove	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	100,000원
114	2012-10-18 14시	15시	2-3-2 ISO PR Remove	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
115	2012-10-19 14시	15시	LD01 APM Clean	LG이노텍	차세대소자개발	서덕원	240,000원
116	2012-10-19 15시	16시	LD01 DHF Clean	LG이노텍	차세대소자개발	서덕원	150,000원
117	2012-10-23 13시	14시	2-3-2 ISO SPM PR Strip	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	100,000원
118	2012-10-30 11시	12시	3-3-2 M1OP SPM PR Strip	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	100,000원
119	2012-10-30 16시	17시	3-4-1 MET1 Depo. DHF Cleaning (DHF+QDR+Spin dryer)	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
120	2012-10-31 11시	12시	3-3-2 RCSS SPM PR Strip	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	100,000원
121	2012-11-02 10시	11시	4-3-2 MET1 Solvent PR Strip	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	100,000원
122	2012-11-05 16시	17시	L15M Recess Contact 2차 APM Clean 1회	LG이노텍	차세대소자개발	서덕원	100,000원
123	2012-11-05 17시	18시	L15M Recess Contact 2차 SPM Clean 1회	LG이노텍	차세대소자개발	서덕원	150,000원
124	2012-11-06 16시	17시	LT01 Electric Characteristics(GOx) APM Cleaning 4매(1회)	LG이노텍	차세대소자개발	서덕원	0원
125	2012-11-06 17시	18시	LT01 Electric Characteristics(GOx) DHF Cleaning 4매(1회)	LG이노텍	차세대소자개발	서덕원	0원
126	2012-11-07 10시	11시	LT02 Electric Characteristics(ILD) APM Clean 4매(1회)	LG이노텍	차세대소자개발	서덕원	0원
127	2012-11-07 11시	12시	LT02 Electric Characteristics(ILD) DHF Clean 4매(1회)	LG이노텍	차세대소자개발	서덕원	0원
128	2012-11-12 17시	18시	1-4-2 Oxide Remove	LG 이노텍	TS 생산기술	오정훈	100,000원
129	2012-11-13 17시	18시	3-3-2 SPM PR Strip	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	100,000원
130	2012-11-14 09시	10시	Recess Contact 2차 3-4-1 MET1 Depo DHF Clean	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	100,000원
131	2012-11-14 11시	12시	0-2-1 Gate Oxidation Pre Clean	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	100,000원
132	2012-11-14 13시	14시	1-3-2 SPM PR Strip	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
133	2012-11-15 13시	14시	ILD First Full Run_1차 5-4-1 MET1 Depo DHF clean	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	100,000원
134	2012-11-19 15시	16시	2-3-1 ISO SPM PR Strip	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
135	2012-11-23 13시	14시	2-3-2 Metal Wet Etch	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	0원
136	2012-11-27 14시	15시	1-3-2 NW Nano PR Strip	(주)아이엠헬스케어		이인제	150,000원
137	2012-11-27 14시	15시	1-3-3 NW Polymer Strip	(주)아이엠헬스케어		이인제	150,000원
138	2012-11-28 10시	11시	8-2-2 MET2 Metal Wet Etch	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	100,000원
139	2012-11-28 11시	12시	0-2-1 Gate Oxidation Pre Cleaning (APM + DHF)	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	150,000원
140	2012-11-29 09시	10시	0-2-1 Gate Oxidation Pre Cleaning	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	100,000원
141	2012-12-03 16시	17시	3-3-2 M1OP SPM PR Strip	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
142	2012-12-05 16시	17시	2-3-2 SE PR Strip	(주)아이엠헬스케어		이인제	150,000원
143	2012-12-06 17시	18시	P-well Etch : PR Remove	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	100,000원
144	2012-12-10 13시	14시	SiC_SPM+DHF	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	900,000원
145	2012-12-10 17시	18시	1-3-1 SiC Contact PR Remove	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	100,000원
146	2012-12-11 10시	11시	SiC 과제 관련 진행 Ni Silicide 평가 Test - SiC DHF Pre Clean 진행	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	100,000원
147	2012-12-12 15시	16시	1-3-2 Contact PR Remove	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	100,000원
148	2012-12-12 17시	18시	1-3-2 NW Bath_SPM	(주)아이엠헬스케어		이인제	150,000원
149	2012-12-12 17시	18시	1-3-3 NW Bath_DHF	(주)아이엠헬스케어		이인제	150,000원
150	2012-12-13 10시	11시	3-4-1DOP Anneal DHF Clean 60초	(주)아이엠헬스케어		이인제	100,000원
151	2012-12-14 13시	14시	4-2-1 DHF Wet Etch	(주)아이엠헬스케어		이인제	300,000원
152	2012-12-17 09시	10시	SiC 단위 공정 평가( BV_1um PE-Ox ILD ) -Native Oxide 제거 : DHF(100:1) 60sec Dipping 1회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	100,000원
153	2012-12-17 11시	12시	2-3-2 SE Bath_SPM	(주)아이엠헬스케어		이인제	150,000원
154	2012-12-17 12시	14시	L16 ILD First Full Run_2차 APM Clean 5매	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	100,000원
155	2012-12-17 13시	14시	SiC 과제 SiC Ni Silicide 2차 Test DHF Pre Clean	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	100,000원
156	2012-12-17 15시	16시	L16 ILD First Full Run_2차 SPM Clean 5매	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
157	2012-12-20 11시	12시	1-2 PR Strip	한국표준과학연구원		진종한	150,000원
158	2012-12-20 17시	18시	1-3-2 AKEY SPM PR Strip	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
159	2012-12-21 14시	15시	5-2-1 METR Al Etch	(주)아이엠헬스케어		이인제	150,000원
160	2012-12-21 15시	16시	5-2-2 METR Ti Etch	(주)아이엠헬스케어		이인제	150,000원
161	2012-12-26 14시	15시	3-4-1 DOP Anneal DHF Clean	(주)아이엠헬스케어		이인제	100,000원
162	2012-12-28 13시	14시	4-2-1 MET Sputter DHF Clean	(주)아이엠헬스케어		이인제	200,000원
163	2013-01-02 09시	10시	0-2 Fab-in Clean_SPM+DHF	한국표준과학연구원		진종한	300,000원
164	2013-01-02 14시	15시	3-3-2 RCSS SPM PR Strip	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	100,000원
165	2013-01-02 15시	18시	SiC 단위공정 PE-Ox Etch Rate 평가 DHF Bath, BOE Bath 각 1회(3매 씩 진행)	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	300,000원
166	2013-01-03 09시	11시	L16 ILD First Full Run_2차 GOX ALD Pre Cleaning (APM, 70도, 10분 + HF:DI = 1:100, 1분) 각 1회	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	300,000원
167	2013-01-03 13시	14시	5-2-1 METR Al Etch	(주)아이엠헬스케어		이인제	150,000원
168	2013-01-03 14시	15시	5-2-2 METR Ti Etch	(주)아이엠헬스케어		이인제	150,000원
169	2013-01-07 09시	10시	cleaning_PR Strip	한국표준과학연구원	진공기술센터	윤주영	300,000원
170	2013-01-08 14시	16시	L17M Recess Contact 평가 3차 APM Clean 1회	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
171	2013-01-08 19시	21시	1-3-2 NW Nano PR Strip	(주)아이엠헬스케어		이인제	150,000원
172	2013-01-08 20시	21시	1-3-3 NW Bath_DHF	(주)아이엠헬스케어		이인제	150,000원
173	2013-01-09 10시	11시	1-3-2 SPM cleaning	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	150,000원
174	2013-01-09 11시	12시	1-4-1 Ox. Wet Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	150,000원
175	2013-01-11 11시	12시	2-3-2 SE Nano PR Strip	(주)아이엠헬스케어		이인제	150,000원
176	2013-01-11 11시	12시	1-3-2 AKEY SPM PR Strip	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
177	2013-01-14 09시	10시	5-4-1. M1OP DHF Cleaning 60초 진행	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
178	2013-01-14 16시	17시	2-3-2 ISO SPM PR Strip	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
179	2013-01-15 16시	17시	Poly Gate Etch PR Remove	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	150,000원
180	2013-01-15 17시	18시	Poly Gate Etch Polymer Remove	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	150,000원
181	2013-01-17 13시	14시	3-4-1 M1 Depo DHF Clean 3장씩 2회 진행(총 5장)	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	300,000원
182	2013-01-21 10시	11시	7-3-2 polymer Remove	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	120,000원
183	2013-01-22 09시	10시	SiC 과제 관련SiC Ni Silicide 평가 - SiC DHF Clean 진행	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	150,000원
184	2013-01-22 17시	18시	8-2-1 MET2 Metal Wet Etch	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	120,000원
185	2013-01-23 09시	10시	3-4-1. DOP Anneal DHF Clean	(주)아이엠헬스케어		이인제	150,000원
186	2013-01-24 13시	14시	4-2-1. MET sputter DHF Wet Etch 100:1 130초 진행	(주)아이엠헬스케어		이인제	300,000원
187	2013-01-24 22시	24시	Manual Wet Station 직접사용(Cleaning)	포항공과대학교	기계공학	곽호재	480,000원
188	2013-01-28 13시	14시	L18 0-1-3 ILD First Full Run_3차 APM Clean 1회	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
189	2013-01-28 14시	15시	L18 0-1-4 ILD First Full Run_3차 SPM Clean 1회	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
190	2013-01-29 14시	15시	L19M Recess Contact 4차_0-1-3 APM Clean 1회	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
191	2013-01-29 14시	15시	L19M Recess Contact 4차_0-1-4 SPM Clean 1회	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
192	2013-02-01 12시	13시	1-3-2 AKEY SPM PR Strip	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
193	2013-02-04 14시	15시	2-3-2 ISO SPM PR Strip	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
194	2013-02-04 15시	16시	0-1-4 APM Cleaning	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	100,000원
195	2013-02-04 16시	17시	0-1-5 SPM Cleaning	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
196	2013-02-05 09시	10시	0-2-1. Gate Oxidation Pre Clean 진행	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	150,000원
197	2013-02-05 14시	15시	1-3-2 PR Strip_SPM	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
198	2013-02-06 11시	12시	1-3-2 AKEY SPM PR Strip	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
199	2013-02-06 17시	18시	2-3-2 PR Strip_SPM	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
200	2013-02-08 10시	11시	3-3-2 RCSS SPM PR Strip	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
201	2013-02-08 11시	12시	3-4-1 GOX_Pre cleaning	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
202	2013-02-08 14시	15시	3-3-2 RCSS PR strip_SPM	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
203	2013-02-12 15시	16시	L18 ILD First Full Run_3차 3-4-1 Pre Cleaning (APM, 70도, 10분 + HF:DI = 1:100, 1분)	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	200,000원
204	2013-02-12 16시	17시	LE05 MET1 Etch Test 0-1-3 APM Clean 70도, 10분 (1회)	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	100,000원
205	2013-02-13 16시	17시	LT03 1st IMD Thermal Damage Test / 0-2-1 GOX ALD Pre Cleaning APM, 70도, 10분 (1회)	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	100,000원
206	2013-02-13 17시	18시	LE06 GATE Recess Etch Test_AFM 0-1-2 APM Clean 70도, 10분(1회)	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	100,000원
207	2013-02-14 14시	15시	2-3-2 ISO SPM PR Strip	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
208	2013-02-18 14시	15시	5-4-1 MET1 Depo_DHF	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	100,000원
209	2013-02-18 15시	17시	Contact Etch profile Test	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	150,000원
210	2013-02-25 16시	18시	3-4-1 M1OP MET1 Depo. SC2 Cleaning 3회진행	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	450,000원
211	2013-02-27 14시	16시	LE06 GATE Recess Etch Test_AFM (1-4-1) APM+DHF Cleaning	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	200,000원
212	2013-03-06 14시	15시	L20 ILD First Full Run_4차 (0-1-4) APM Clean 1회	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	100,000원
213	2013-03-06 15시	16시	L20 ILD First Full Run_4차 (0-1-4) SPM Clean 1회	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
214	2013-03-06 4시	5시	5-4-1 M1OP DHF Cleaning	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
215	2013-03-07 18시	20시	LE06 GATE Recess Etch Test_AFM (1-5-1) Nitride Wet Etch_Nitride 목표식각량: 1500A, Temp:_150_C, Time:_60_분(2매)	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
216	2013-03-10 10시	12시	DHF 100:1 + QDR + Spin Dryer	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	0원
217	2013-03-11 12시	13시	1-3-2 AKEY SPM PR Strip	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
218	2013-03-11 15시	16시	2-3-2 ISO SPM PR Strip	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
219	2013-03-13 11시	12시	L21 ILD First Full Run_5차 (0-1-4) SPM Clean 1회	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
220	2013-03-13 11시	12시	L22 ILD First Full Run_6차 (0-1-4) SPM Clean 1회	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
221	2013-03-13 16시	17시	3-3-2 RCSS SPM PR Strip	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
222	2013-03-14 10시	11시	L20 ILD First Full Run_4차 (3-4-1) Pre Cleaning DHF 100:1, 20sec 1회	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	100,000원
223	2013-03-18 14시	15시	1-3-2 AKEY SPM PR Strip	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
224	2013-03-19 9시	10시	1-3-2 AKEY SPM PR Strip	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
225	2013-03-20 13시	15시	SPM 2회 사용	전북대학교	전자공학부	김기현	192,000원
226	2013-03-20 13시	15시	SPM 2회진행	전북대학교	전자공학부	김기현	153,600원
227	2013-03-20 15시	17시	DHF 2회 사용	전북대학교	전자공학부	김기현	102,400원
228	2013-03-20 15시	17시	DHF 3회 사용	전북대학교	전자공학부	김기현	192,000원
229	2013-03-21 14시	15시	wafer washing(SPM)	포스텍	기계공학과	박형준	96,000원
230	2013-03-22 15시	16시	LE08 GATE Recess Etch Test_TEM (1-4-1) GOX ALD DHF Cleaning HF:DI = 1:100, 20초 1회	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	100,000원
231	2013-03-25 10시	11시	2-3-2 ISO SPM PR Strip	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
232	2013-03-25 9시	10시	2-3-1 ISO SPM PR Strip	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
233	2013-03-28 11시	13시	SiO2 증착된 SiC 3\" wf cleaning	포항공과대학교	전자과	백상원	96,000원
234	2013-03-29 14시	15시	4-4-1 M1OP MET1 Depo. DHF Cleaning 3회진행 DHF 2회,HCL 1회	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	450,000원
235	2013-04-08 9시	10시	0-2-1 Initial Cleaning_SPM	한국표준과학연구원		진종한	150,000원
236	2013-04-09 15시	16시	1-2-4 PR Strip	한국표준과학연구원		진종한	150,000원
237	2013-04-10 11시	12시	1-3-3 PR Strip	한국표준과학연구원		진종한	300,000원
238	2013-04-10 16시	17시	1-3-2 AKEY SPM PR Strip	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
239	2013-04-12 10시	11시	2-3-2 ISO SPM PR Strip	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
240	2013-04-12 10시	11시	3-3-2 RCSS SPM PR Strip	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
241	2013-04-12 12시	15시	5-4-1 MET1 Depo. HCl Cleaning WF1.3.4 WF5.6.7 2회진행	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	300,000원
242	2013-04-12 13시	14시	L22 N-OFF Full Run_1차 (3-4-1) GOX ALD Pre-Clean BOE = 10:1, 60sec (*WF01, 02) 6매	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	100,000원
243	2013-04-16 14시	15시	Recess New Chemical Etch Setup	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
244	2013-04-19 10시	11시	4-3-3 GATE Bath_DHF	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	100,000원
245	2013-04-19 12시	14시	3-4-1 M1OP HCl Cleaning(2회사용)	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	300,000원
246	2013-04-23 11시	12시	Pre-Clean(DHF 100:1 60sec) 1회	삼성종합기술원	TFTU	박용영	100,000원
247	2013-04-24 14시	16시	SPM 2회	전북대학교	전자공학부	김기현	240,000원
248	2013-04-24 16시	18시	DHF 3회	전북대학교	전자공학부	김기현	240,000원
249	2013-04-24 16시	17시	L24M Starting wafer 제작 (0-1-4~5) APM(70도,10분) + SPM(황산:과수=4:1,120도, 10분) Clean 각 1회	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	300,000원
250	2013-04-29 10시	11시	DHF Clean(과제번호:4.0008635.02)	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	160,000원
251	2013-04-29 16시	17시	1-3-2 AKEY SPM PR Strip	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
252	2013-04-30 16시	17시	2-3-1 ISO SPM PR Strip	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
253	2013-05-06 17시	10시	L25 ILD First Full Run_5차 (3-4-1) GOX ALD Pre Cleaning BOE 6:1, 60sec 4매	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	0원
254	2013-05-07 10시	11시	5-3-3 M1OP Polymer Removal [DHF]	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	100,000원
255	2013-05-07 13시	17시	5-4-1 DHF Cleaning HCl:DI 1:2 1Min 3장 2회 진행	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
256	2013-05-07 13시	14시	3-3-2 RCSS SPM PR Strip (260sec)	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
257	2013-05-08 10시	12시	DHF Clean(과제번호:4.0008635.02)	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	160,000원
258	2013-05-08 10시	11시	4-3-3 M1OP Polymer Removal	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	100,000원
259	2013-05-08 12시	13시	4-4-1 DHF Cleaning HCl:DI 1:2 1Min 3장 2회 진행	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
260	2013-05-13 12시	13시	4-3-3 Gate Polymer Removal [DHF]	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	100,000원
261	2013-05-13 15시	16시	LT05 ILD PE-Ox의 DHF Damage 평가 (2-1-1) DHF 60sec. Temp 25±1℃(항온조 ON) 1회	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	100,000원
262	2013-05-14 16시	17시	LT07 PE-Ox Reproducibility (2-1-1), (4-1-1) DHF 60sec. Temp 25±1℃(항온조 ON) 300/350C 각 1회 총 2회	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	200,000원
263	2013-05-16 14시	16시	5-4-1 M1OP MET1 Depo. HCl Cleaning	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
264	2013-05-20 10시	11시	5-3-3 M1OP Polymer Removal	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	100,000원
265	2013-05-20 11시	15시	Sample Pre-Clean (4.0008635.02 과제)	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	300,000원
266	2013-05-20 9시	10시	4-3-3 GATE Polymer Removal	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	100,000원
267	2013-05-21 12시	14시	DHF 3회	전북대학교	전자공학부	김기현	192,000원
268	2013-05-21 9시	12시	SPM 2회	전북대학교	전자공학부	김기현	192,000원
269	2013-05-22 10시	12시	MEMS센서 파운드리 기술 지원을 위한 기술정보 분석기술 확보 지원(4.0009012.01)	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	250,000원
270	2013-05-22 14시	17시	MEMS센서 파운드리 기술 지원을 위한 기술정보 분석기술 확보 지원(4.0009012.01)	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	250,000원
271	2013-05-23 14시	16시	L01S Starting wafer 제작 (0-1-4) APM, 70도, 10분 WF01~20, 1회	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
272	2013-05-23 16시	18시	L01S Starting wafer 제작 (0-1-5) SPM Clean 황산:과수=4:1, 120도, 10분 WF01~20, 1회	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
273	2013-05-29 12시	13시	1-3-2 AKEY SPM PR Strip	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
274	2013-05-31 16시	17시	2-3-2 ISO SPM PR Strip	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
275	2013-06-05 15시	16시	4-3-3 GATE Polymer Removal	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	100,000원
276	2013-06-07 14시	15시	3-3-1 RCSS Polymer Removal	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	100,000원
277	2013-06-10 10시	11시	L26 ILD First Full Run_6차 (3-4-1) GOX ALD Pre Cleaning B.O.E 10:1, 20sec 5매 1회	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
278	2013-06-11 11시	12시	5-3-3 M1OP Polymer Removal	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	100,000원
279	2013-06-11 11시	12시	4-3-3 M1OP Polymer Removal	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	100,000원
280	2013-06-11 14시	15시	5-4-1 MET1 Depo. HCl Cleaning	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
281	2013-06-11 20시	21시	4-4-1 M1OP HCl Cleaning	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
282	2013-06-13 16시	17시	Quartz Cleaning 2매	포항공과대학교	전자과	백상원	84,000원
283	2013-06-19 11시	12시	5-3-3 M1OP Polymer Removal	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	100,000원
284	2013-06-20 10시	13시	5-4-1 M1OP MET1 Depo. HCl Cleaning	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
285	2013-06-20 10시	12시	DHF 3회	전북대학교	전자공학부	김기현	168,000원
286	2013-06-20 14시	16시	SPM 2회	전북대학교	전자공학부	김기현	168,000원
287	2013-06-28 14시	16시	BOE 1회 아세톤 Manual 2회	STX solar	연구개발팀	박도혁	405,000원
288	2013-07-01 10시	11시	LT06 Al2O3 BV Measurement (1-1-1) Pre-Clean BOE(6:1), 60sec. 1회	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	300,000원
289	2013-07-02 10시	11시	G06_R G Ref Ver 6. (Stepper) (0-2-1) Fab-In Clean 총 7매 1회	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	330,000원
290	2013-07-02 11시	12시	G06_R G Ref Ver 6. (Stepper) (0-2-2) Fab-In Clean 총 7매 1회	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	80,000원
291	2013-07-03 9시	10시	SPM cleaning	이코니	이코니	김준우	135,000원
292	2013-07-04 9시	12시	L28 ILD First Full Run_7차 (3-4-1) Pre Cleaning Bath_acid 총 5매1회	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
293	2013-07-05 12시	15시	3-4-1 M1OP HCl Cleaning	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
294	2013-07-08 15시	16시	3-3-3 M1OP Polymer Removal	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	100,000원
295	2013-07-09 14시	15시	4-3-3 GATE Polymer Removal	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	100,000원
296	2013-07-10 19시	21시	5-4-1 M1OP MET1. Depo. HCl Cleaning	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
297	2013-07-22 10시	12시	SPM 2회	전북대학교	전자공학부	김기현	168,000원
298	2013-07-22 16시	18시	DHF 3회	전북대학교	전자공학부	김기현	168,000원
299	2013-07-24 18시	19시	quartz tray 세정	포항공과대학교	전자과	백상원	105,000원
300	2013-07-29 13시	15시	L02S Starting wafer 제작 (0-1-5) SPM Clean 1회	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
301	2013-08-12 10시	14시	전처리(3회):450,000원	(주)지오화인켐	기술연구소	권다정	660,000원
302	2013-08-13 11시	13시	Precleaning SPM	포항공과대학교	기계공학과	신혜성	120,000원
303	2013-08-14 12시	15시	SPM Claening	서강대학교	기계공학과	김주현	150,000원
304	2013-08-20 10시	12시	DHF 3회	전북대학교	전자공학부	김기현	168,000원
305	2013-08-20 13시	16시	SPM 2회	전북대학교	전자공학부	김기현	168,000원
306	2013-08-23 11시	11시	Pre-Cleaning(BOE) 이코니 실험	이코니	이코니	김준우	1,350,000원
307	2013-08-27 9시	10시	L30 ILD First Full Run_8차 GOX ALD Pre Cleaning BOE 10:1 총 7매 1회	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
308	2013-08-28 10시	11시	1-3-2 1st SPM Remove	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	120,000원
309	2013-08-28 12시	14시	5-2-1 Dicing, SC-1 + DHF Cleaning	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	270,000원
310	2013-08-28 13시	14시	2-3-2 2nd SPM Remove	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	120,000원
311	2013-08-28 15시	16시	3-3-2 3rd SPM Remove	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	120,000원
312	2013-08-28 16시	17시	4-3-2 4th SPM Remove	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	120,000원
313	2013-09-03 13시	17시	0-3-2 Thinning Oxidation PreCleaning(APM+DHF) 0-4-1 Thinning Ox Strip(BOE)	(주)아이엠헬스케어		이인제	450,000원
314	2013-09-03 14시	18시	5-4-1 M1OP MET1 Depo. HCl Cleaning	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
315	2013-09-10 14시	15시	1-3-2 NW Bath_SPM	(주)아이엠헬스케어		이인제	150,000원
316	2013-09-10 14시	15시	1-3-3 NW Polymer Strip	(주)아이엠헬스케어		이인제	100,000원
317	2013-09-13 13시	15시	Native Oxide Remove	경북대학교	전자공학과	이용수	100,000원
318	2013-09-23 12시	13시	PreCleaning	서강대학교	기계공학과	김주현	150,000원
319	2013-09-23 14시	17시	SPM 2회(Sept.)	전북대학교	전자공학부	김기현	168,000원
320	2013-09-23 17시	18시	PreCleaning(SPM+DHF)	(주)지오화인켐	기술연구소	권다정	490,000원
321	2013-09-23 9시	12시	DHF 3회(Sept.)	전북대학교	전자공학부	김기현	168,000원
322	2013-09-26 16시	17시	2-3-2 SE SPM PR Strip	(주)아이엠헬스케어		이인제	150,000원
323	2013-10-01 18시	19시	박막 증착을 위한 웨이퍼 세정 스퍼터를 이용하여 박막을 증착하기 전에 웨이퍼 세정을 위하여 wet station을 이용하고자 합니다. 웨이퍼는 8인치로 세장이며 SPM 클리닝만을 이용할 계획입니다.	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
324	2013-10-02 11시	12시	PreCleaning(SPM + DHF)	서강대학교	기계공학과	김주현	150,000원
325	2013-10-02 14시	15시	BioFET 제작에 있어 As 도핑은 전송선로의 저항을 줄이는 중요 기술입니다. 도핑을 위하여 실리콘 영역 위에 SiN을 증착시켜 As 이온이 빠져나가는 것을 막고, IIP hardmask 형성의 식각저지층으로 사용합니다. 본 실험은 IIP이후 기 증착된 SiN층 제거를 위한 식각공정으로 Elipsometer를 이용하여 두께를 모니터링하여 정확한 식각을 수행하고자 합니다.	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	175,000원
326	2013-10-07 08시	09시	<1차 나노스케일 High-K 산화막 최적화 실험(7월 장비사용료 청구)> 1. 실험 기간 : 7/10~7/31 2. 실험 및 장비 사용 내역 - Temperature Window Test: BOE Pre-Clean 6회 - Thickness Control(Conformality) Test: BOE Pre-Clean 4회 - Growth rates(TMA exposure time) Test: BOE Pre-Clean 4회 - Growth rates(Reactant exposure time) Test: BOE Pre-Clean 4회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	2,160,000원
327	2013-10-07 15시	16시	Nanowire형성을 위하여 EBL패턴이후 식각공정을 수행하였고 이후 remover와 asher를 이용하여 PR을 제거하였습니다. 이후 SPM 클리닝을 이용하여 마지막 세정작업을 수행하고자 합니다.	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
328	2013-10-08 15시	16시	PR Remove (Ashing + SPM)	TE connectivity	R&D	박봉현	400,000원
329	2013-10-11 11시	12시	3-4-1 DOP Anneal DHF Clean	(주)아이엠헬스케어		이인제	100,000원
330	2013-10-13 10시	12시	PreCleaning DHF	포항공과대학교	전자과	백상원	70,000원
331	2013-10-14 10시	11시	Cleaning_DHF	LG이노텍	선행개발팀	조희진	100,000원
332	2013-10-14 9시	10시	Cleaning_SPM	LG이노텍	선행개발팀	조희진	150,000원
333	2013-10-15 13시	14시	Oxide Wet Etch	LG이노텍	선행개발팀	조희진	300,000원
334	2013-10-15 15시	16시	PR Remove, Cleaning	LG이노텍	선행개발팀	조희진	150,000원
335	2013-10-15 16시	17시	SPM 1회	포항공과대학교	전자전기공학과	고명동	84,000원
336	2013-10-15 17시	18시	DHF 1회	포항공과대학교	전자전기공학과	고명동	56,000원
337	2013-10-16 10시	13시	4-2-1 MET Sputter DHF Wet Etch 3매 2회진행	(주)아이엠헬스케어		이인제	200,000원
338	2013-10-17 17시	18시	Native Oxide Remove	경북대학교		권유미	100,000원
339	2013-10-18 10시	12시	SPM 2회	전북대학교	전자공학부	김기현	168,000원
340	2013-10-18 11시	13시	DHF 3회	전북대학교	전자공학부	김기현	168,000원
341	2013-10-21 08시	09시	<1차 나노스케일 High-K 산화막 최적화 실험(9월 장비사용료 청구)> 1. 실험 기간 : 9/1~9/27 2. 실험 및 장비 사용 내역 - Recipe 변경 Test: BOE Pre-Clean 4회 - BV Measurement Test: BOE Pre-Clean 3회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	840,000원
342	2013-10-21 10시	11시	L31 ILD First Full Run_9차 APM Clean Bath_APM 1회 8매	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
343	2013-10-21 11시	12시	L31 ILD First Full Run_9차 SPM Clean Bath_SPM 1회 8매	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
344	2013-10-21 13시	15시	BOE Pre-Clean 4회	이코니	이코니	김준우	1,689,500원
345	2013-10-28 17시	18시	1-3-2 AKEY SPM PR Strip	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
346	2013-10-29 9시	10시	2-2-2 ISO SPM PR Strip	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
347	2013-10-30 9시	10시	L31 ILD First Full Run_9차 GOX ALD Pre Cleaning BOE 10:1 총6매 1회	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
348	2013-10-31 13시	14시	H06 Heat Spread 06 Fab-In Clean SPM 총10매 1회	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	120,000원
349	2013-11-04 10시	11시	Wafer Cleaning(DHF)	LG이노텍	선행개발팀	이계진	400,000원
350	2013-11-04 15시	16시	Micro pump SPM	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	120,000원
351	2013-11-04 9시	10시	Wafer Cleaning(SPM)	LG이노텍	선행개발팀	이계진	600,000원
352	2013-11-05 13시	14시	Manual Bath System을 이용한 ITO Etchant Process 2회 진행	코닝정밀소재	개발2팀	박경욱	240,000원
353	2013-11-06 10시	11시	공정 진행 전 SPM클리닝을 수행하고자 합니다.	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
354	2013-11-07 17시	18시	4-3-3 GATE Polymer Removal (DHF)	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	100,000원
355	2013-11-11 16시	17시	1-3-3 NW Bath_DHF	(주)아이엠헬스케어		이인제	100,000원
356	2013-11-11 16시	17시	1-3-2 NW Bath_SPM	(주)아이엠헬스케어		이인제	150,000원
357	2013-11-12 10시	12시	Manual Bath ITO Etchant 공정 2회	코닝정밀소재	개발2팀	박경욱	240,000원
358	2013-11-12 13시	15시	5-4-1 MET1 Depo. HCl Cleaning	LG이노텍	차세대소자개발	서덕원	150,000원
359	2013-11-12 15시	16시	BioFET 웨이퍼의 Ion Implant를 위한 oxide hard mask 제작을 위하여 dHF/SPM 사용 신청 드립니다.	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
360	2013-11-12 16시	17시	2-3-2 SE Bath_SPM	(주)아이엠헬스케어		이인제	150,000원
361	2013-11-18 10시	11시	L32 ILD First Full Run_10차 Fab-in APM Clean 총 7매 1회	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
362	2013-11-18 10시	11시	L32 ILD First Full Run_10차 Fab-in SPM Clean 총7매 1회	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
363	2013-11-18 15시	16시	Pre-Cleaning(SPM)	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	120,000원
364	2013-11-18 9시	10시	Micropost_Cleaning(SPM+DHF)	포항공과대학교	기계공학과	권대희	200,000원
365	2013-11-19 11시	12시	3-4-1 DOP Anneal DHF Clean	(주)아이엠헬스케어		이인제	100,000원
366	2013-11-19 16시	17시	2-3-1 2nd SPM PR Remove	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	120,000원
367	2013-11-19 17시	18시	2-3-1 2nd DHF PR Remove	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	80,000원
368	2013-11-20 11시	13시	DHF 3회(직접사용)	전북대학교	전자공학부	김기현	168,000원
369	2013-11-20 15시	16시	IIP hard mask로 사용된 SiN층의 식각을 위해 인산을 이용하여 20nm 식각을 수행하고자 함.	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	175,000원
370	2013-11-20 16시	17시	1-3-2 AKEY SPM PR Strip	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
371	2013-11-20 9시	11시	SPM 2회	전북대학교	전자공학부	김기현	168,000원
372	2013-11-21 14시	16시	4-2-1 MET Sputter DHF Wet Etch(3매*2회)	(주)아이엠헬스케어		이인제	200,000원
373	2013-11-21 16시	17시	Pre-Clean 1회	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	56,000원
374	2013-11-21 17시	18시	2-3-2 ISO SPM PR Strip	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
375	2013-11-22 13시	14시	3-3-1 3rd SPM PR Strip	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	120,000원
376	2013-11-25 9시	18시	G07 TMAH Etching 2회	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	480,000원
377	2013-11-27 16시	20시	L32 ILD First Full Run_10차 GOX ALD Pre Cleaning 총 5매 1회	LG이노텍	차세대소자개발팀	서덕원	150,000원
378	2013-11-28 14시	15시	EBL패턴을 위한 웨이퍼 클리닝 수행	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
379	2013-12-04 11시	12시	식각 공정 이후 BioFET wafer (E1)의 클리닝을 위하여 SPM bath를 사용하고자 합니다.	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
380	2013-12-04 13시	14시	DHF(100:1) Clean 1회	포항공과대학교	화학공학과	박진주	120,000원
381	2013-12-05 11시	16시	5-4-1 M1OP MET1 Depo. HCl Cleaning	LG이노텍	차세대소자개발	서덕원	150,000원
382	2013-12-05 16시	18시	DHF clean (100:1) 1회	성균관대학교	성균나노과학기술원	박훈영	260,000원
383	2013-12-06 10시	11시	0-4-1 Thining Oxidation Strip BOE 10:1	(주)아이엠헬스케어		이인제	150,000원
384	2013-12-10 10시	11시	1-3-2 NW Bath_SPM	(주)아이엠헬스케어		이인제	150,000원
385	2013-12-10 10시	11시	1-3-2 NW Bath_DHF	(주)아이엠헬스케어		이인제	100,000원
386	2013-12-11 10시	11시	2-3-2 SE Bath_SPM	(주)아이엠헬스케어		이인제	150,000원
387	2013-12-13 9시	10시	1-1-1 Gate Oxidation Pre-Cleaning	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	80,000원
388	2013-12-16 11시	12시	P well & N source activation 최적화 Run 관련 1-1-1 Pre clean 진행	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	120,000원
389	2013-12-17 10시	11시	SC22 High-K 최적화 (0-1-2) Pre-Cleaning APM(70도 10분) 1회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	120,000원
390	2013-12-17 11시	12시	SC22 High-K 최적화 (0-1-2) Pre-Cleaning DHF(100:1, 1분) 1회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	80,000원
391	2013-12-17 14시	15시	P well & N source activation 최적화 Run 관련 2-1-1 Pre Clean 진행	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	120,000원
392	2013-12-18 10시	11시	HF 및 BOE를 이용한 유리 식각성 테스트 1. BOE 간이 Bath를 이용 2. 조각 Sample 5매 3. 공정내용 - BOE(10:1) 1.5시간 : 2매 - BOE(10:1) 3시간 : 3매 - 공정 후 DI Rinse 실시	(주) 펨토펩	연구개발부	윤진성	150,000원
393	2013-12-18 13시	14시	SPM Cleaning	한국전기연구원	전력반도체연구단 차세대반도체연구센터	문정현	135,000원
394	2013-12-18 14시	15시	P well & N source activation 최적화 Run 관련 4-1-1 Pre clean	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	240,000원
395	2013-12-20 10시	12시	DHF 3회	전북대학교	전자공학부	김기현	168,000원
396	2013-12-20 13시	15시	SPM 2회	전북대학교	전자공학부	김기현	168,000원
397	2013-12-24 14시	16시	Manual Bath ITO Etchant 공정 3회(12/20,23,24)	코닝정밀소재	개발2팀	박경욱	450,000원
398	2013-12-30 14시	15시	IIP 확산 방지층을 위한 PECVD 공정 전 SPM 클리닝 10분 수행	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
399	2014-01-06 14시	15시	6인치 Silicon wafer pre-cleaning 수행	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
400	2014-01-07 10시	11시	SC-14 Poly Rs 최적화 Test 2차 (1-4-1) Post Cleaning DHF(100:1 / 60sec) 8매	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	640,000원
401	2014-01-07 10시	11시	RTA이후 dHF 1:100을 이용하여 buffer층으로 deposition되어 있는 PECVD oxide층 제거	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	56,000원
402	2014-01-07 16시	17시	식각 공정 후 감광제 제거	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
403	2014-01-07 17시	18시	SC-14 Poly Rs 최적화 Test 2차 (1-8-1) Cap Oxide Remove, DHF(100:1 / 10min) 8매	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	640,000원
404	2014-01-08 10시	11시	3-4-1 DOP Anneal DHF Clean	(주)아이엠헬스케어		이인제	100,000원
405	2014-01-08 11시	12시	Gate metal deposition 이전 Gox 제거 공정 수행	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	56,000원
406	2014-01-09 14시	15시	공정 전 세정을 위한 SPM 클리닝	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
407	2014-01-10 11시	13시	4-2-1 MET Sputter DHF Wet Etch	(주)아이엠헬스케어		이인제	100,000원
408	2014-01-10 11시	12시	Si_SEG Pre Clean APM(450)+DHF 1000:1(90) 2매	나노종합기술원	CMOS소자팀	전호승	180,000원
409	2014-01-14 10시	11시	5-3-3 GATE Polymer Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	80,000원
410	2014-01-14 13시	14시	Manual Bath ITO Etchant 공정 1회(1/10)	코닝정밀소재	개발2팀	박경욱	150,000원
411	2014-01-14 13시	14시	SC12 Contact Metal Module Test(구조Run) 5-4-1 ILD Depo Pre-Cleaning 총 10매	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	1,200,000원
412	2014-01-16 17시	20시	SC15 P-Doped Poly Rs 재현성 Test (1-6-1) DHF(100:1 / 10min) Cap Oxide Remove 8회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	640,000원
413	2014-01-17 10시	11시	dHF를 이용한 buffer oxide 제거	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	56,000원
414	2014-01-17 14시	15시	SOI 웨이퍼를 이용하여 바이오센서 제작시 웨이퍼 표면에 생성된 자연산화막을 제거하기 위하여 희석된 HF 용액을 이용하여 산화막을 제거함.	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	56,000원
415	2014-01-17 16시	17시	SOI 웨이퍼를 이용하여 바이오센서 제작시 Implant 공정에 사용된 nitride 마스크 층을 제거하기 위하여 인산을 이용한 식각을 진행함.	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	175,000원
416	2014-01-18 11시	13시	SC23 Gate Oxide 최적화 (0-1-2) Pre-Clean HF:DI = 1:100, 1분 3매	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	240,000원
417	2014-01-18 9시	11시	SC23 Gate Oxide 최적화 (0-1-2) Pre-Clean SPM, 120도, 10분 3매	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	360,000원
418	2014-01-20 13시	15시	SPM Cleaning 2회	전북대학교	전자공학부	김기현	210,000원
419	2014-01-20 14시	15시	Hall effect Measure Sample Test (2-1-1) Sac Ox Pre-cleaning APM 15min 6회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	720,000원
420	2014-01-20 14시	15시	SC13 Gate Module Test Run (0-2-1) Sac. Oxidation-1 Pre-Cleaning APM, 70도, 10분 1회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	120,000원
421	2014-01-20 14시	15시	2-4-2 CONT SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	120,000원
422	2014-01-20 16시	17시	2-5-1 CONT DHF Cleaning	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	80,000원
423	2014-01-20 9시	12시	DHF Cleaning 3회	전북대학교	전자공학부	김기현	210,000원
424	2014-01-20 9시	10시	2-2-1 CONT Ox Wet Etch	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	120,000원
425	2014-01-21 16시	17시	웨이퍼 패터닝 전 SPM/dHF 세정을 수행하고자 합니다.	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
426	2014-01-21 19시	20시	Hall effect Measure Sample Test (2-1-4) Sac Ox Etch DHF 2min 6회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	480,000원
427	2014-01-22 15시	16시	Active etch한 웨이퍼의 클리닝을 위한 SPM사용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
428	2014-01-22 16시	18시	SC13 Gate Module Test Run (0-4-1) Sac. Oxidation-2 Pre-Cleaning APM, 70도, 10분 1회 (0-6-1) Gate Oxidation Pre-Cleaning APM, 70도, 10분 1회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	240,000원
429	2014-01-22 18시	19시	SC13 Gate Module Test Run (0-3-1) Sac. Ox-1 Strip 2분 1회 (0-5-1) Sac. Ox-2 Strip 2분 1회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	240,000원
430	2014-01-22 19시	20시	SC13 Gate Module Test Run (0-6-1) Gate Oxidation Pre-cleaning 100:1 DHF, 1분 1회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	80,000원
431	2014-01-23 11시	12시	차후 공정 진행을 위한 웨이퍼 SPM 세정 수행	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
432	2014-01-24 11시	12시	이니셜 클리닝	포항공과대학교	전자전기공학과	이준영	168,000원
433	2014-01-24 16시	17시	공정 진행 후 남아있는 잔류물을 제거하기 위한 클리닝 공정	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
434	2014-01-27 12시	13시	1-3-2 GATE Polymer Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	80,000원
435	2014-01-27 12시	13시	1-3-2 GATE SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	120,000원
436	2014-01-27 15시	16시	SPM cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	이준영	168,000원
437	2014-02-03 11시	12시	SC24 Low Temp High-K (0-1-2) Pre-Cleaning APM, 70도, 10분 WF01~24 총 24매(8회)	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	960,000원
438	2014-02-03 12시	13시	SC24 Low Temp High-K (0-1-2) Pre-Cleaning HF:DI = 1:100, 1분 WF01~24 총 24매(8회)	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	640,000원
439	2014-02-03 17시	18시	1-3-2 Akey PR Strip_SPM	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	120,000원
440	2014-02-03 9시	10시	0-2-1 Pre Cleaning (APM)	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	203,000원
441	2014-02-04 10시	11시	1-4-2 Pre cleaning_APM	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	120,000원
442	2014-02-04 15시	12시	Manual Bath ITO Etchant 공정 2회(2/4~5)	코닝정밀소재	개발2팀	박경욱	300,000원
443	2014-02-04 9시	10시	1-4-1 PE Oxide Wet Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	80,000원
444	2014-02-05 12시	13시	2-3-2 PWEL PR Strip_SPM	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	120,000원
445	2014-02-06 15시	16시	2-6-1 PWEL_Pre Cleaning_APM	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	120,000원
446	2014-02-06 9시	10시	2-5-1 PWEL Oxide Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	80,000원
447	2014-02-10 10시	11시	3-3-2 P+ PR Strip_SPM	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	120,000원
448	2014-02-10 11시	12시	3-5-1 P+ Oxide Wet Strip_BOE	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	120,000원
449	2014-02-10 13시	14시	3-6-1 Pre Cleaning_APM	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	120,000원
450	2014-02-12 14시	15시	SPM 10min 세정 공정 진행	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
451	2014-02-12 15시	16시	4-5-1 N+ Oxide Strip_BOE	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	120,000원
452	2014-02-12 9시	10시	4-3-2 N+ PR Strip_SPM	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	120,000원
453	2014-02-13 9시	10시	4-6-1 Pre cleaning_APM	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	120,000원
454	2014-02-14 14시	15시	4-8-1 Pre cleaning_APM	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	120,000원
455	2014-02-14 9시	14시	Si_SEG Pre Clean / APM(480)+DHF 1000:1(90) 4회	나노종합기술원	CMOS소자팀	전호승	400,000원
456	2014-02-17 10시	11시	4-10-1 Pre Cleaning_APM	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	120,000원
457	2014-02-17 15시	16시	4-11-1 Oxide Wet Strip_BOE	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	120,000원
458	2014-02-17 17시	18시	4-12-1 Pre cleaning_APM+DHF	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	240,000원
459	2014-02-17 9시	10시	4-9-1 Oxide Wet Strip_BOE	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	120,000원
460	2014-02-24 10시	11시	SPM 클리닝 수행	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
461	2014-02-24 13시	15시	SPM Cleaning 2회	전북대학교	전자공학부	김기현	210,000원
462	2014-02-24 15시	17시	DHF Cleaning 3회	전북대학교	전자공학부	김기현	210,000원
463	2014-02-25 12시	13시	boat cleaning	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	108,000원
464	2014-02-26 11시	12시	SPM 클리닝 진행	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
465	2014-03-03 10시	11시	1-1-2 Pre Cleaning_DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
466	2014-03-03 17시	18시	2-6-1 SiN Strip_DHF+인산+DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	350,000원
467	2014-03-03 17시	18시	IIP 마스크로 사용한 SiO2 층을 제거	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	56,000원
468	2014-03-03 9시	10시	1-1-1 Pre Cleaning_SPM	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	225,000원
469	2014-03-04 13시	16시	IIP 마스크로 사용한 Si3N4 층을 제거	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	175,000원
470	2014-03-04 16시	17시	웨이퍼 상에 존재하는 유기물질 및 오염물질을 제거	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
471	2014-03-06 14시	14시	Manual Bath ITO Etchant 사용 2일	코닝정밀소재	개발2팀	박경욱	300,000원
472	2014-03-10 10시	11시	1-1-2 Pre Clean_DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
473	2014-03-10 9시	10시	1-1-1 Pre Clean_SPM	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	145,000원
474	2014-03-11 13시	14시	2-3-1 SiO2 Remove_DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
475	2014-03-17 14시	15시	wafer SPM 클리닝 수행	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
476	2014-03-18 15시	17시	건식식각 공정 진행 후 포토레지스터 제거를 위한 클리닝	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
477	2014-03-20 10시	12시	DHF 3회	전북대학교	전자공학부	김기현	210,000원
478	2014-03-20 15시	16시	식각 후 PR제거	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
479	2014-03-20 16시	18시	SPM 2회	전북대학교	전자공학부	김기현	210,000원
480	2014-03-21 14시	16시	바이오센서 나노와이어 형성을 위한 실리콘 에칭 공정 후 감광제를 제거하기 위한 클리닝	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	336,000원
481	2014-03-24 13시	14시	SC24 Low Temp High-K(재현성) (0-1-2) Pre Cleaning DHF(100:1) 1분 / WF01~12 (1회)	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
482	2014-03-24 9시	12시	SC24 Low Temp High-K(재현성) (0-1-2) Pre Cleaning APM, 70도, 10분 / WF01~12 (1회)	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
483	2014-03-27 11시	12시	APM 2회 (20매)	(주)휴템	연구개발팀	최윤성	300,000원
484	2014-03-28 13시	14시	annealing 및 oxidation 과정 전에 SPM 클리닝을 진행하기위해 wet station을 사용하고자 합니다.	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
485	2014-03-28 15시	16시	20nm oxide 제거를 위해 dHF 클리닝을 진행하고자 합니다.	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	56,000원
486	2014-03-31 16시	17시	금속 증착 전 산화막 제거를 위한 식각 공정	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	56,000원
487	2014-04-01 10시	11시	oxidation 전 클리닝을 위해 wet station을 사용하고자 합니다.	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
488	2014-04-01 16시	17시	바이오센서 제작 웨이퍼 기판의 오염물질 제거	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
489	2014-04-03 16시	17시	oxide를 제거하기 위해 dHF를 사용하고자 합니다.	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	56,000원
490	2014-04-03 9시	10시	dHF를 이용해서 oxide를 제거하기 위해 wet station acid를 이용하려고 합니다.	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	56,000원
491	2014-04-07 10시	11시	SiC Graphene Cap 전기적 특성 평가 Pre-Cleaning SPM 70도 10분 1회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
492	2014-04-07 11시	12시	SiC Graphene Cap 전기적 특성 평가 Pre-Cleaning DHF(100:1) 1분 1회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
493	2014-04-07 17시	18시	SPM클리닝	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
494	2014-04-08 10시	11시	SPM 클리닝 수행	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
495	2014-04-10 10시	11시	SPM, SC-I 각 1회 wafer 10매 씩 총 20매	(주)휴템	연구개발팀	최윤성	300,000원
496	2014-04-10 10시	12시	SOI Flatzone 가공_PR Strip	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	415,000원
497	2014-04-14 9시	10시	Pre cleaning(Dot)	SSADT	광학설계	이태종	150,000원
498	2014-04-15 10시	11시	BiO FET_1차 Test RUN (0-1-2) Pre-Clean SPM 10min 1회	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	585,000원
499	2014-04-15 10시	11시	Tunnel oxide defect test (0-1-2) Pre Clean SPM (H2SO4:H2O2=4:1)10min 1회 (0-3-1) Pre Clean SC1_APM 1회	포항공과대학교	화학공학과	박진주	280,000원
500	2014-04-15 11시	12시	BiO FET_1차 Test RUN (0-1-2) Pre-Clean DHF 1min 1회	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
501	2014-04-16 12시	13시	2-3-1 hard mask remove	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
502	2014-04-18 10시	11시	DHF 3회	전북대학교	전자공학부	김기현	210,000원
503	2014-04-18 11시	12시	Bio FET_1차 Test Run 1-4-2 Hard Mask Pre-Clean DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
504	2014-04-18 11시	12시	Bio FET_1차 Test Run 1-4-1 Hard Mask Pre-Clean SPM 총 1회	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
505	2014-04-18 9시	10시	SPM 2회	전북대학교	전자공학부	김기현	210,000원
506	2014-04-21 13시	14시	1-3-2 Active Nano PR Strip	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
507	2014-04-21 15시	15시	1-3-3 Active Polymer Strip	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
508	2014-04-22 15시	16시	2-3-2 Hard Mask Nano PR Strip	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
509	2014-04-25 11시	12시	Manual Bath ITO Etchant 1회	삼성코닝정밀소재	개발2팀	윤근상	150,000원
510	2014-04-28 10시	11시	SiC 2차 Test run (0-2-2) Initial Oxide Pre Cleaning DHF 총 1회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
511	2014-04-28 10시	11시	SiC 2차 Test run (0-2-1) Initial Oxide Pre Cleaning APM 총 1회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
512	2014-04-29 15시	16시	oxide 제거를 위한 dHF cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	56,000원
513	2014-04-30 11시	12시	SiO2 제거를 위한 dHF cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	56,000원
514	2014-04-30 15시	16시	3-3-2 NW Etch PR Remove Nano PR Strip	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
515	2014-04-30 16시	17시	3-3-3 NW Etch PR Remove Polymer strip	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
516	2014-05-02 10시	11시	SPM 클리닝	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
517	2014-05-07 10시	11시	1-3-1 AKEY PR Remove SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
518	2014-05-07 12시	13시	SiC 2차 Test run (1-4-1) PWEL Mask Formation PE-Ox Wet Strip DHF 총 4매 1회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
519	2014-05-07 12시	13시	SiC 2차 Test run (1-4-2) PWEL Mask Formation Pre-Cleaning APM 총 2매 1회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
520	2014-05-08 13시	14시	Bio FET_2차 (1-1-2) Test run Active formation Pre Clean DHF 총 5매 1회	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
521	2014-05-08 13시	14시	Bio FET_2차 (0-1-2) Test run Active formation Pre Clean SPM 총 5매 1회	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
522	2014-05-09 13시	14시	2-3-2 PWEL SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
523	2014-05-12 15시	17시	산화막을 성장하기 전 오염물질 제거를 위한 클리닝	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
524	2014-05-13 10시	11시	1-3-3 Active Polymer Strip	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
525	2014-05-13 10시	11시	1-3-2 Active Nano PR Strip	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
526	2014-05-13 13시	14시	1-4-2 Hard Mask Pre Clean DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
527	2014-05-13 13시	14시	1-4-1 Hard Mask Pre Clean SPM	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
528	2014-05-14 10시	11시	0-1-2 Pre-Cleaning HF:DI = 1:100, 1분 1회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
529	2014-05-14 9시	10시	0-1-2 Pre-Clean APM, 70도, 10분 1회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
530	2014-05-15 11시	12시	2-3-2 Hard Mask Nano PR Strip	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
531	2014-05-16 15시	16시	2-5-1 P+ Mask Remove Ox. Wet Strip BOE	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
532	2014-05-16 16시	16시	2-6-1 P+ Mask Remove Pre-Cleaning APM	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
533	2014-05-16 16시	16시	2-5-1 Hard Mask Remove DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
534	2014-05-19 11시	12시	DHF 3회	전북대학교	전자공학부	김기현	210,000원
535	2014-05-19 13시	14시	Pre-Clean APM, 70도, 10분 2회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	210,000원
536	2014-05-19 14시	15시	Pre-Clean DHF 100:1 1min 2회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	140,000원
537	2014-05-19 16시	17시	산화막을 성장하기전 실리콘 웨이퍼 표면의 오염물질 제거	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
538	2014-05-19 17시	18시	산화막을 성장하기전 실리콘 웨이퍼 표면의 자연산화막 제거	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	56,000원
539	2014-05-19 9시	11시	SPM2 2회	전북대학교	전자공학부	김기현	210,000원
540	2014-05-22 17시	11시	Manual Bath ITO Etchant	삼성코닝정밀소재	개발2팀	윤근상	300,000원
541	2014-05-22 9시	11시	3-4-1 SAC oxidation pre clean SPM+DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	175,000원
542	2014-05-23 10시	11시	3-6-1 SAC Wet Etch BOE 10:1 10s	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
543	2014-05-26 10시	11시	Cleaning_SPM	한국기계연구원 부설 재료연구소	전기화학연구실	정성희	135,000원
544	2014-05-26 11시	12시	Cleaning_DHF	한국기계연구원 부설 재료연구소	전기화학연구실	정성희	90,000원
545	2014-05-27 13시	14시	4-2-1 Gate Oxide etch	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
546	2014-05-27 17시	18시	3-3-2 P+ SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
547	2014-05-28 14시	16시	DHF Cleaning 4회	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	360,000원
548	2014-05-28 9시	12시	SPM Cleaning 4회	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	540,000원
549	2014-06-02 9시	10시	SC32 _ PP Hard Mask 형성 전처리	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
550	2014-06-09 10시	11시	0-1-2 Pre Cleaning APM, 70도, 10분	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
551	2014-06-09 11시	12시	0-1-2 Pre Cleaning HF:DI = 1:100, 1분	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
552	2014-06-10 10시	11시	5-3-2 GATE SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
553	2014-06-10 10시	11시	5-4-1 ILD Depo. Pre-Cleaning APM	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	185,000원
554	2014-06-10 11시	12시	Al2O3 Anneal Test	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
555	2014-06-10 11시	12시	5-3-3 GATE Polymer Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
556	2014-06-10 11시	12시	Al2O3 Anneal Test	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
557	2014-06-12 13시	14시	6-3-2 CONT SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
558	2014-06-12 16시	17시	3-1-3 Back oxide remove	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
559	2014-06-13 13시	14시	dry oxide 50A test pre cleaning spm+dhf	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	175,000원
560	2014-06-13 9시	10시	6-5-1 DHF Cleaning	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
561	2014-06-16 10시	11시	0-1-2 Pre Cleaning SPM, 120도, 3분				150,000원
562	2014-06-16 11시	12시	0-1-2 Pre Cleaning 100:1 DHF 1분				100,000원
563	2014-06-16 13시	14시	3-5-1 P+ Mask Remove Ox. Wet Strip BOE 10:1	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
564	2014-06-16 14시	15시	Ni Etching , 선행 본장 진행 (Ni Etchant 사용)	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	210,000원
565	2014-06-16 15시	16시	3-6-1 N+ Mask Depo. Pre-Cleaning APM	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
566	2014-06-18 11시	12시	2-1-1 Cleaning SPM 2-1-1 Cleaning DHF				250,000원
567	2014-06-18 13시	14시	SPM cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
568	2014-06-19 10시	11시	1-1-2 gate oxide pre clean spm 1-1-3 gate oxide pre clean dhf	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	175,000원
569	2014-06-19 13시	15시	Manual Bath ITO Etchant 1회	삼성코닝정밀소재	개발2팀	윤근상	150,000원
570	2014-06-19 16시	17시	4-3-2 N+ SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	210,000원
571	2014-06-20 9시	10시	9-2-1 MET1 Metal Wet Etch	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	210,000원
572	2014-06-23 17시	18시	4-5-1 N+ Mask Remove Ox. Wet Strip BOE	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
573	2014-06-24 11시	12시	4-6-1 Activation Anneal Pre-Cleaning APM	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
574	2014-06-24 11시	14시	SPM Cleaning 4회, DHF (100:1 Cleaning) 2회 총 8회 과제번호(4.0010135.02)	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	567,000원
575	2014-06-24 13시	14시	0-1-2 Fab-In Clean Pre Cleaning DHF				100,000원
576	2014-06-24 13시	14시	0-1-2 Fab-In Clean Pre Cleaning SPM				150,000원
577	2014-06-25 17시	18시	2-1-1 Metal SPM Cleaning				150,000원
578	2014-06-26 9시	11시	2-1-1 Cleaning DHF				100,000원
579	2014-07-01 11시	11시	3-1-3 Back Oxide Remove Wet Oxide Etching BOE 10:1	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
580	2014-07-01 15시	17시	DHF 3회	전북대학교	전자공학부	김기현	210,000원
581	2014-07-01 16시	16시	0-2-2 Initial Oxide Pre Cleaning DHF	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
582	2014-07-01 16시	16시	0-2-1 Initial Oxide Pre Cleaning APM	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
583	2014-07-01 17시	19시	SPM2 2회	전북대학교	전자공학부	김기현	210,000원
584	2014-07-03 17시	18시	Si Deep Etch 후 wafer 세정	포항공과대학교	기계공학과	류정은	120,000원
585	2014-07-07 11시	12시	SPM cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
586	2014-07-07 12시	13시	dHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	56,000원
587	2014-07-07 15시	16시	Oxide Wet Etch SiO2 500A , SiO2 50A	포항공과대학교	화학공학과	박진주	120,000원
588	2014-07-07 15시	16시	1-3-2 AKEY SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
589	2014-07-07 16시	17시	SPM PR Remove	포항공과대학교	화학공학과	박진주	120,000원
590	2014-07-08 11시	12시	1-4-1 PWEL Mask Formation PE-Ox Wet Strip DHF	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
591	2014-07-08 11시	12시	1-4-2 PWEL Mask Formation Pre-Cleaning APM	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
592	2014-07-08 14시	15시	SPM cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
593	2014-07-08 15시	16시	dHF cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	56,000원
594	2014-07-10 13시	14시	Pre-cleaning SPM	포항공과대학교	화학공학과	박진주	120,000원
595	2014-07-14 12시	13시	2-3-3 PWEL Polymer Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
596	2014-07-14 12시	13시	2-3-2 PWEL SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
597	2014-07-14 14시	15시	SPM을 이용한 표면 클리닝	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
598	2014-07-14 15시	16시	3-3-3 NW Polymer strip	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
599	2014-07-14 15시	16시	3-3-2 NW SPM PR Strip	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
600	2014-07-18 12시	13시	SPM Cleaning(조각 sample 9ea) 10min 1회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
601	2014-07-18 13시	14시	DHF Cleaning(조각 sample 9ea) 100:1 / 1min 1회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
602	2014-07-18 14시	16시	Manual Bath ITO Etchant 3회	삼성코닝정밀소재	개발2팀	윤근상	450,000원
603	2014-07-18 16시	17시	dHF cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	56,000원
604	2014-07-21 10시	11시	4-7-2 N+ SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
605	2014-07-21 13시	14시	SPM 2회	전북대학교	전자공학부	김기현	210,000원
606	2014-07-21 14시	15시	DHF 3회	전북대학교	전자공학부	김기현	210,000원
607	2014-07-22 17시	17시	0-2-1 Fab-in Clean SPM Clean SPM 2매	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	105,000원
608	2014-07-22 17시	17시	0-2-2 Fab-in Clean DHF Clean DHF 2매	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	70,000원
609	2014-07-23 15시	17시	precleaning(SPM + DHF)	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	175,000원
610	2014-07-23 17시	18시	precleaning(SPM+DHF)	포항공과대학교	ITCE	박현진	175,000원
611	2014-07-24 11시	13시	Manual Bath ITO Etchant 2회	삼성코닝정밀소재	개발2팀	윤근상	300,000원
612	2014-08-01 9시	12시	4-9-1 gate sac. ox strip (boe) 4-12-1 gate oxide precleaning (apm, dhf)	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	280,000원
613	2014-08-05 11시	12시	Pre Cleaning DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	56,000원
614	2014-08-05 11시	12시	Pre Cleaning SPM	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	84,000원
615	2014-08-05 14시	15시	5-3-2 GATE SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
616	2014-08-05 15시	16시	5-3-3 GATE Polymer Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
617	2014-08-05 15시	16시	SPM 10m + DHF 10m	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	175,000원
618	2014-08-06 13시	15시	SPM+DHF SOI WF precleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	175,000원
619	2014-08-07 13시	15시	Manual Bath ITO Etchant 1회	삼성코닝정밀소재	개발2팀	윤근상	150,000원
620	2014-08-07 14시	15시	1-3-2 1st PR SPM	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	105,000원
621	2014-08-07 14시	15시	SPM cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
622	2014-08-07 9시	10시	SPM+DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	122,500원
623	2014-08-08 1시	1시	SPM+DHF(doping 6\")	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	175,000원
624	2014-08-08 11시	12시	5-4-1 ILD Depo Pre-Cleaning APM 1회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
625	2014-08-08 16시	18시	SOI sac ox strip	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
626	2014-08-08 8시	10시	SPM+DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	175,000원
627	2014-08-11 11시	12시	2-5-1 Pwell Mask Remove Ox. Wet Strip B.O.E 1회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
628	2014-08-11 13시	14시	2-3-1 2st PR SPM	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	105,000원
629	2014-08-11 14시	15시	2-6-1 P+ Mask Depo Pre-Cleaning APM 1회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
630	2014-08-11 15시	16시	dhf cleaning (SIMS 분석 전)	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
631	2014-08-11 16시	17시	SPM+DHF(NO Furnace 전처리)	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	175,000원
632	2014-08-11 9시	10시	DHF Clean 1회	포항공과대학교	화학과	이진호	80,000원
633	2014-08-12 10시	11시	SPM(Gate Ox 전처리)	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
634	2014-08-13 9시	12시	SOI wafer native ox remove au 증착 시편 끝난후 ag 증착시편 cleaning 2회사용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	140,000원
635	2014-08-18 14시	15시	6-3-2 CONT SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
636	2014-08-18 16시	17시	SC33_ P+ PR remove	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
637	2014-08-19 10시	11시	3-5-1 P+ Mask Remove Ox. Wet Strip BOE 1회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
638	2014-08-19 10시	11시	6-5-1 silicide dhf cleaning	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
639	2014-08-19 13시	14시	3-6-1 N+ Mask Depo Pre-Cleaning APM 1회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
640	2014-08-20 10시	11시	3-2-1 Metal Wet Etching	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
641	2014-08-20 14시	15시	SC33_N+ PR remove	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
642	2014-08-20 14시	15시	dHF precleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	56,000원
643	2014-08-20 16시	17시	4-5-1 N+ Mask Remove Ox. Wet Strip BOE 1회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
644	2014-08-20 16시	18시	Manual Bath ITO Etchant 2회	삼성코닝정밀소재	개발2팀	윤근상	300,000원
645	2014-08-20 17시	18시	SC33_N+ P+ Hard Mask Polymer remove	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	140,000원
646	2014-08-21 10시	11시	DHF 3회	전북대학교	전자공학부	김기현	210,000원
647	2014-08-21 11시	13시	SPM 2회	전북대학교	전자공학부	김기현	210,000원
648	2014-08-21 15시	16시	SPM Cleaning 1회	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	84,000원
649	2014-08-21 9시	10시	dHF를 이용한 oxide etching	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	56,000원
650	2014-08-21 9시	10시	SC33_Activation Cap PR Coating Cleaning	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
651	2014-08-22 10시	11시	SC33_Activation 후 PR Cap 제거	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
652	2014-08-22 11시	12시	SC33_Sac oxidation 전처리	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
653	2014-08-22 18시	19시	SC33_ Sac oxide remove	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
654	2014-08-26 9시	10시	Gate oxide 전처리	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
655	2014-08-26 9시	10시	SC33_ Gate oxide 전처리	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
656	2014-08-27 11시	12시	5-4-1 ILD Depo Pre-Cleaning APM 1회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
657	2014-08-27 16시	17시	SC33_Gate PR remove	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
658	2014-08-27 17시	18시	SC33_Gate Poly Etching후 Polymer 제거	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
659	2014-08-28 15시	16시	SC33_CONT PR remove	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
660	2014-08-28 20시	21시	SC33_Front Ni 전처리	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
661	2014-09-02 11시	12시	1:100 DHF(10min) -> pr damage 로 인한 holding	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
662	2014-09-03 10시	11시	Al203 SPM 데미지 테스트	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
663	2014-09-03 14시	15시	SPM+DHF : pr,절연막 제거	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	175,000원
664	2014-09-04 13시	14시	SPM 클리닝	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
665	2014-09-04 14시	15시	SiO2 400nm Etch 후 PR Remove	포항공과대학교	전자전기공학과	김강민	120,000원
666	2014-09-05 15시	16시	dhf cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
667	2014-09-10 11시	12시	PR 제거	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	84,000원
668	2014-09-11 14시	16시	initial cleaning 8\" 2ea SPM+DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	295,000원
669	2014-09-11 15시	16시	pr remove SPM	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
670	2014-09-12 15시	17시	표면 클리닝	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
671	2014-09-16 10시	12시	0-2-1 initial oxide pre cleaning(SC1) 0-2-2 initial oxide pre cleaning(DHF)	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	175,000원
672	2014-09-16 10시	11시	10-2-1 MET1 Metal Wet Etch	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
673	2014-09-16 13시	14시	pr(MA-N) damage test	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
674	2014-09-16 14시	16시	1-1-1 active pre clen(SPM) 1-1-2 active pre clen(DHF)	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	175,000원
675	2014-09-16 16시	17시	DHF 100:1(AZ5124) -> metal depo.	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
676	2014-09-17 16시	17시	pre cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	175,000원
677	2014-09-18 15시	16시	1-3-2 AKEY SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
678	2014-09-18 16시	17시	Manual Bath ITO Etchant 1회	삼성코닝정밀소재	개발2팀	윤근상	150,000원
679	2014-09-19 10시	11시	DHF Clean 3회	전북대학교	전자공학부	김기현	210,000원
680	2014-09-19 11시	13시	SPM Cleaning 2회	전북대학교	전자공학부	김기현	210,000원
681	2014-09-19 14시	15시	APM+DHF	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	175,000원
682	2014-09-19 16시	17시	1-1-1 Pre cleaning APM 10분	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	210,000원
683	2014-09-19 16시	17시	2-3-2 PWEL SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
684	2014-09-19 16시	17시	2-3-3 PWEL Polymer Stip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
685	2014-09-19 17시	18시	1-1-2 Pre cleaning DHF 30초	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	140,000원
686	2014-09-19 8시	9시	dHF cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	56,000원
687	2014-09-22 11시	12시	2-6-1 p mask depo. pre cleaning apm	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
688	2014-09-22 12시	13시	1-4-2 Active SPM PR Strip	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
689	2014-09-22 13시	14시	1-4-3 Active Polymer Strip	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
690	2014-09-22 14시	15시	dHF etching	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	56,000원
691	2014-09-22 17시	18시	3-3-3 P+ Polymer Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
692	2014-09-22 17시	18시	3-3-2 P+ SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
693	2014-09-22 9시	10시	2-5-1 pwel mask remove boe	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
694	2014-09-23 10시	12시	SPM+DHF photo 전처리	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	175,000원
695	2014-09-23 11시	13시	hard mask pre clean 2-1-1 SPM 10min 2-1-2 DHF 20s	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	175,000원
696	2014-09-23 11시	12시	3-6-1 n mask depo. pre cleaning apm	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
697	2014-09-23 11시	13시	0-1-2 Fab-in clean(SPM+DHF)				250,000원
698	2014-09-23 15시	16시	4-7-2 N+ Carbon SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
699	2014-09-23 17시	18시	4-3-2 N+ SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
700	2014-09-23 17시	18시	4-3-3 N+ Polymer Stip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
701	2014-09-23 9시	10시	3-5-1 p mask remove boe	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
702	2014-09-24 10시	12시	SPM+DHF thinning pre cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	175,000원
703	2014-09-24 11시	12시	4-6-1 actication anneal pre cleaning apm	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
704	2014-09-24 13시	14시	SPM PR Remove	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
705	2014-09-24 13시	14시	DHF Remove	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
706	2014-09-24 16시	17시	2-3-1 Cap Remove	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
707	2014-09-24 17시	18시	pr damage test(pr pettern split)	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
708	2014-09-24 9시	10시	4-5-1 n mask remove boe	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
709	2014-09-25 10시	11시	4-12-1 gate oxdie pre cleaning apm	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
710	2014-09-25 11시	12시	4-9-1 sac. ox strip boe	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
711	2014-09-25 17시	18시	1-4-2 Cont SPM PR Strip				150,000원
712	2014-09-25 9시	10시	4-8-1 sac. oxidation pre cleaning apm	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
713	2014-09-26 11시	12시	2-2-1 metal clean DHF native ox remove 2회진행 TE_01,TE_02 1회 TE_03,TE_04 2회				100,000원
714	2014-09-26 16시	17시	5-3-2 GATE SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
715	2014-09-26 17시	18시	5-3-3 GATE Polymer Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
716	2014-09-26 9시	10시	5-4-1 ild depo. pre cleaning apm	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
717	2014-09-26 9시	11시	SPM+DHF al2o3 pre cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	175,000원
718	2014-09-29 10시	11시	6-5-1 ni sputter dhf cleaning	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
719	2014-09-29 16시	17시	6-3-3 Cont Polymer Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
720	2014-09-29 16시	17시	6-3-2 Cont SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
721	2014-09-29 8시	10시	0-2-1 initial oxide pre cleaning SC-1 0-2-2 initial oxide pre cleaning DHF	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	175,000원
722	2014-09-30 13시	14시	10-2-1 MET1 Metal Wet Etch	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
723	2014-10-01 10시	11시	2-4-1 Metal Wet Etching (Au)				150,000원
724	2014-10-01 9시	10시	2-4-1 Metal Wet Etching (Cr)				150,000원
725	2014-10-01 9시	10시	2-4-1 Metal Wet Etching (Al)				150,000원
726	2014-10-02 10시	11시	MAN pr test DHF 10min SUS-8 pr test DI 15min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
727	2014-10-02 13시	14시	BOE 10:1 MAN pr test	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
728	2014-10-06 13시	16시	BOE 10:1 2회사용 30초, 60초 pr test	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	210,000원
729	2014-10-06 13시	14시	1-3-2 AKEY SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
730	2014-10-06 13시	14시	1-3-3 AKEY Polymer Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
731	2014-10-06 14시	15시	BOE 10:1 10min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
732	2014-10-07 12시	13시	3-3-2 NW PR SPM Strip	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
733	2014-10-07 12시	13시	3-3-3 NW Polymer Strip	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
734	2014-10-07 14시	16시	1-4-1 AKEY PWEL Mask formation DHF 1-4-2 AKEY PWEL Mask formation APM	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	175,000원
735	2014-10-08 10시	11시	3-4-2 Gate Oxide Pre CLean DHF 20ssec	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
736	2014-10-08 10시	14시	BOE Etch Test	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	420,000원
737	2014-10-08 12시	14시	0-1-3 Fab-in Cleaning SPM+DHF				250,000원
738	2014-10-08 9시	10시	3-4-1 Gate Oxide Pre Clean SPM 10min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
739	2014-10-10 11시	13시	3-5 추가 APM 5m	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
740	2014-10-13 11시	12시	2-1-2 Metal DHF Cleaning				100,000원
741	2014-10-13 11시	12시	2-1-1 Metal SPM Cleaning				150,000원
742	2014-10-13 13시	14시	2-1-1 metal cleaing SPM 10분				150,000원
743	2014-10-13 13시	14시	2-1-1 metal cleaing DHF 30sec				100,000원
744	2014-10-14 10시	11시	2-4-1 Metal Wet Etching				150,000원
745	2014-10-14 13시	14시	4-2-2 Metal Gate Oxide Etch BOE 55초	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
746	2014-10-14 14시	16시	APM(480)+DHF 1000:1(90) 3회	나노종합기술원	CMOS소자팀	전호승	270,000원
747	2014-10-14 17시	18시	2-2-4 ION Implant SiO2 wet Etch DHF(100:1) 10min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
748	2014-10-15 10시	11시	SPM+DHF (김기현)	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	175,000원
749	2014-10-15 15시	16시	SPM cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	84,000원
750	2014-10-16 17시	18시	Al2O3 Anneal Test (Al2O3 Etch Test) Anneal 후 Etch Test BOE 1회	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
751	2014-10-16 17시	18시	Al2O3 Anneal Test (Al2O3 Etch Test) Anneal 후 Etch Test DHF 1회	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
752	2014-10-17 10시	11시	dHF cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	56,000원
753	2014-10-17 11시	12시	Al Etchant 사용 (김기현)	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
754	2014-10-17 13시	14시	Al2O3 Anneal Test (Al2O3 Etch Test) - 2차 Test BOE 1회 진행	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
755	2014-10-17 13시	14시	Al2O3 Anneal Test (Al2O3 Etch Test) - 2차 Test DHF 1회	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
756	2014-10-20 11시	12시	2-3-2 PWEL SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
757	2014-10-20 11시	12시	2-3-3 PWEL Polymer Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
758	2014-10-20 12시	13시	2-6-1 p+ mask depo. pre-cleaning apm	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
759	2014-10-20 16시	17시	3-3-2 P+ SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
760	2014-10-20 16시	17시	3-3-3 P+ Polymer Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
761	2014-10-20 16시	18시	Manual Bath ITO Etchant 2회	삼성코닝정밀소재	개발2팀	윤근상	300,000원
762	2014-10-20 8시	9시	SPM 2회	전북대학교	전자공학부	김기현	210,000원
763	2014-10-20 9시	10시	DHF 3회	전북대학교	전자공학부	김기현	210,000원
764	2014-10-20 9시	11시	2-5-1 Pwell mask remove ox wet strip boe	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
765	2014-10-21 11시	12시	3-6-1 n+ mask depo. pre-cleaning apm	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
766	2014-10-21 11시	13시	APM(480)+DHF 1000:1(90) 4회	나노종합기술원	CMOS소자팀	전호승	360,000원
767	2014-10-21 12시	13시	4-3-2 N+ SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
768	2014-10-21 13시	14시	4-3-3 N+ Polymer Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
769	2014-10-21 14시	16시	al2o3 anneal etch test	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	210,000원
770	2014-10-21 16시	17시	Gate oxidation 전 pre-cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	168,000원
771	2014-10-21 9시	10시	3-5-1 p+ mask remove ox. wet strip boe	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
772	2014-10-22 10시	11시	al2o3(anneal) etch test HF(49~51%)	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
773	2014-10-22 10시	11시	4-6-1 Activation Anneal Pre cleaing	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
774	2014-10-22 14시	15시	al2o3(anneal) etch spm	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
775	2014-10-22 9시	10시	5-1-1 Gate Oxide Pre Clean-SPM 10min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
776	2014-10-22 9시	10시	4-5-1 n+ mask remove ox. wet strip boe	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
777	2014-10-22 9시	10시	5-1-2 Gate Oxide Pre Clean-DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
778	2014-10-23 10시	18시	al2o3(anneal) etch(5hr+1hr)	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	210,000원
779	2014-10-24 10시	11시	4-7-2 N+ Carbon PR SPM Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
780	2014-10-24 13시	14시	ufc fet T02 선행 DHF 5min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
781	2014-10-24 14시	15시	dHF cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	56,000원
782	2014-10-24 15시	16시	벌집패턴 pr remove spm+dhf	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	175,000원
783	2014-10-24 17시	18시	al2o3(anneal 975C, 30s) dhf 1min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
784	2014-10-24 9시	10시	4-8-1 Sac. oxidation -1 Pre Cleaning APM 10min	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
785	2014-10-27 11시	12시	4-12-1 Gate Oxide Pre CLeaning APM + DHF	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
786	2014-10-27 13시	18시	Pre-Clean DHF 100:1(30sec), DHF 100:1(120sec) 2회	서울대학교	전기컴퓨터공학부	김장현	200,000원
787	2014-10-27 9시	10시	4-9-1 Sac. Ox-1 Srip Bath_BOE	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
788	2014-10-28 10시	14시	Manual Bath ITO Etchant 2회	삼성코닝정밀소재	개발2팀	윤근상	300,000원
789	2014-10-28 14시	15시	5-3-2 GATE SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
790	2014-10-28 15시	16시	5-3-3 GATE Polymer Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
791	2014-10-28 15시	16시	0-1-2 pad oxide pre clean spm	포항공과대학교	화학공학과	송홍선	120,000원
792	2014-10-28 16시	20시	APM(480)+DHF 1000:1(90) 3회	나노종합기술원	CMOS소자팀	전호승	270,000원
793	2014-10-28 9시	10시	5-4-1 contact ild depo. pre-cleaning apm	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
794	2014-10-29 10시	11시	0-3-1 tunnel oxide pre clean sc-1	포항공과대학교	화학공학과	송홍선	120,000원
795	2014-10-29 10시	12시	0-3-1 tunnel oxide pre clean sc-2	포항공과대학교	화학공학과	송홍선	240,000원
796	2014-10-29 14시	15시	6-5-1 Ni Sputter DHF Cleaning	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
797	2014-10-29 15시	16시	6-3-2 CONT SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
798	2014-10-29 15시	16시	6-3-3 CONT Polymer Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
799	2014-10-30 14시	16시	1-1-1 gate oxide pre clean apm	포항공과대학교	창의IT융합공학과	권지민	105,000원
800	2014-10-30 16시	18시	SPM+DHF(김기현) 8inch 6ea	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	415,000원
801	2014-10-30 9시	10시	7-2-1 SILICI Ni Wet Etch	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
802	2014-10-31 9시	10시	10-2-1 MET1-Metal Wet Etch	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
803	2014-11-03 11시	12시	DHF Cleaning(100:1, 60sec) 1회	한국과학기술원	전기/전자	이병현	100,000원
804	2014-11-04 10시	12시	1-1-1 pre-clean APM+DHF	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	175,000원
805	2014-11-04 13시	14시	al2o3 etch test dhf etch	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
806	2014-11-04 15시	17시	0-2-1 initial pre cleaning APM 0-2-2 initial pre cleaning DHF	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	175,000원
807	2014-11-10 13시	14시	boe10:1 etch	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
808	2014-11-10 9시	11시	thermal-ox boe etch test	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	155,000원
809	2014-11-11 12시	13시	dHF를 이용한 sio2 etching	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	56,000원
810	2014-11-13 12시	13시	1-3-2 AKEY SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
811	2014-11-14 17시	18시	initial cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	84,000원
812	2014-11-14 9시	11시	1-4-1 akey pwel mask formation wet strip dhf 1-4-2 akey pwel mask formation pre-cleaning apm	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	175,000원
813	2014-11-17 10시	11시	1-1-1 IIP pre clean SPM 1-1-2 IIP pre clean BOE	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	210,000원
814	2014-11-17 14시	18시	Manual Bath ITO Etchant 1회	삼성코닝정밀소재	개발2팀	윤근상	150,000원
815	2014-11-17 9시	11시	1-1-1 IIP pre clean SPM 1-1-2 IIP pre clean DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	175,000원
816	2014-11-18 11시	12시	2-3-2 PWEL SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
817	2014-11-18 11시	12시	2-3-3 PWEL DHF Polymer Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
818	2014-11-19 15시	16시	BIOFET 3차 1-3-3 DHF(1:100) 10min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
819	2014-11-19 16시	17시	BIOFET 2차 1-3-5 DHF(1:100) 10min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
820	2014-11-19 9시	12시	2-5-1 pwell mask remove ox strip BOE 2-6-1 p+ mask depo. pre-cleaning APM	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	210,000원
821	2014-11-20 10시	10시	biofet6_ 2-1-1 spm 10min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
822	2014-11-20 10시	10시	biofet6_3 2-1-2 dhf 100:1 60s	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
823	2014-11-20 10시	10시	biofet6_3 2-1-1 spm 10min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
824	2014-11-20 11시	12시	biofet6_3 2-1-2 dhf 100:1 60s	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
825	2014-11-20 12시	13시	3-3-2 P+ SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
826	2014-11-20 13시	14시	3-3-3 P+ DHF Polymer Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
827	2014-11-20 15시	16시	Nitride Dry Etching 후 PR 제거 후 세정 (접합반도체소자의 비파괴 검사 연구, 4.0011276.02)	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
828	2014-11-20 9시	10시	1-4-1 MET1 Depo Bath_DHF	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
829	2014-11-21 13시	14시	4-3-2 N+ PR Remove SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
830	2014-11-21 13시	14시	SPM 2회	전북대학교	전자공학부	김기현	210,000원
831	2014-11-21 14시	16시	DHF 3회	전북대학교	전자공학부	김기현	210,000원
832	2014-11-21 14시	15시	4-3-3 N+ PR Remove DHF Polymer Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
833	2014-11-21 9시	12시	3-5-1 p+ mask remove ox strip BOE 3-6-1 n+ mask depo. pre-cleaning APM	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	210,000원
834	2014-11-24 11시	12시	2-4-1 Active SPM PR Strip	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
835	2014-11-24 12시	13시	2-4-2 Active Polymer Strip	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
836	2014-11-24 13시	14시	2-4-2 Active Polymer Strip	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
837	2014-11-24 13시	14시	2-4-1 Active SPM PR Strip	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
838	2014-11-24 9시	12시	4-5-1 n+ mask remove ox strip BOE 4-6-1 pre-cleaning APM	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	210,000원
839	2014-11-25 13시	15시	1-1-1 IIP pre cleaing SPM 1-1-2 IIP pre cleaing BOE	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	210,000원
840	2014-11-25 16시	17시	4-9-1 sac Ox Strip BOE 3min	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
841	2014-11-25 17시	18시	4-12-1 Sac Oxidation Pre Clean DHF 1min	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
842	2014-11-25 17시	18시	4-12-1 Gate Ox Pre Clean APM 70min	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
843	2014-11-25 9시	10시	4-8-1 Sac Oxidation Pre Clean DHF 1min	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
844	2014-11-25 9시	10시	4-8-1 Sac Oxidation Pre Clean APM 10min	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
845	2014-11-26 11시	12시	APM(480s)+DHF(1000:1)(45s) WS3 recipe-TEST45 / 1회	나노종합기술원	CMOS소자팀	전호승	135,000원
846	2014-11-26 14시	15시	5-3-3 GATE Polymer Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
847	2014-11-26 14시	15시	5-3-2 GATE SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
848	2014-11-26 14시	15시	1-3-5 ION implantation (BioFET 2차 추가분) SiO2 Wet Etch (DHF 10분)	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
849	2014-11-26 14시	16시	2-1-1 active pre cleaning SPM 2-1-2 active pre cleaning DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	175,000원
850	2014-11-27 14시	15시	2-4-2 Active Polymer Strip (추가 w01)	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
851	2014-11-27 14시	15시	2-4-1 Active SPM PR Strip (추가 w01)	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
852	2014-11-27 16시	17시	6-3-3 CONT Polymer Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
853	2014-11-27 16시	17시	6-3-2 CONT SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
854	2014-11-27 9시	11시	5-4-1 cont ild depo. pre-cleaning APM	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
855	2014-11-28 11시	13시	0-2-1 Fab-in Clean SPM 0-2-2 Fab-in Clean DHF	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	0원
856	2014-11-28 15시	16시	10-2-1 MET1 Metal Wet Etch	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
857	2014-11-28 17시	18시	2-1-1 active pre cleaning SPM	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
858	2014-11-28 18시	19시	2-1-2 active pre cleaning DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
859	2014-11-28 9시	11시	2-1-1 active pre cleaning SPM 2-1-2 active pre cleaning DHF 추가1매	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	175,000원
860	2014-11-28 9시	10시	7-2-1 SILICI Ni Etch	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
861	2014-11-28 9시	10시	6-5-1 Ni Sputter Pre Clean DHF	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
862	2014-12-01 12시	13시	4-12-1 GATE Pre-cleaning APM 70도,10분	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
863	2014-12-01 13시	14시	4-12-1 GATE Pre-cleaning APM 70도	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
864	2014-12-01 14시	15시	4-12-1 GATE Pre-cleaning DHF 1분	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
865	2014-12-01 15시	16시	4-12-1 GATE Pre-cleaning DHF 1분	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
866	2014-12-02 10시	12시	Grating 제작을 위한 Al Wet Etch	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	0원
867	2014-12-02 10시	12시	manual wet bath 사용 SPM (김기현)	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
868	2014-12-02 13시	16시	Pre-Cleaning 2회(APM 180\' + DHF(100:1)90\')	한국과학기술원	전기/전자	이병현	270,000원
869	2014-12-02 15시	16시	5-3-3 GATE Polymer Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
870	2014-12-02 15시	16시	5-3-2 GATE SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
871	2014-12-03 9시	10시	5-4-1 cont ild depo. pre-cleaning APM	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
872	2014-12-04 13시	14시	6-3-2 CONT SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
873	2014-12-04 13시	14시	6-3-3 CONT Polymer Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
874	2014-12-04 16시	17시	SiC Sac Ox 전 Clean	LG전자	System IC연구소	김웅선	120,000원
875	2014-12-04 9시	10시	SiC Anneal 진행 전 세정	LG전자	System IC연구소	김웅선	120,000원
876	2014-12-05 13시	18시	APM(480)+DHF 1000:1(45) 4회	나노종합기술원	CMOS소자팀	전호승	540,000원
877	2014-12-05 15시	17시	6-5-1 Ni spputter DHF Cleaning 1min	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
878	2014-12-05 15시	16시	3-3-2 NW SPM PR Strip	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
879	2014-12-05 15시	16시	3-3-3 NW Polymer Strip	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
880	2014-12-05 9시	10시	SiC Sac Ox Strip	LG전자	System IC연구소	김웅선	80,000원
881	2014-12-05 9시	10시	DHF 100:1	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
882	2014-12-09 12시	13시	7-2-1 SILICI Ni Wet Etch	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
883	2014-12-09 14시	15시	4-1-1 pre clean spm10min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
884	2014-12-09 14시	15시	4-1-2 pre clean 100:1 DHF 20sec	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
885	2014-12-10 11시	12시	0-2-1 inital oxide pre cleaning APM 0-2-2 inital oxide pre cleaning DHF	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	175,000원
886	2014-12-10 14시	15시	0-1-2 pre cleaning spm+dhf				250,000원
887	2014-12-11 13시	14시	10-2-1 MET1 Metal Wet Etch	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
888	2014-12-11 9시	11시	4-5-1 n+ mask remove BOE 4-6-1 pre-cleaning APM	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	210,000원
889	2014-12-12 11시	12시	4-12-1 GATE Pre-cleaning APM 70도 10분 100:1DHF 1분	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
890	2014-12-12 12시	13시	4-7-2 Carbon Strip SPM	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
891	2014-12-12 14시	15시	4-8-1 Sac Oxidation-1 APM 70도 10분+DHF 1분	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
892	2014-12-12 14시	15시	DHF 100:1 30s cleaning				100,000원
893	2014-12-12 15시	16시	4-8-1 Sac Oxidation-1 DHF 1분	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
894	2014-12-12 15시	16시	4-12-1 GATE Pre-cleaning APM 70도 10분 100:1DHF 1분	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
895	2014-12-13 14시	15시	4-9-1 Sac Oxidation-1 Bath_BOE	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
896	2014-12-15 12시	13시	1-3-2 AKEY SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
897	2014-12-15 13시	14시	SPM/dHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
898	2014-12-15 14시	15시	SPM/dHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
899	2014-12-15 16시	17시	5-4-1 cont ild depo. pre-cleaning APM	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
900	2014-12-15 16시	17시	5-3-1 Gate SPM	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
901	2014-12-15 17시	18시	5-3-1 Gate DHF	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
902	2014-12-16 12시	13시	2-1-1 Metal Cleaning SPM				150,000원
903	2014-12-16 13시	14시	2-1-1 Metal Cleaning 100:1 BOE				100,000원
904	2014-12-16 16시	17시	1-4-1 pwell mask formation DHF 1-4-2 pwell mask formation APM	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	175,000원
905	2014-12-16 17시	18시	6-3-2 Cont PR Remove SPM	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
906	2014-12-17 10시	11시	2-4-1 Metal Wet Etch				150,000원
907	2014-12-17 14시	15시	0-1-2 pre cleaning APM+DHF	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	175,000원
908	2014-12-17 14시	16시	6-5-1 SILICl DHF 100:1	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
909	2014-12-17 15시	16시	2-3-2 PWEL SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
910	2014-12-17 16시	17시	2-3-3 PWEL Polymer Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
911	2014-12-19 10시	12시	SPM 2회	전북대학교	전자공학부	김기현	210,000원
912	2014-12-19 13시	14시	10-2-1 MET1 Wet Etching	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
913	2014-12-19 14시	17시	DHF 3회	전북대학교	전자공학부	김기현	210,000원
914	2014-12-19 15시	16시	3-3-3 P+ Polymer Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
915	2014-12-19 15시	16시	3-3-2 P+ SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
916	2014-12-19 22시	23시	3-3-1 Passivation PE Oxide Wet Etching	(주)소로나	관리	(주)소로나	300,000원
917	2014-12-19 9시	11시	2-5-1 pwell mask remove ox wet strip BOE 2-6-1 p+ mask depo. pre-cleaning APM	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	210,000원
918	2014-12-22 13시	14시	3-3-3 NW Polymer Strip	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
919	2014-12-22 13시	14시	3-3-2 NW SPM PR Strip	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
920	2014-12-22 16시	17시	SPM+DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
921	2014-12-22 16시	17시	4-3-3 N+ Polymer Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
922	2014-12-22 16시	17시	4-3-2 N+ SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
923	2014-12-22 9시	10시	3-5-1 p+ mask remove ox. wet strip BOE 3-6-1 n+ mask depo. pre-cleaning APM	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	210,000원
924	2014-12-23 10시	11시	0-1-2 pre cleaning SPM + DHF				250,000원
925	2014-12-23 11시	12시	Cap:DHF_Native Oxide remove	(주)유우일렉트로닉스	부설연구소	김형원	200,000원
926	2014-12-23 13시	14시	Cap:TMAH_Si Etching	(주)유우일렉트로닉스	부설연구소	김형원	600,000원
927	2014-12-23 14시	15시	0-3-1 tunnel oxide pre clean APM 0-3-1 tunnel oxide pre clean HPM	포항공과대학교	화학공학과	송홍선	360,000원
928	2014-12-23 9시	10시	0-1-2 pad oxide pre clean SPM	포항공과대학교	화학공학과	송홍선	120,000원
929	2014-12-24 13시	15시	Cap:BOE_LP Oxide Remove	(주)유우일렉트로닉스	부설연구소	김형원	300,000원
930	2014-12-24 9시	12시	4-5-1 n+ mask remove BOE 4-6-1 activation anneal pre-cleaning APM	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	210,000원
931	2014-12-26 16시	17시	4-9-1 Sac Ox Strip BOE	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
932	2014-12-26 17시	18시	4-12-1 Gate Oxide Pre Cleaning	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
933	2014-12-26 9시	10시	4-7-2 Carbon strip SPM 120도 10분	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
934	2014-12-26 9시	10시	4-8-1 Sac Oxidation Pre Cleaning	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
935	2014-12-29 11시	12시	5-4-1 cont ild depo. pre-cleaning APM	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
936	2014-12-29 14시	15시	5-3-2 GATE SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
937	2014-12-29 15시	16시	5-3-3 GATE Polymer Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
938	2014-12-29 17시	18시	6-3-2 CONT SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
939	2014-12-29 18시	19시	6-3-3 CONT Polymer Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
940	2014-12-30 12시	13시	6-5-1 Ni Sputter Pre Clean	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
941	2014-12-30 13시	14시	7-2-1 SILICI Ni Wet Etch	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
942	2014-12-30 13시	14시	4-1-1 pre clean SPM 10min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
943	2014-12-30 14시	15시	4-1-2 Pre clean 100:1 dhf 20s	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
944	2014-12-30 14시	16시	5-2-2 wet etch dhf 100:1 5min (선행2매)	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
945	2014-12-31 13시	14시	10-2-1 MET1 Metal Wet Etch	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
946	2015-01-01 9시	12시	1-3-1 gate oxide remove	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
947	2015-01-02 11시	12시	dHF를 이용한 SiO2 etching	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	56,000원
948	2015-01-05 13시	14시	1-3-3 Cont Polymer Strip				100,000원
949	2015-01-05 13시	14시	1-3-2 Cont SPM PR Strip				150,000원
950	2015-01-06 10시	11시	2-4-1 Metal Wet Etch				150,000원
951	2015-01-06 14시	14시	Al Etch Test	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
952	2015-01-06 15시	16시	SPM cleaning (PR strip)	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	168,000원
953	2015-01-09 16시	17시	2-3-1 DHF 3min	포항공과대학교	화학공학과	송홍선	80,000원
954	2015-01-09 9시	12시	DHF 100:1(150sec) 4회	서울대학교	전기정보공학부	이상호	200,000원
955	2015-01-12 15시	16시	SPM을 이용한 pR Strip	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	168,000원
956	2015-01-13 16시	17시	APM(480)+DHF 1000:1(45) 1회	나노종합기술원	CMOS소자팀	전호승	135,000원
957	2015-01-15 13시	17시	Manual Bath ITO Etchant 공정 1회	삼성코닝정밀소재	개발2팀	윤근상	150,000원
958	2015-01-16 12시	13시	SPM 이용하여 pR strip	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	84,000원
959	2015-01-20 11시	13시	DHF 3회	전북대학교	전자공학부	김기현	210,000원
960	2015-01-20 9시	11시	SPM 2회	전북대학교	전자공학부	김기현	210,000원
961	2015-01-21 10시	12시	Photo lithography 전처리	한국전기연구원	전력반도체연구센터	석오균	108,000원
962	2015-01-21 10시	11시	spm 10min cleaning	포항공과대학교	화학과	황우습	105,000원
963	2015-01-21 10시	11시	dhf 1min cleaning	포항공과대학교	화학과	황우습	70,000원
964	2015-01-26 15시	16시	PR strip	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	168,000원
965	2015-01-26 8시	9시	SiC Ni Silicide 평가 Test Ni Sputter 전 Clean	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
966	2015-01-26 9시	11시	0-1-2 pre cleaning apm+dhf	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	175,000원
967	2015-01-28 9시	11시	1-3-1 gate oxide remove	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
968	2015-02-03 10시	12시	SPM CLN #9 1회	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
969	2015-02-04 10시	11시	Splite Gated TR_1차 0-1-2 Pre Clean APM 10min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유호천	105,000원
970	2015-02-09 10시	11시	0-1-2 Pre-Cleaning APM, 70도 10분 1회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
971	2015-02-09 11시	12시	0-1-2 Pre-Cleaning DHF(100:1) 1분	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	49,000원
972	2015-02-09 16시	17시	SiO2 제거	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	0원
973	2015-02-10 13시	14시	SPM+dHF precleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
974	2015-02-11 14시	15시	1-1-1 IPP pre cleaning spm 10m	전북대학교	전자공학부	김기현	0원
975	2015-02-11 15시	17시	1-3-1 10:1 BOE Back Oxide remove	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
976	2015-02-17 13시	15시	1-1-1 precleaning spm 1-1-2 precleaning dhf	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
977	2015-02-23 13시	14시	SPM 10min Cleaning (Oxidation 전처리 15매)	포항공과대학교	전자과	조용정	120,000원
978	2015-02-23 15시	16시	SPM cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
979	2015-02-23 16시	17시	0-1-3 fab-in cleaning SPM+DHF				250,000원
980	2015-02-23 17시	18시	BioFET_Oxide remove	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	280,000원
981	2015-02-24 10시	11시	1-1-1 precleaning SPM 1-1-2 precleaning BOE	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
982	2015-02-24 15시	16시	activation전 Cleaning	LG전자	SIC센터 ICS팀	최원석	120,000원
983	2015-02-24 9시	12시	implantation Mask(SiOx 2um) Strip (BOE)	LG전자	SIC센터 ICS팀	최원석	160,000원
984	2015-02-25 14시	15시	Sacrificial Ox 전 Clean	LG전자	SIC센터 ICS팀	최원석	240,000원
985	2015-02-26 15시	16시	Sacrificial Ox Strip(BOE)	LG전자	SIC센터 ICS팀	최원석	160,000원
986	2015-03-02 14시	15시	pR strip	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	84,000원
987	2015-03-03 12시	13시	5-1-1 Pre-Cleaning SPM 10min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
988	2015-03-03 13시	14시	2-1-1 Metal SPM				150,000원
989	2015-03-04 10시	11시	dHF wet etching	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	56,000원
990	2015-03-04 9시	10시	2-1-1 Cleaning BOE 30sec & QDR				150,000원
991	2015-03-04 9시	10시	2-1-1 Cleaning DHF 30sec & QDR				100,000원
992	2015-03-05 10시	12시	APM(480s)+DHF(1000:1)(45s) WS3 recipe-TEST45 / 1회	나노종합기술원	CMOS소자팀	전호승	135,000원
993	2015-03-05 16시	16시	1-3-3 dhf 100:1 10min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
994	2015-03-06 14시	16시	PR strip	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	84,000원
995	2015-03-06 16시	17시	1-3-4 SiO2 Wet Etch DHF 10분	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
996	2015-03-09 11시	13시	APM(480s)+DHF(1000:1)(45s) WS3 recipe-TEST45 / 1회	나노종합기술원	CMOS소자팀	전호승	135,000원
997	2015-03-09 12시	14시	2-1-1 active photo pre clean spm 2-1-2 active photo pre clean dhf	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
998	2015-03-09 15시	17시	2-1-1 active photo pre clean spm 2-1-2 active photo pre clean dhf	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
999	2015-03-10 10시	11시	Oxide 제거	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	168,000원
1000	2015-03-10 13시	14시	6-4-2 Passi DHF Ox Etch	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
1001	2015-03-11 13시	14시	2-3-2 Active SPM PR Remove	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
1002	2015-03-11 13시	14시	2-3-3 Active Polymer Strip	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
1003	2015-03-11 14시	15시	2-3-2 Active SPM PR Strip	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
1004	2015-03-11 14시	15시	2-3-3 Active Polymer Strip	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
1005	2015-03-11 9시	10시	4\" SiC wf. cleaning	한국전기연구원	전력반도체연구센터	나문경	216,000원
1006	2015-03-17 10시	11시	4\" SiC wafer cleanig 2매, DHF cleaning 도 함께 진행	한국전기연구원	전력반도체연구센터	나문경	216,000원
1007	2015-03-17 14시	16시	3-1-1 SD.IIP hard mask pre clean spm 3-1-2 SD.IIP hard mask pre clean dhf	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
1008	2015-03-17 14시	16시	3-1-1 SD.IIP hard mask pre clean spm 3-1-2 SD.IIP hard mask pre clean dhf	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
1009	2015-03-20 15시	16시	1-5-3 pe-oxide 제거	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
1010	2015-03-23 14시	15시	Pre Clean (spm+dhf 직접사용)	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	0원
1011	2015-03-23 9시	11시	1-1-2 gate oxide pre clean SPM 1-1-3 gate oxide pre clean DHF	포항공과대학교	화학공학과	송홍선	200,000원
1012	2015-03-24 15시	16시	6-4-2 pass\'N Wet Etch (DHF)	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
1013	2015-03-24 17시	18시	3-6-1 SD.IIP hard mask remove	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
1014	2015-03-25 14시	17시	3-6-1 sd.iip hard mask remove dhf 4-1-1 nw photo pre clean spm 4-1-2 nw photo pre clean dhf	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
1015	2015-03-25 16시	17시	4-1-1 nw photo pre clean spm 4-1-2 nw photo pre clean dhf	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
1016	2015-03-25 9시	11시	SPM cleaning (2회사용9-10,16-18) DHF cleaning	한국전기연구원	전력반도체연구센터	나문경	288,000원
1017	2015-03-26 15시	16시	wet etching (DHF 사용)	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	0원
1018	2015-03-27 13시	14시	PEOxide 제거 SPM 사용	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	0원
1019	2015-03-27 15시	16시	Native Oxide 제거	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	0원
1020	2015-03-30 11시	12시	4-1-1 DIEL Gate oxide pre clean spm 4-1-2 DIEL Gate oxide pre clean dhf	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
1021	2015-03-30 13시	14시	PR remove spm	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
1022	2015-03-30 14시	15시	BioFET05_Cleaning(SPM, DHF)	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	1,050,000원
1023	2015-03-30 14시	15시	SOI wafer Top Si thinning Oxidation 관련 initial Clean(SPM + DHF) 및 Oxide Strip (BOE) 총 3회 사용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
1024	2015-03-31 15시	16시	0-1-3 pre clenaing				250,000원
1025	2015-03-31 16시	17시	5-1-1 metal formation pre clean spm	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
1026	2015-04-02 10시	11시	5-2-2 Wet Etch dhf 100:1 5min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
1027	2015-04-02 15시	16시	resist 제거	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	0원
1028	2015-04-02 9시	10시	APM(480)+DHF 1000:1(45)	나노종합기술원	CMOS소자팀	전호승	135,000원
1029	2015-04-03 15시	16시	SPM Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	105,000원
1030	2015-04-06 14시	15시	PECVD로 SiO2증착 전 Pre Cleaning (SPM+DHF)	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	0원
1031	2015-04-07 12시	13시	2-1-1 Contact Polymer Remove				100,000원
1032	2015-04-07 14시	15시	Ma-N 패터닝 테스트	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
1033	2015-04-07 15시	16시	2-1-1 metal cleaning				100,000원
1034	2015-04-07 16시	17시	4-3-2 nw etch pr remove spm 4-3-3 nw etch pr remove dhf W41 먼저 진행	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
1035	2015-04-08 11시	12시	dhf+SPM	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
1036	2015-04-08 13시	16시	PR remove 25매 SPM 3회 DHF 3회	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
1037	2015-04-09 11시	12시	5-1-1 SPM 10min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
1038	2015-04-09 12시	13시	5-1-3 100:1 DHF 20sec (w41)	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
1039	2015-04-09 13시	14시	SPM+DHF 웨이퍼 clean	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	0원
1040	2015-04-10 11시	12시	active region formation(GXR 601)	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	168,000원
1041	2015-04-10 9시	10시	6-1-1 Metel Depo Pre Clean SPM 10min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
1042	2015-04-13 14시	15시	SPM cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
1043	2015-04-13 16시	18시	pR strip 3회	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	252,000원
1044	2015-04-14 10시	11시	oxide 제거를 위한 dHF 클리닝	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	56,000원
1045	2015-04-14 11시	12시	6-5 Pass\'N Oxide Wetr	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	0원
1046	2015-04-15 10시	11시	Ion Implantation 후 buffer layer(SiO2) 제거	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	0원
1047	2015-04-15 16시	17시	Buffer layer(SiO2) 제거	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	0원
1048	2015-04-15 17시	18시	sio2 제거(BOE)	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	0원
1049	2015-04-15 9시	10시	Wafer Dicing 후 Pre-cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	0원
1050	2015-04-16 13시	14시	native oxide 제거 (SPM+DHF)	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	0원
1051	2015-04-16 14시	16시	PR 제거	전북대학교	전자공학부	김기현	0원
1052	2015-04-20 11시	12시	native oxide clean	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	0원
1053	2015-04-20 14시	15시	SPM 사용	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	0원
1054	2015-04-21 14시	15시	SOI 8\" Oxidation Test 2-1-1 SPM 10min	전북대학교	전자공학부	김기현	0원
1055	2015-04-21 14시	15시	SOI 8\" Oxidation Test 2-1-2 100:1 DHF 30sec	전북대학교	전자공학부	김기현	0원
1056	2015-04-22 17시	18시	PR removal and DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	0원
1057	2015-04-22 20시	21시	Front passivation	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	0원
1058	2015-04-22 21시	22시	잔여 PR 제거	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	84,000원
1059	2015-04-22 22시	24시	PECVD_SiO2 1um 제거	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	56,000원
1060	2015-04-23 11시	12시	nitride 200nm 제거	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	175,000원
1061	2015-04-23 12시	13시	pR strip	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	84,000원
1062	2015-04-23 13시	14시	siliconoxide 1um 제거	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	56,000원
1063	2015-04-24 10시	11시	native oxide removal	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	0원
1064	2015-04-24 18시	19시	0-1-3 pre cleaning spm dhf				250,000원
1065	2015-04-26 19시	12시	TMAH Si Etching	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	350,000원
1066	2015-04-27 12시	13시	1-1-2 PreClean SPM 15min	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	105,000원
1067	2015-04-27 13시	14시	1-1-3 Preclean100:1 DHF 1min	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	70,000원
1068	2015-04-29 11시	12시	3-1-3 Wet Ox Etching BOE 10:1 20s	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	105,000원
1069	2015-04-30 9시	10시	native oxide 제거(4/28 진행)	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	0원
1070	2015-05-04 13시	14시	Cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	0원
1071	2015-05-06 10시	11시	DHF (10:1) cleaning SPM cleaning	한국전기연구원	전력반도체연구센터	나문경	216,000원
1072	2015-05-06 12시	16시	APM(480s)+DHF(1000:1)(45s) WS3 recipe-TEST45 / 1회	나노종합기술원	CMOS소자팀	전호승	135,000원
1073	2015-05-12 11시	12시	SPM PR Remove	전북대학교	전자공학부	김기현	0원
1074	2015-05-12 12시	13시	Polymer Remove	전북대학교	전자공학부	김기현	0원
1075	2015-05-13 10시	12시	1-13 gate oxide pre clean (spm.dhf)	포항공과대학교	화학공학과	송홍선	200,000원
1076	2015-05-14 9시	10시	SPM, DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	0원
1077	2015-05-15 10시	11시	SPM PR Remove	포항공과대학교	화학공학과	송홍선	120,000원
1078	2015-05-15 11시	12시	Back Ox Wet Etch	포항공과대학교	화학공학과	송홍선	120,000원
1079	2015-05-18 17시	18시	wafer cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	168,000원
1080	2015-05-19 17시	18시	oxide 20nm remove	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	56,000원
1081	2015-05-19 18시	19시	wafer cleaning(pR strip)	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	84,000원
1082	2015-05-20 10시	11시	spm cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
1083	2015-05-20 10시	11시	1-1-1 pre clean spm 10min	전북대학교	전자공학부	김기현	105,000원
1084	2015-05-20 11시	12시	Buffer layer(SiO2) 제거 SOI wafer 조각 시편 3매	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	56,000원
1085	2015-05-20 11시	12시	1-1-2 100:1 DHF 1min	전북대학교	전자공학부	김기현	70,000원
1086	2015-05-20 20시	21시	spm cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
1087	2015-05-20 9시	10시	SPM and DHF using	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	140,000원
1088	2015-05-21 14시	16시	2-1-2 actiive photo spm 2-1-3 active photo dhf	전북대학교	전자공학부	김기현	175,000원
1089	2015-05-22 10시	11시	Photolithography 공정 전 Clealing SOI wafer 조각 시편 3매	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	84,000원
1090	2015-05-22 11시	12시	Photolithography 공정 전 Clealing SOI wafer 조각 시편 3매	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	56,000원
1091	2015-05-26 10시	12시	APM(480s)+DHF(1000:1)(45s) WS3 recipe-TEST45 / 1회	나노종합기술원	CMOS소자팀	전호승	135,000원
1092	2015-05-27 14시	15시	2-3-2 Active SPM PR Strip	전북대학교	전자공학부	김기현	105,000원
1093	2015-05-27 15시	16시	2-3-3 Active Polymer Strip	전북대학교	전자공학부	김기현	70,000원
1094	2015-05-27 16시	17시	native oxide 제거	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	56,000원
1095	2015-05-27 17시	22시	Si etch	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	175,000원
1096	2015-05-27 22시	23시	SPM with DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	140,000원
1097	2015-05-27 23시	5시	SiN 제거 (인산 bath이용)	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	175,000원
1098	2015-05-28 16시	17시	SiO2 제거	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	56,000원
1099	2015-05-28 17시	18시	pR strip	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	84,000원
1100	2015-05-29 10시	11시	SPM cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
1101	2015-05-29 13시	14시	PR strip	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	84,000원
1102	2015-05-29 13시	14시	2-1-1 Spm 10min	전북대학교	전자공학부	김기현	105,000원
1103	2015-05-29 14시	15시	2-1-2 100:1 DHF 30s	전북대학교	전자공학부	김기현	70,000원
1104	2015-06-01 15시	16시	wafer cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	84,000원
1105	2015-06-03 11시	12시	4-3-2 NW SPM PR Strip	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
1106	2015-06-03 12시	13시	4-3-3 NW Polymer Strip	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
1107	2015-06-03 13시	14시	native oxide 제거	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	56,000원
1108	2015-06-03 15시	16시	대학원 신입생입니다. 장비 사용법을 배우고자 합니다. (SPM+DHF)	포항공과대학교	기계공학과	윤관호	200,000원
1109	2015-06-05 12시	13시	3-1-1 hard mask pre clean SPM 3-1-2 hard mask pre clean DHF	전북대학교	전자공학부	김기현	175,000원
1110	2015-06-05 13시	14시	5-1-1 Pre clean Spm 10min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
1111	2015-06-05 14시	15시	5-1-2 Pre clean 100:1 DHF 20sec	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
1112	2015-06-05 14시	15시	SiO2 제거	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	56,000원
1113	2015-06-05 9시	11시	APM(480s)+DHF(1000:1)(45s) WS3 recipe-TEST45 / 회	나노종합기술원	CMOS소자팀	전호승	270,000원
1114	2015-06-08 13시	14시	2-2-2 Metal Gate oxide etch 재작업 dhf 100:1 10s	전북대학교	전자공학부	김기현	70,000원
1115	2015-06-08 14시	15시	6-1 metal photo preclean SPM	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
1116	2015-06-08 15시	16시	PR Strip	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	96,000원
1117	2015-06-09 14시	16시	3-2-1 NW Photo preclean SPM 3-2-2 NW Photo preclean DHF	전북대학교	전자공학부	김기현	175,000원
1118	2015-06-09 15시	19시	TMAH bath 사용	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	175,000원
1119	2015-06-10 13시	14시	6-2-1 Wet Etch Dhf 100:1 10min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
1120	2015-06-10 15시	16시	MEMS Cap Process_Cavity ET (SPM)	(주)유우일렉트로닉스	부설연구소	김형원	200,000원
1121	2015-06-10 16시	17시	spm cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
1122	2015-06-11 10시	11시	SPM Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	84,000원
1123	2015-06-11 11시	15시	MEMS Cap Process_Cavity ET (Si Etch, 인산)	(주)유우일렉트로닉스	부설연구소	김형원	900,000원
1124	2015-06-11 16시	17시	3-4-2 NW PR Remove SPM PR Strip	전북대학교	전자공학부	김기현	105,000원
1125	2015-06-11 17시	18시	3-4-3 NW PR Remove Polymer Strip	전북대학교	전자공학부	김기현	70,000원
1126	2015-06-15 11시	12시	5-1-1 GATE dielectric SPM 10min	전북대학교	전자공학부	김기현	105,000원
1127	2015-06-15 12시	13시	5-1-2 Gate dielectric 100:1 dhf 20sec	전북대학교	전자공학부	김기현	70,000원
1128	2015-06-15 16시	17시	oxide 제거	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	56,000원
1129	2015-06-15 17시	18시	pR strip	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	84,000원
1130	2015-06-15 9시	10시	3-5-1 NW hard mask remove dhf 2min	전북대학교	전자공학부	김기현	70,000원
1131	2015-06-16 10시	11시	dHF etching	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	56,000원
1132	2015-06-16 14시	15시	0-2-1 fab-in clean SPM 0-2-2 fab-in clean DHF	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	175,000원
1133	2015-06-17 14시	15시	dHF cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	56,000원
1134	2015-06-17 15시	16시	1-1-1 Pre clean SPM 10min	전북대학교	전자공학부	김기현	105,000원
1135	2015-06-17 15시	16시	1-1-2 Pre Clean 100:1 dhf 30s	전북대학교	전자공학부	김기현	70,000원
1136	2015-06-17 16시	17시	1-1-2 Pre Clean 100:1 dhf 30s	전북대학교	전자공학부	김기현	70,000원
1137	2015-06-17 17시	18시	pR strip	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	84,000원
1138	2015-06-18 13시	14시	Clean process SPM	포항공과대학교	전자전기공학부	윤솔	84,000원
1139	2015-06-18 13시	14시	Clean process DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	56,000원
1140	2015-06-22 10시	12시	2-1-2 active photo spm 2-1-3 active photo dhf	전북대학교	전자공학부	김기현	175,000원
1141	2015-06-22 13시	14시	DHF 및 SPM	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	154,000원
1142	2015-06-22 16시	17시	SPM cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
1143	2015-06-22 17시	18시	native oxide 제거	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	56,000원
1144	2015-06-23 10시	11시	SPM+DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	133,000원
1145	2015-06-23 14시	15시	2-3-2 Active SPM PR Strip	전북대학교	전자공학부	김기현	105,000원
1146	2015-06-23 14시	15시	1-1-1 DIEL Pre Cleaning spm 1-1-2 DIEL Pre Cleaning dhf	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	175,000원
1147	2015-06-23 14시	15시	2-3-3 Active DHF Polymer Strip	전북대학교	전자공학부	김기현	70,000원
1148	2015-06-23 18시	19시	non ITO wafer 메탈 증착 전 native oxide 제거 100:1 DHF 30sec	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	56,000원
1149	2015-06-24 10시	11시	3-1-1 hard mask pre clean spm 3-1-2 hard mask pre clean dhf	전북대학교	전자공학부	김기현	175,000원
1150	2015-06-24 11시	12시	pR strip	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	84,000원
1151	2015-06-24 12시	14시	SiO2 Etch	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	70,000원
1152	2015-06-30 16시	17시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	112,000원
1153	2015-06-30 9시	10시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	56,000원
1154	2015-07-02 11시	12시	3-5-2 SD IMP SPM PR Strip	전북대학교	전자공학부	김기현	105,000원
1155	2015-07-03 16시	17시	2-3-3 Release (BOE)	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	105,000원
1156	2015-07-07 9시	11시	4-1-1 NW Photo pre clean spm 4-1-2 NW Photo pre clean dhf	전북대학교	전자공학부	김기현	175,000원
1157	2015-07-08 10시	12시	0-1-4 Fab-in apm clean 0-1-5 Fab-in spm clean	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	210,000원
1158	2015-07-08 12시	13시	APM(480s)+DHF(1000:1)(45s) WS3 recipe-TEST45 / 1회	나노종합기술원	CMOS소자팀	전호승	135,000원
1159	2015-07-13 14시	15시	1-3-2 AKEY SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
1160	2015-07-13 9시	11시	SPM	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
1161	2015-07-15 14시	15시	spm cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
1162	2015-07-16 10시	11시	1-1-2 DIEL Pre Cleaning Pre Clean Oxide Etch dHF(1:100) 1 min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
1163	2015-07-16 11시	12시	4-3-2 NW SPM PR Strip	전북대학교	전자공학부	김기현	105,000원
1164	2015-07-16 11시	12시	4-3-3 NW Polymer Strip	전북대학교	전자공학부	김기현	70,000원
1165	2015-07-16 12시	13시	4-3-2 NW SPM PR Strip	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
1166	2015-07-16 13시	14시	4-3-3 NW Polymer Strip	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
1167	2015-07-16 9시	10시	1-1-1 DIEL Pre Cleaning Pre Clean Bath_SPM SPM 10min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
1168	2015-07-20 10시	11시	0-2-1 Fab-in clean spm 0-2-2 Fab-in clean dhf	(주)엔디디	경영지원팀	최영	250,000원
1169	2015-07-20 11시	12시	인산 클리닝	(주)예스파워테크닉스	연구소	강예환	300,000원
1170	2015-07-20 14시	15시	5-1-1 DIEL gate oxide spm 5-1-2 DIEL gate oxide dhf	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	175,000원
1171	2015-07-20 14시	15시	5-1-1 DIEL gate dielectric pre clean spm 5-1-2 DIEL gate dielectric pre clean dhf	전북대학교	전자공학부	김기현	175,000원
1172	2015-07-21 13시	15시	5-1-2 DIEL Gate dielectirc pre clean dhf (재작업,재작업2분)	전북대학교	전자공학부	김기현	140,000원
1173	2015-07-22 11시	12시	2-3-2 ISO SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
1174	2015-07-23 10시	11시	6-1-1 METAL photo pre clean spm	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
1175	2015-07-23 16시	17시	SiC 6인치 Sac Oxidation 전 Clean-1	한국전자통신연구원(서강대학교)	IT융합부품연구실(전자공학과)	조두형	150,000원
1176	2015-07-23 16시	17시	SiC 6인치 Sac Oxidation 전 Clean-2	한국전자통신연구원(서강대학교)	IT융합부품연구실(전자공학과)	조두형	150,000원
1177	2015-07-23 16시	17시	SiC 6인치 Sac Oxidation 전 Clean-3	한국전자통신연구원(서강대학교)	IT융합부품연구실(전자공학과)	조두형	100,000원
1178	2015-07-23 23시	24시	SiC 6인치 Sac Oxidation 후 Oxide Strip	한국전자통신연구원(서강대학교)	IT융합부품연구실(전자공학과)	조두형	150,000원
1179	2015-07-23 9시	10시	SiC 6인치 Pre Clean	한국전자통신연구원(서강대학교)	IT융합부품연구실(전자공학과)	조두형	150,000원
1180	2015-07-27 10시	11시	6-2-1 dhf 100:1 5min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
1181	2015-07-28 15시	16시	2-1-1 metal pre cleaning spm 2-1-2 metal pre cleaning dhf	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	175,000원
1182	2015-07-29 10시	11시	APM(480s)+DHF(1000:1)(45s) WS3 recipe-TEST45 / 1회	나노종합기술원	CMOS소자팀	전호승	135,000원
1183	2015-08-03 13시	14시	Preclean SPM+DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	140,000원
1184	2015-08-03 20시	21시	8/3 오후 2시 (SPM + DHF + dryer) 사용건 + wafer cleaving tool 1시간	포항공과대학교	기계공학과	윤관호	170,000원
1185	2015-08-07 10시	11시	3-4-1 RCSS GOX ALD pre cleaning	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
1186	2015-08-07 11시	12시	APM(480s)+DHF(1000:1)(45s) WS3 recipe-TEST45 / 1회	나노종합기술원	CMOS소자팀	전호승	135,000원
1187	2015-08-10 10시	11시	6-2-2 gate oxide etch DHF 100:1 1min	전북대학교	전자공학부	김기현	70,000원
1188	2015-08-10 9시	10시	1.Strain Gate_ 전처리	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유호천	105,000원
1189	2015-08-11 16시	17시	Si Dry Etch 후 Polymer Remove	(주)니나노	기업부설연구소	박준영	0원
1190	2015-08-12 10시	11시	SPM & dHF	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	168,000원
1191	2015-08-12 11시	12시	SiO2 100nm 식각	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	56,000원
1192	2015-08-12 13시	14시	SPM cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	84,000원
1193	2015-08-12 16시	17시	14. Split Gate_SPM	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유호천	105,000원
1194	2015-08-12 8시	9시	SPM Cleaning 1회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
1195	2015-08-12 9시	10시	DHF Cleaning	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
1196	2015-08-18 15시	16시	1-1-1 precleaning SPM 10min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
1197	2015-08-18 16시	17시	1-1-2 pre cleaning 100:1 dhf 30sec	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
1198	2015-08-18 16시	17시	4-3-3 GATE Polymer Remove	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
1199	2015-08-19 10시	11시	1-2-3 Ch.IIP wafer thinning oxide remove	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
1200	2015-08-19 11시	12시	Thinning oxide 전 SPM cleaning 12매 6매 2회 진행	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	210,000원
1201	2015-08-19 13시	15시	Cleaning SPM+BOE with Spindryer	한국전기연구원	전력반도체연구센터	석오균	216,000원
1202	2015-08-20 10시	10시	DHF 1min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	이동규	70,000원
1203	2015-08-20 17시	18시	SOI Thinning BOE Etching 500A	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
1204	2015-08-20 17시	18시	Initial clenaing SPM DHF	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	175,000원
1205	2015-08-20 9시	10시	SPM 10min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	이동규	105,000원
1206	2015-08-21 13시	14시	1-4-4 Ch.IIP ION implant SiO2 Wet Etch dHF (1:100), 3min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
1207	2015-08-21 16시	17시	2-1-1 Active photo pre clean spm 2-1-2 Active photo pre clean dhf	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	175,000원
1208	2015-08-24 13시	15시	0-1-4 Fab-in APM Clean 0-1-5 Fab-in SPM Clean	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	210,000원
1209	2015-08-24 15시	16시	DHF 100:1 30sec with spindryer for pre-cleaning	연세대학교	신소재공학과	김영모	200,000원
1210	2015-08-26 10시	11시	2-3-3 Active SPM PR Strip	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
1211	2015-08-26 11시	12시	2-3-3 Active Polymer Strip	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
1212	2015-08-26 13시	14시	5-3-3 CNT Polymer Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
1213	2015-08-26 15시	16시	dHF cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	56,000원
1214	2015-08-27 10시	11시	SPM 클리닝	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
1215	2015-08-27 10시	11시	1-3-2 AKEY SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
1216	2015-08-27 11시	11시	precleaning DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	56,000원
1217	2015-08-27 11시	12시	6-3-2 MET1 Polymer Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
1218	2015-08-27 15시	16시	dhf + spm	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	84,000원
1219	2015-08-27 16시	17시	DHF Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학부	윤솔	56,000원
1220	2015-08-27 16시	17시	5-4-1 CNT MET1 Depo. Cleaning sc-2	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	210,000원
1221	2015-08-27 9시	10시	3-1-1 SD.IIP Hard Mask pre clean SPM 3-1-2 SD.IIP Hard Mask pre clean DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	175,000원
1222	2015-08-28 11시	12시	7-3-3 VIA Polymer Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
1223	2015-08-28 11시	12시	0-2-1 FI Fab-in clean spm 0-2-2 FI Fab-in clean dhf	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	175,000원
1224	2015-08-28 14시	15시	SPM 공정	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	84,000원
1225	2015-08-28 15시	16시	PECVD SiO2 20nm 식각	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	168,000원
1226	2015-08-31 11시	15시	3-4-2 ETCH Backside Etch Si Wet Etching Wet station 8/28~31 TEMA 1hr(8/28) + 2hr(8/31) 2회 사용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	420,000원
1227	2015-08-31 15시	16시	Cleaning SPM	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	84,000원
1228	2015-08-31 16시	17시	Cleaning DHF(100:1)	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	56,000원
1229	2015-08-31 17시	18시	SPM Cleaning 10min BOE(10:1) 2min with spindryer	LG전자	SIC센터 ICS팀	김수진	240,000원
1230	2015-08-31 18시	19시	BOE	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	105,000원
1231	2015-08-31 9시	10시	8-2-1 MET2 Metal Wet Etch	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
1232	2015-09-01 11시	13시	Cleaning SPM BOE	한국전기연구원	전력반도체연구센터	석오균	216,000원
1233	2015-09-02 13시	13시	Native oxide 제거	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	56,000원
1234	2015-09-02 13시	14시	DHF 30 Sec	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	56,000원
1235	2015-09-02 14시	15시	SPM 10분	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	84,000원
1236	2015-09-02 15시	18시	3-4-2 ETCH Backside Etch Si Wet Etching Wet station 8/28~31 TEMA 1hr 1회(9/1) + 30min 2회(9/2) 2회 사용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	420,000원
1237	2015-09-03 11시	12시	spm 클리닝	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
1238	2015-09-03 16시	17시	Native Oxide Clean	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	56,000원
1239	2015-09-04 10시	11시	Native oxide removal	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	56,000원
1240	2015-09-04 13시	14시	3-6-1 hard mask remove 100:1 dhf 3min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
1241	2015-09-04 15시	16시	SiO2 100nm remove	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	56,000원
1242	2015-09-08 11시	12시	dHF 3min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	56,000원
1243	2015-09-08 19시	20시	Wafer Cleaning(SPM+BOE)	포항공과대학교	기계공학과	김인기	160,000원
1244	2015-09-08 23시	17시	1-3-5 Back Side Si Etch / TMAH Bath (9/8) 9hr (9/9) 6hr	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	420,000원
1245	2015-09-09 10시	12시	오전 10:30~12:00, 16:00~17:30 cleaning 2회 진행하려고 합니다. 공정 전에 wet station 온도확인 부탁드립니다.^^;; RCA cleaning SPM, SC1, SC2 각 10분, BOE 1분, spin dry 진행하겠습니다.	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	324,000원
1246	2015-09-09 16시	17시	오전 10:30~12:00, 16:00~17:30 cleaning 2회 진행하려고 합니다. 공정 전에 wet station 온도확인 부탁드립니다.^^;; RCA cleaning SPM, SC1, SC2 각 10분, BOE 1분, spin dry 진행하겠습니다.	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	549,000원
1247	2015-09-09 19시	20시	웨이퍼 클리닝 (황산클리닝) 9/9 오후 5시 30분 사용건	포항공과대학교	기계공학과	윤관호	96,000원
1248	2015-09-09 9시	10시	4-1-1 NW photo pre clean SPM 4-1-2 NW photo pre clean DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	175,000원
1249	2015-09-10 10시	12시	0-1-3 fab-in clean spm+dhf				250,000원
1250	2015-09-10 11시	12시	석오균 박사님께서 따로 연락하시겠지만 예약하겠습니다. 목요일 오전 11:00~ RCA cleaning SPM, SC1, SC2 각 10분, BOE 1분, spin dry 진행하겠습니다.	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	216,000원
1251	2015-09-10 12시	13시	spm cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
1252	2015-09-14 11시	12시	2-1-2 metal cleaning hot di 2-1-3 metal cleaning dhf + qdr 2-1-4 metal cleaning dhf + qdr				200,000원
1253	2015-09-14 21시	22시	SiN 200nm etch	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	175,000원
1254	2015-09-15 10시	12시	Cleaning(SPM+DHF)	한국전기연구원	전력반도체연구센터	석오균	180,000원
1255	2015-09-15 11시	12시	2-1-1 Metal SPM Cleaning				150,000원
1256	2015-09-15 13시	14시	SPM 10min + dHF 30 sec	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	140,000원
1257	2015-09-16 14시	15시	SPM cleaning	한국전기연구원	전력반도체연구센터	석오균	135,000원
1258	2015-09-16 16시	17시	SOI wafer thinning Ox strip	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	150,000원
1259	2015-09-16 17시	18시	SPM Cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	105,000원
1260	2015-09-17 10시	11시	1-1-1 Pre clean Spm 10 min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
1261	2015-09-17 10시	11시	1-1-2 Pre Clean dhf 100:1 1min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
1262	2015-09-17 11시	13시	SPM + DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	140,000원
1263	2015-09-17 16시	18시	SPM+DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	140,000원
1264	2015-09-18 13시	14시	SPM 10min Cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	84,000원
1265	2015-09-18 15시	16시	oxide 20nm 제거	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	56,000원
1266	2015-09-21 10시	11시	pre-cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	84,000원
1267	2015-09-21 11시	12시	pre-cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	56,000원
1268	2015-09-21 13시	14시	dhf bath 사용(2회사용)	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	112,000원
1269	2015-09-22 10시	12시	오전(SPM)	한국전기연구원	전력반도체연구센터	석오균	108,000원
1270	2015-09-23 11시	12시	SPM	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	84,000원
1271	2015-09-23 11시	12시	5-1-1 DIEL gate oxide pre clean spm	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
1272	2015-09-23 12시	13시	dHF cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	56,000원
1273	2015-09-23 13시	19시	SPM+H3PO4	나노융합기술원	기술지원팀	황현주	450,000원
1274	2015-09-23 9시	11시	BOE Cleaning(10~11) SPM Cleaning(12~01)	한국전기연구원	전력반도체연구센터	석오균	216,000원
1275	2015-09-24 10시	12시	SPM	한국전기연구원	전력반도체연구센터	석오균	108,000원
1276	2015-09-24 10시	11시	특허 과제(2.0007176.01) 관련 SiC 시편 전처리 APM 10분 진행	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
1277	2015-09-24 11시	12시	BOE 10:1	나노융합기술원	기술지원팀	황현주	150,000원
1278	2015-09-24 9시	10시	5-1-2 Gate Ox Pre Clean DHF 20sec	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
1279	2015-09-25 10시	12시	TMAH Si 식각	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	175,000원
1280	2015-09-25 11시	12시	인산 Bath 1회(SiN Etching 조각 샘플 5ea 10min)	경북대학교	전자공학과	임기식	300,000원
1281	2015-09-30 10시	12시	SPM+BOE	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	168,000원
1282	2015-09-30 10시	11시	6-1-1 METAL photo pre clean spm	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
1283	2015-10-02 15시	16시	Buffer oxide 제거	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	56,000원
1284	2015-10-05 10시	13시	PEOxide removal DHF+ SPM	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	140,000원
1285	2015-10-05 13시	15시	0-1-4 Fab-in APM clean 0-1-5 Fab-in SPM clean	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	210,000원
1286	2015-10-05 15시	16시	0-1-2 Clean APM 10min (105,000원)	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유호천	0원
1287	2015-10-05 17시	18시	dHF cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	56,000원
1288	2015-10-06 10시	12시	SPM 10 min + dHF 30 sec	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	140,000원
1289	2015-10-06 12시	13시	dhf	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	56,000원
1290	2015-10-06 16시	17시	1-3-1 AKEY SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
1291	2015-10-07 11시	12시	precleaning 수행 SPM 10 min dHF 30sec 수행	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	140,000원
1292	2015-10-07 14시	15시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	56,000원
1293	2015-10-07 14시	15시	0-1-2 Clean Pre Clean Bath_APM APM 10min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유호천	0원
1294	2015-10-07 15시	17시	pR strip(SPM) oxide remove(dHF)	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	140,000원
1295	2015-10-08 17시	18시	2-3-2 ISO SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
1296	2015-10-08 17시	18시	sio2 5nm 제거	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	56,000원
1297	2015-10-08 18시	19시	SPM 1회 사용.	포항공과대학교	기계공학과	김인기	96,000원
1298	2015-10-12 16시	17시	2-1-1 METAL pre cleaning SPM 2-1-1 METAL pre cleaning DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	175,000원
1299	2015-10-14 15시	16시	SiN, PR strip	포항공과대학교	전자과	백상원	84,000원
1300	2015-10-14 16시	20시	TMAH etch test (500 um) SiN 300 nm (etch mask)	포항공과대학교	전자과	백상원	175,000원
1301	2015-10-15 10시	11시	3-4-1 RCSS GOX ALD pre cleaning	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
1302	2015-10-19 13시	14시	dhf cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	56,000원
1303	2015-10-19 14시	15시	spm cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
1304	2015-10-19 17시	18시	SPM+DHF	전북대학교	전자공학부	김기현	175,000원
1305	2015-10-21 10시	11시	5-4-1 CNT MET1 Depo. SC-2	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	210,000원
1306	2015-10-21 11시	12시	SPM cleaning + dHF cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	140,000원
1307	2015-10-21 14시	15시	0-2-1 Cleaning(SPM+DHF)	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	175,000원
1308	2015-10-21 14시	15시	11시 SPM 15시 DHF	포항공과대학교	미래IT융합연구원	김유미	140,000원
1309	2015-10-22 15시	17시	1-3 Back Side Etch_Oxide	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	470,000원
1310	2015-10-22 17시	23시	1-3-5 Back Side Si Wet Etch	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	630,000원
1311	2015-10-23 11시	12시	SPM	포항공과대학교	미래IT융합연구원	김유미	84,000원
1312	2015-10-23 12시	13시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학부	윤솔	56,000원
1313	2015-10-23 17시	18시	Patterned SOI wafer 3ea SPM	포항공과대학교	미래IT융합연구원	김유미	84,000원
1314	2015-10-23 9시	11시	SPM	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	84,000원
1315	2015-10-26 14시	15시	Patterned SOI wafer cleaning : 3ea SPM+DHF	포항공과대학교	미래IT융합연구원	김유미	140,000원
1316	2015-10-26 15시	16시	3-4-1 Front Side Oxide Etch_BOE	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	105,000원
1317	2015-10-27 13시	14시	8inch SOI Wafer 3ea SPM + dHF	포항공과대학교	미래IT융합연구원	김유미	140,000원
1318	2015-10-28 12시	13시	8-1-5 silver metal photo sc2 cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	210,000원
1319	2015-10-28 15시	16시	석오균 박사님 SPM, BOE cleaning 진행 예정입니다.	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	216,000원
1320	2015-10-29 12시	13시	SPM(pr strip) + DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	140,000원
1321	2015-10-29 15시	16시	dHF	포항공과대학교	미래IT융합연구원	김유미	56,000원
1322	2015-10-29 16시	18시	TMAH Si Wet Etch	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	460,000원
1323	2015-10-30 13시	14시	PR strip (GXR 601)	포항공과대학교	전자과	백상원	84,000원
1324	2015-10-30 13시	14시	Ti Silicide 평가 Test RTP silicide 후 Ti 제거 (SPM 20분 진행)- 10장씩 진행 함	전북대학교	전자공학부	김기현	210,000원
1325	2015-10-30 14시	24시	SiO2 mask / Si 600 um 식각	포항공과대학교	전자과	백상원	175,000원
1326	2015-10-30 9시	10시	sio2 제거	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	56,000원
1327	2015-11-02 11시	12시	SPM	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	84,000원
1328	2015-11-03 10시	11시	1-1-2 Pre Cleaning DHF 2min	전북대학교	전자공학부	김기현	105,000원
1329	2015-11-03 11시	14시	PEOxide removal	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	56,000원
1330	2015-11-03 17시	18시	SPM+ DHF 공정진행	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	140,000원
1331	2015-11-03 18시	19시	SOI wafer 조각 클리닝. SPM 사용하려고 합니다.	포항공과대학교	기계공학과	김인기	84,000원
1332	2015-11-03 9시	11시	1-1-2 Pre Cleaning DHF 2min	전북대학교	전자공학부	김기현	70,000원
1333	2015-11-04 10시	12시	SPM+ DHF 공정진행	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	140,000원
1334	2015-11-04 13시	15시	6inch SOI wafer 2ea SPM + dHF	포항공과대학교	미래IT융합연구원	김유미	140,000원
1335	2015-11-04 8시	9시	SPM	포항공과대학교	전자과	백상원	84,000원
1336	2015-11-05 11시	12시	SPM+DHF 사용 cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	140,000원
1337	2015-11-05 12시	14시	DHF bath 사용	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	56,000원
1338	2015-11-05 15시	16시	1-1-1 pre cleaning spm 1-1-2 pre cleaning dhf	전북대학교	전자공학부	김기현	175,000원
1339	2015-11-05 16시	17시	DHF bath	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	56,000원
1340	2015-11-05 8시	9시	SPM+DHF 사용	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	140,000원
1341	2015-11-06 11시	12시	SPM (SOI wafer에 PR 있습니다)	포항공과대학교	미래IT융합연구원	김유미	84,000원
1342	2015-11-06 12시	13시	front(polished) 548 nm oxide etch 20% over& back(unpolished) 1um oxide etch 50% over PR remove - SPM	포항공과대학교	전자과	백상원	84,000원
1343	2015-11-06 13시	15시	TMAH etch Si 600 um	포항공과대학교	전자과	백상원	175,000원
1344	2015-11-06 15시	16시	Wafer clean dHF (30sec)	포항공과대학교	미래IT융합연구원	김유미	56,000원
1345	2015-11-06 9시	10시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	56,000원
1346	2015-11-09 13시	14시	SiO2 etch SPM	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	84,000원
1347	2015-11-09 15시	16시	SiO2 etch	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	56,000원
1348	2015-11-10 10시	11시	0-2-1 Fab-in_Cleaning(SPM+DHF)	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	210,000원
1349	2015-11-10 14시	15시	6inch 2ea SPM	포항공과대학교	미래IT융합연구원	김유미	84,000원
1350	2015-11-10 18시	24시	Si etch test	포항공과대학교	전자과	백상원	175,000원
1351	2015-11-11 10시	11시	SPM + dHF	포항공과대학교	미래IT융합연구원	김유미	140,000원
1352	2015-11-11 14시	15시	1-3-1 Back Side Oxide Etch_BOE	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	105,000원
1353	2015-11-11 17시	18시	1-3-6 Silicide Silicide Formation Ti Removal Bath_SPM	전북대학교	전자공학부	김기현	105,000원
1354	2015-11-12 12시	13시	0-1-1 DIEL pre cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	115,000원
1355	2015-11-12 13시	14시	9-3-3 VIA Polymer Re move	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
1356	2015-11-12 13시	14시	SiO2 etching	포항공과대학교	전자과	백상원	56,000원
1357	2015-11-12 14시	15시	SPM 10m 2매	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
1358	2015-11-12 16시	17시	SPM + dHF	포항공과대학교	미래IT융합연구원	김유미	140,000원
1359	2015-11-12 18시	23시	Si etching	포항공과대학교	전자과	백상원	175,000원
1360	2015-11-12 9시	11시	1-3-5 Back Side Si Wet Etch_TMAH	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	630,000원
1361	2015-11-13 11시	12시	dHF	포항공과대학교	미래IT융합연구원	김유미	56,000원
1362	2015-11-16 14시	15시	SPM + BOE	포항공과대학교	미래IT융합연구원	김유미	168,000원
1363	2015-11-16 14시	15시	SPM+DHF	포항공과대학교	전자전기공학부	윤솔	140,000원
1364	2015-11-17 16시	17시	SOI 2매 BOE 10:1 thinning	포항공과대학교	미래IT융합연구원	김유미	105,000원
1365	2015-11-18 10시	11시	SPM + dHF	포항공과대학교	미래IT융합연구원	김유미	140,000원
1366	2015-11-19 14시	15시	열전발전소자 DHF bath 사용	전북대학교	전자공학부	김기현	70,000원
1367	2015-11-19 15시	16시	Ti Etch SPM 20min 조각2ea	전북대학교	전자공학부	김기현	105,000원
1368	2015-11-20 15시	16시	DHF bath 사용	포항공과대학교	미래IT융합연구원	김유미	56,000원
1369	2015-11-23 10시	11시	dHF	포항공과대학교	미래IT융합연구원	김유미	56,000원
1370	2015-11-23 11시	12시	SPM Cleaning_quartz wafer 1매 10분 1회	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
1371	2015-11-23 9시	10시	PSS_Cleaning	SSADT	경영지원	지이권	300,000원
1372	2015-11-24 10시	11시	dHF	포항공과대학교	미래IT융합연구원	김유미	56,000원
1373	2015-11-24 11시	12시	SPM cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	84,000원
1374	2015-11-25 13시	14시	1-2-2 Wet Etch	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	50,000원
1375	2015-11-25 14시	18시	Lamella Grating Wet Etch Test	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	520,000원
1376	2015-11-25 9시	10시	PSS Cleaning	SSADT	경영지원	지이권	300,000원
1377	2015-11-26 11시	12시	Cleaning SPM 10 min 수행	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	84,000원
1378	2015-11-27 15시	16시	dHF	포항공과대학교	미래IT융합연구원	김유미	56,000원
1379	2015-11-30 10시	11시	SPM + dHF	포항공과대학교	미래IT융합연구원	김유미	140,000원
1380	2015-12-01 11시	12시	SPM + dHF	포항공과대학교	미래IT융합연구원	김유미	140,000원
1381	2015-12-01 9시	11시	SPM+DHF	포항공과대학교	전자전기공학부	윤솔	140,000원
1382	2015-12-02 10시	11시	SPM	한국전기연구원	전력반도체연구센터	석오균	108,000원
1383	2015-12-04 12시	13시	initial cleaning SPM	포항공과대학교	전자과	백상원	84,000원
1384	2015-12-04 14시	15시	soi웨이퍼 클리닝(임태욱 교수님 사용)	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	84,000원
1385	2015-12-04 15시	16시	dHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	56,000원
1386	2015-12-07 10시	11시	dhf+spm	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	140,000원
1387	2015-12-07 13시	14시	0-1-2 APM 70도 10분 + DHF 1:100 1분	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
1388	2015-12-07 13시	14시	0-1-2 APM 70도 10분 + DHF 1:100 1분	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
1389	2015-12-07 14시	15시	4-9-1 Gate Ox wet strip BOE 3min	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
1390	2015-12-08 10시	11시	SPM cleaning 진행 예정입니다.	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	108,000원
1391	2015-12-08 12시	13시	SPM Only	포항공과대학교	미래IT융합연구원	김유미	84,000원
1392	2015-12-08 13시	14시	PR cleaning	포항공과대학교	전자과	백상원	84,000원
1393	2015-12-08 14시	15시	SPM cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	84,000원
1394	2015-12-08 14시	15시	PR cleaning	포항공과대학교	전자과	백상원	56,000원
1395	2015-12-08 15시	19시	Si 300um etching	포항공과대학교	전자과	백상원	175,000원
1396	2015-12-08 15시	16시	SPM + dHF	포항공과대학교	미래IT융합연구원	김유미	140,000원
1397	2015-12-08 16시	17시	10-2-1 MET1 Metal Wet Etch	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
1398	2015-12-08 17시	18시	SPM cleaning 진행 예정입니다.	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	108,000원
1399	2015-12-09 12시	13시	dHF only	포항공과대학교	미래IT융합연구원	김유미	56,000원
1400	2015-12-09 14시	18시	Si 350 um 식각 (SiO2 hard mask)	포항공과대학교	전자과	백상원	175,000원
1401	2015-12-09 17시	18시	Si Pillar Etch 후 Hard Mask 제거	전북대학교	전자공학부	김기현	105,000원
1402	2015-12-10 10시	11시	SPM, DHF	포항공과대학교	미래IT융합연구원	김유미	140,000원
1403	2015-12-10 11시	12시	DHF bath	포항공과대학교	전자과	백상원	56,000원
1404	2015-12-10 13시	14시	spm+dhf	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	140,000원
1405	2015-12-10 14시	15시	PR cleaning	포항공과대학교	전자과	백상원	84,000원
1406	2015-12-10 23시	17시	PR cleaning TMAH	포항공과대학교	전자과	백상원	175,000원
1407	2015-12-11 11시	13시	tmah 사용	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	175,000원
1408	2015-12-11 9시	10시	SPM only	포항공과대학교	미래IT융합연구원	김유미	84,000원
1409	2015-12-14 13시	14시	dHF only	포항공과대학교	미래IT융합연구원	김유미	56,000원
1410	2015-12-14 15시	16시	BOE	전북대학교	전자공학부	김기현	105,000원
1411	2015-12-14 16시	17시	dhf bath	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	56,000원
1412	2015-12-15 12시	13시	initial cleaning for oxidation process	포항공과대학교	전자과	백상원	84,000원
1413	2015-12-15 13시	14시	DHF+SPM 오후 한시 예약한 시간에 맞추어 SPM Bath 온도 올려주시기를 부탁드리겠습니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	140,000원
1414	2015-12-15 14시	15시	initial cleaning for oxidation process	포항공과대학교	전자과	백상원	56,000원
1415	2015-12-15 16시	17시	0-2-1 Fab-in clean spm	포항공과대학교	기계공학과	윤나리	105,000원
1416	2015-12-15 9시	12시	미래부 전문인력양성_소자공정 실습 (Cleaning)	나노융합기술원	교육홍보팀	김병수	600,000원
1417	2015-12-16 11시	12시	PR cleaning	포항공과대학교	전자과	백상원	84,000원
1418	2015-12-16 16시	17시	SPM only	포항공과대학교	미래IT융합연구원	김유미	84,000원
1419	2015-12-16 17시	20시	TMAH 사용	포항공과대학교	전자과	백상원	210,000원
1420	2015-12-17 10시	11시	SPM 10min + dHF 30 sec cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	140,000원
1421	2015-12-17 10시	11시	SPM+DHF	삼성종합기술원	디바이스랩	김선일	200,000원
1422	2015-12-18 11시	11시	spm+dhf	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	140,000원
1423	2015-12-18 13시	14시	SPM, dHF	포항공과대학교	미래IT융합연구원	김유미	140,000원
1424	2015-12-18 13시	14시	PR cleaning	포항공과대학교	전자과	백상원	84,000원
1425	2015-12-21 14시	15시	dHF only	포항공과대학교	미래IT융합연구원	김유미	56,000원
1426	2015-12-22 11시	12시	SPM cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	84,000원
1427	2015-12-23 11시	13시	tmah 사용	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	175,000원
1428	2015-12-23 13시	14시	dHF only	포항공과대학교	미래IT융합연구원	김유미	56,000원
1429	2015-12-24 10시	12시	tmah	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	175,000원
1430	2015-12-24 10시	11시	dHF 5 min 수행	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	56,000원
1431	2015-12-24 11시	12시	SPM 10 min 수행	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	84,000원
1432	2015-12-28 14시	15시	spm+dhf	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	140,000원
1433	2015-12-29 10시	11시	spm+dhf	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	140,000원
1434	2015-12-29 11시	12시	표면 처리 Oxide Remove	포항공과대학교	기계공학과	윤나리	105,000원
1435	2015-12-29 13시	14시	MCS Project_Si DRIE : 100/240um 2-7-1 2nd Mask Bottom Treatment Cleaning Wet Station 12/29 13~16 3(+3) SC1	포항공과대학교	기계공학과	윤나리	105,000원
1436	2015-12-29 13시	14시	MCS Project_Si DRIE : 100/240um 2-7-1 2nd Mask Bottom Treatment Cleaning Wet Station 12/29 13~16 3(+3) SC2	포항공과대학교	기계공학과	윤나리	210,000원
1437	2015-12-29 14시	15시	MCS Project_Si DRIE : 100/240um 2-7-1 2nd Mask Bottom Treatment Cleaning Wet Station 12/29 13~16 3(+3) DHF	포항공과대학교	기계공학과	윤나리	100,000원
1438	2016-01-04 14시	15시	dhf	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	56,000원
1439	2016-01-05 10시	14시	H3PO4+BOE10:1	나노융합기술원	기술지원팀	황현주	450,000원
1440	2016-01-06 10시	11시	dhf bath 사용	전북대학교	전자공학부	김기현	70,000원
1441	2016-01-06 15시	16시	0-2-1 fab-in clean spm 0-2-2 fab-in clean dhf	(주)엔디디	기술연구	최은아	250,000원
1442	2016-01-11 11시	12시	0-2-1 fab-in clean SPM 10min + DHF 1min	고려대학교	전기전자공학부	장환준	250,000원
1443	2016-01-11 13시	14시	SPM 10min + dHF 30 sec	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	140,000원
1444	2016-01-12 14시	15시	dHf / SiO2 에칭	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	112,000원
1445	2016-01-13 13시	14시	spm+dhf	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	140,000원
1446	2016-01-13 14시	15시	0-2-1 fab-in clean	고려대학교	전기전자공학부	장환준	135,000원
1447	2016-01-14 11시	12시	SPM+DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	140,000원
1448	2016-01-14 13시	14시	SPM cleaning	포항공과대학교	전자과	백상원	84,000원
1449	2016-01-14 13시	14시	dHF cleaning	포항공과대학교	전자과	백상원	56,000원
1450	2016-01-19 14시	15시	SPM, DHF 1회씩 사용하려고 합니다.	포항공과대학교	기계공학과	김인기	160,000원
1451	2016-01-19 15시	17시	Metal 샘플 Chemical 영향성 평가 : 온도별 평가 - 40 ~ 70 도 (10 도 간격)	코닝정밀소재	연구소	최은호	700,000원
1452	2016-01-19 16시	17시	SPM	포항공과대학교	전자과	백상원	105,000원
1453	2016-01-19 20시	22시	SPM 10분 + APM 10분 + DHF 1분	LG전자	SIC센터 ICS팀	김수진	320,000원
1454	2016-01-20 10시	11시	BOE 4분	LG전자	SIC센터 ICS팀	김수진	120,000원
1455	2016-01-20 14시	15시	pe-oxide 증착 전 pre-cleaing(APM 10min + DHF 1min)	LG전자	SIC센터 ICS팀	김수진	200,000원
1456	2016-01-22 11시	12시	1-4-2 SiN SPM Remove	고려대학교	전기전자공학부	장환준	135,000원
1457	2016-01-25 13시	14시	2-2-1 Ge Clean SC-1, DHF	고려대학교	전기전자공학부	장환준	225,000원
1458	2016-01-25 16시	17시	tmah	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	210,000원
1459	2016-01-26 14시	15시	SPM, BOE	한국전기연구원	전력반도체연구센터	석오균	198,000원
1460	2016-01-26 15시	16시	spm+dhf 오후 2시에 사용하려 합니다. spm bath에 heating 부탁드리겠습니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	140,000원
1461	2016-01-26 17시	18시	SPM 10min + dHF 5min dhf bath만 사용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	56,000원
1462	2016-01-28 14시	15시	h3po4 사용	경북대학교	전자공학과	임기식	300,000원
1463	2016-01-28 15시	17시	SPM(유상)+DHF(무상)	나노융합기술원	기술지원팀	황현주	150,000원
1464	2016-01-29 10시	11시	SPM 10min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	84,000원
1465	2016-01-29 11시	12시	dHF 10min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	56,000원
1466	2016-01-29 14시	15시	dhf 10sec	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	70,000원
1467	2016-02-01 10시	11시	에칭만 되어있는 상태 글래스는 dfr 코팅하여 샌드블라스팅 진행한 후 dfr 제거한 상태입니다. 실리콘은 여러가지 에칭공정 거친 후 SC1+SC2+DHF 틀리닝까지 한 상태이나 한달정도 지나 재클리닝 하려고 합니다.	포항공과대학교	기계공학과	윤나리	105,000원
1468	2016-02-01 14시	15시	6인치 웨이퍼 Thermal Oxidation 전 SPM Clean	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김형준	120,000원
1469	2016-02-01 14시	15시	6인치 웨이퍼 Thermal Oxidation 전 DHF Clean	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김형준	80,000원
1470	2016-02-10 9시	10시	0-2-1_SPM	포항공과대학교	기계공학과	윤나리	105,000원
1471	2016-02-11 13시	15시	웨이퍼 클리닝 SPM+DHF	전북대학교	전자공학부	김기현	140,000원
1472	2016-02-12 14시	16시	glass cleaning(서비스)	포항공과대학교	기계공학과	김수현	105,000원
1473	2016-02-12 9시	10시	dHF cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	56,000원
1474	2016-02-16 17시	18시	2-4-2 Oxide Etch	포항공과대학교	기계공학과	윤나리	105,000원
1475	2016-02-16 17시	18시	2-5-1 Cleaning	포항공과대학교	기계공학과	윤나리	245,000원
1476	2016-02-16 20시	21시	2-6-2 Thermal Oxide 3000A	포항공과대학교	기계공학과	윤나리	105,000원
1477	2016-02-17 11시	12시	2-7-1 SC1	포항공과대학교	기계공학과	윤나리	105,000원
1478	2016-02-17 17시	19시	spm cleaning	(주)에스에스에이디티	공정기술팀	조정민	450,000원
1479	2016-02-17 8시	9시	2-7-1 DHF	포항공과대학교	기계공학과	윤나리	70,000원
1480	2016-02-17 9시	10시	2-7-1 SC2	포항공과대학교	기계공학과	윤나리	210,000원
1481	2016-02-22 10시	12시	연구(SPM cleaning)	(주)에스에스에이디티	공정기술팀	조정민	150,000원
1482	2016-02-22 16시	17시	필름PR부착 후 제거.	포항공과대학교	기계공학과	윤나리	105,000원
1483	2016-02-22 9시	10시	0-1-2 Clean Bath_apm SPM 10min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유호천	105,000원
1484	2016-02-23 13시	14시	APM(480s)+DHF(1000:1,45s) Pre-Cleaning 1회	나노종합기술원	나노구조개발팀	형정환	135,000원
1485	2016-02-24 10시	12시	SPM, BOE	한국전기연구원	전력반도체연구센터	석오균	180,000원
1486	2016-02-24 9시	10시	spm+dhf	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	140,000원
1487	2016-02-25 10시	11시	APM(480s)+DHF(1000:1,45s) Pre-Cleaning 1회	나노종합기술원	나노구조개발팀	형정환	135,000원
1488	2016-02-25 13시	14시	Back Ai Wet Etch	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	70,000원
1489	2016-02-26 16시	17시	연구용(SPM Cleaning)	(주)에스에스에이디티	공정기술팀	조정민	150,000원
1490	2016-02-29 11시	13시	APM(480s)+DHF(1000:1,45s) Pre-Cleaning 1회 8inch wafer 2매	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
1491	2016-03-02 10시	11시	0-2-1 initial oxide pre cleaning SPM 0-2-2 initial oxide pre cleaning DHF	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	175,000원
1492	2016-03-02 11시	12시	SPM Cleaning Maual bath 사용	전북대학교	전자공학부	김기현	105,000원
1493	2016-03-03 15시	17시	SPM DHF Cleaning	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	180,000원
1494	2016-03-08 16시	18시	SAC Oxide Dry 후 Wet Etch	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
1495	2016-03-09 10시	11시	0-2-1 initial oxide pre cleaning spm 0-2-2 initial oxide pre cleaning dhf	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	175,000원
1496	2016-03-09 17시	18시	pre cleaning (dHF 1회도 포함)	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	84,000원
1497	2016-03-10 10시	12시	SPM, BOE cleaning	한국전기연구원	전력반도체연구센터	석오균	180,000원
1498	2016-03-10 9시	10시	pre-clenaing; SPM dHF 이용( 3/8 일에 예약했던 dHF를 이용하지 않았습니다. 지금 예약하는 시간에 이용하겠습니다. )	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	140,000원
1499	2016-03-14 10시	11시	SPM Cleaning Maual bath 사용	전북대학교	전자공학부	김기현	105,000원
1500	2016-03-14 11시	12시	pr strip dHF도 이용 (oxide removal)	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	140,000원
1501	2016-03-14 12시	14시	0-2-1 oxide initial oxide pre cleaning spm 0-2-2 oxide initial oxide pre cleaning dhf 재투입	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	175,000원
1502	2016-03-16 11시	12시	SPM + DHF	포항공과대학교	미래IT융합연구원	김유미	140,000원
1503	2016-03-16 14시	15시	APM,DHF	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	175,000원
1504	2016-03-17 12시	13시	1-3-2 Bottom Poly PR Remove SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
1505	2016-03-17 13시	14시	샘플의 에싱 후 클리닝.	포항공과대학교	물리학과	하창우	120,000원
1506	2016-03-17 15시	16시	연구용	(주)에스에스에이디티	공정기술팀	조정민	0원
1507	2016-03-21 14시	15시	pR strip (4시에 dHF 이용 1회 추가)	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	140,000원
1508	2016-03-21 14시	15시	Oxide Hard Mask PR Remove	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	0원
1509	2016-03-22 13시	14시	pre cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	84,000원
1510	2016-03-22 14시	16시	SPM Clenaning(Cu 표면 친수성 변환)[과제번호:2.0007177.01]	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	630,000원
1511	2016-03-22 17시	18시	pR strip (dHF 1회이용)	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	140,000원
1512	2016-03-23 10시	12시	SPM Clenaning(Cu 표면 친수성 변환)[과제번호:2.0007177.01]	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	630,000원
1513	2016-03-23 11시	12시	DHF bath 사용	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	0원
1514	2016-03-23 13시	14시	1-3-2 2nd Oxide SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
1515	2016-03-23 13시	15시	SPM+DHF 2회진행	부산대학교	유기소재시스템공학과	조정형	450,000원
1516	2016-03-23 13시	16시	8인치 Si wafer SPM, APM 각 10매씩 cleaning Jig Cleaning (SPM 25min + APM 10min)	(주)예스파워테크닉스	연구소	강예환	240,000원
1517	2016-03-23 14시	15시	1-3-3 2nd Oxide Polymer Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
1518	2016-03-23 9시	10시	1-2-2 2nd Oxide Wet Etch	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
1519	2016-03-24 10시	12시	APM(480s)+DHF(1000:1,45s) Pre-Cleaning 4회	나노종합기술원	나노구조개발팀	형정환	540,000원
1520	2016-03-24 10시	12시	SPM 및 BOE cleaning	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	180,000원
1521	2016-03-24 14시	15시	DHF bath 사용	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	0원
1522	2016-03-25 13시	14시	SPM Cleaning	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	108,000원
1523	2016-03-29 11시	12시	pr strip	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	84,000원
1524	2016-03-29 11시	12시	SPM+DHF	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	175,000원
1525	2016-03-29 15시	16시	oxide removal	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	56,000원
1526	2016-03-29 17시	18시	Cap Poly PR Remove	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
1527	2016-03-30 12시	13시	oxide removal	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	56,000원
1528	2016-03-30 14시	16시	2-5-1 cap poly sac oxide remove BOE 10:1 60min BOE 10:1 90min	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	210,000원
1529	2016-03-30 16시	17시	2-2-2 2nd oxide etch BOE 10:1 8min	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
1530	2016-03-30 9시	10시	Oxidation 전처리(SPM)	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김형준	105,000원
1531	2016-03-30 9시	10시	Oxidation 전처리 (DHF)	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김형준	70,000원
1532	2016-03-31 16시	17시	0-1-2 hard mask depo. pre clean spm	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
1533	2016-04-01 16시	17시	H.M Etch PR Remove (SPM)	(주)니나노	기업부설연구소	박준영	0원
1534	2016-04-01 17시	18시	Etch PR Remove (SPM)	포항공과대학교	고분자연구소	서정탁	120,000원
1535	2016-04-01 9시	10시	0-1-2 hard mask depo. pre clean spm	(주)니나노	기업부설연구소	박준영	0원
1536	2016-04-05 11시	12시	oxide removal	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	56,000원
1537	2016-04-05 13시	14시	hard Mask Oxide Remove (BOE, 10min)	(주)니나노	기업부설연구소	박준영	0원
1538	2016-04-05 16시	17시	pre cleaning (dhf 1회 추가)	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	84,000원
1539	2016-04-05 9시	11시	SPM 및 BOE cleaning	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	180,000원
1540	2016-04-06 10시	11시	precleaning spm & dHF 1회	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	140,000원
1541	2016-04-07 10시	11시	1-3-4 SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
1542	2016-04-07 11시	12시	1-3-5 Polymer Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
1543	2016-04-07 13시	14시	1-3-6 Oxide Wet Etch	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
1544	2016-04-07 14시	15시	SPM, DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	0원
1545	2016-04-08 15시	16시	DHF bath 사용 2회사용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	0원
1546	2016-04-11 10시	11시	SPM,DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	0원
1547	2016-04-12 10시	11시	SPM, DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	0원
1548	2016-04-12 11시	12시	SPM,DHF	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	180,000원
1549	2016-04-12 15시	16시	oxide removal	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	56,000원
1550	2016-04-14 13시	14시	Cleaning SPM+DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	140,000원
1551	2016-04-14 15시	16시	Cleaning SPM+DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	140,000원
1552	2016-04-15 10시	12시	Cleaning SPM+DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	140,000원
1553	2016-04-15 17시	18시	SPM+DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	140,000원
1554	2016-04-18 10시	11시	cleaning DHF+SPM SPM bath 히팅 부탁드립니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	140,000원
1555	2016-04-18 11시	12시	dhf bath	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	56,000원
1556	2016-04-18 17시	18시	silicon oxide 제거	포항공과대학교	물리학과	하창우	80,000원
1557	2016-04-25 14시	15시	SPM precleaing 10min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
1558	2016-04-27 11시	12시	dHF cleaning 수행	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	0원
1559	2016-04-27 14시	15시	2-4-2 Cap Poly SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
1560	2016-04-28 14시	17시	SiC release test boe etching	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
1561	2016-04-29 13시	16시	sic release test boe etching	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
1562	2016-05-02 9시	12시	SPM, SC1,SC2,BOE	한국전기연구원	전력반도체연구센터	석오균	549,000원
1563	2016-05-03 10시	11시	SPM + DHF 오전 10시에 바로 사용할 예정입니다. SPM HEATER ON 미리 부탁드리겠습니다. 감사합니다.	포항공과대학교	창의IT융합공학과	서명해	140,000원
1564	2016-05-03 13시	14시	SPM + DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	서명해	140,000원
1565	2016-05-03 14시	15시	dHF 10 min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	0원
1566	2016-05-03 16시	17시	SPM + DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	서명해	140,000원
1567	2016-05-09 10시	11시	dhf bath 사용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	0원
1568	2016-05-09 16시	18시	0-2-1 fab-in clean SPM 0-2-2 fab-in clean DHF	(주)엔디디	기술연구	최은아	250,000원
1569	2016-05-11 15시	16시	0-2-1 fab-in clean SPM 0-2-2 fab-in clean DHF	(주)엔디디	기술연구	최은아	250,000원
1570	2016-05-11 16시	18시	0-2-1 o layer initial oxide pre cleaning spm 0-2-2 o layer initial oxide pre cleaning dhf	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	175,000원
1571	2016-05-12 18시	19시	Cleaning SPM bath 가능하시면 온도 올려주시기를 부탁드립니다. DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	140,000원
1572	2016-05-13 10시	11시	Precleaning 진행(SPM,DHF)	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	0원
1573	2016-05-16 10시	18시	BOE etching test (5/11 계획)	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	210,000원
1574	2016-05-17 10시	12시	SPM	한국전기연구원	전력반도체연구센터	석오균	108,000원
1575	2016-05-17 16시	17시	SPM 10min dHF 30 sec	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	0원
1576	2016-05-18 16시	17시	0-2-1 FI layer fab-in clean spm	고려대학교	전기전자공학부	장환준	0원
1577	2016-05-19 10시	12시	SPM cleaning	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	108,000원
1578	2016-05-19 14시	15시	SPM, cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	84,000원
1579	2016-05-20 10시	12시	SPM cleaning	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	108,000원
1580	2016-05-22 1시	2시	wafer cleaning	포항공과대학교	물리학과	하창우	96,000원
1581	2016-05-23 13시	14시	1-3-2 1st Bottom Poly SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
1582	2016-05-23 14시	15시	1-3-2 Contact SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
1583	2016-05-24 10시	12시	APM + DHF 각 1회	(주)케이이씨	연구소	송재진	250,000원
1584	2016-05-24 11시	12시	SPM 10 min + dHF 30 sec	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	0원
1585	2016-05-24 16시	17시	1-3-3 5th contact pr remove polymer strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
1586	2016-05-25 10시	11시	2-1-1 Ge Clean SC1+DHF	고려대학교	전기전자공학부	장환준	0원
1587	2016-05-25 13시	14시	0-1-2 metal pre clean spm	(주) 이너센서	이너센서	강문식	0원
1588	2016-05-25 14시	15시	2-2-1 pre cleaning Dhf 100:1 30sec	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
1589	2016-05-25 15시	18시	Cap Process_TMAH(16/05)	(주)유우일렉트로닉스	부설연구소	김형원	1,000,000원
1590	2016-05-26 13시	14시	SPM ,BOE	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	198,000원
1591	2016-05-27 10시	11시	SPM cleaning	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	108,000원
1592	2016-05-27 14시	15시	SPM cleaning	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	108,000원
1593	2016-05-30 11시	12시	SPM 2회+DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	224,000원
1594	2016-05-31 10시	11시	SPM+DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	140,000원
1595	2016-05-31 11시	12시	DHF+SPM	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	140,000원
1596	2016-05-31 13시	14시	dHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	0원
1597	2016-06-01 17시	17시	APM(180s)+DHF(1000:1,90s) Pre-Cleaning 3회	나노종합기술원	나노구조개발팀	형정환	405,000원
1598	2016-06-01 9시	15시	SPM2회 DHF3회	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	336,000원
1599	2016-06-02 18시	19시	옥사이드 제거	전북대학교	전자공학부	김기현	56,000원
1600	2016-06-02 22시	23시	spm+dhf 2회	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	140,000원
1601	2016-06-02 9시	22시	연구용 아세톤 clean 5min + QDR SPM 20min + QDR Spin Dryer 총 9Lot 진행(4inch 8ea, 6inch 1ea)	(주)에스에스에이디티	연구기획팀	오은하	2,115,000원
1602	2016-06-03 13시	14시	나노선 제작 후 세정(SPM,BOE)	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	168,000원
1603	2016-06-03 14시	15시	dhf	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	56,000원
1604	2016-06-03 15시	16시	Oxide removal	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	84,000원
1605	2016-06-07 10시	14시	SPM 20min + QDR Spin Dryer 총 4Lot 진행(4inch)	(주)에스에스에이디티	연구기획팀	오은하	540,000원
1606	2016-06-07 14시	15시	spm+dhf	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	140,000원
1607	2016-06-07 14시	15시	DHF Cleaning	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
1608	2016-06-07 15시	16시	SPM 10 min cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	84,000원
1609	2016-06-07 16시	17시	dHF 10 min cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	56,000원
1610	2016-06-08 13시	14시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	56,000원
1611	2016-06-08 14시	15시	SPM Cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
1612	2016-06-09 13시	14시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	56,000원
1613	2016-06-09 14시	15시	SPM cleaning 10 min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	84,000원
1614	2016-06-09 15시	16시	dHF cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	56,000원
1615	2016-06-10 10시	11시	dhf	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	56,000원
1616	2016-06-10 9시	13시	PR cap 前 clean APM Ashing 후 Clean-1 SPM Ashing 후 Clean-2 APM Ashing 후 Clean-3 DHF	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	550,000원
1617	2016-06-12 17시	18시	spm cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
1618	2016-06-13 10시	11시	Sac Ox strip	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	150,000원
1619	2016-06-13 14시	15시	dHF 10 sec cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	56,000원
1620	2016-06-13 14시	15시	간이베스사용 spm	전북대학교	전자공학부	김기현	105,000원
1621	2016-06-15 14시	15시	2-2-2 2nd Oxide Wet Etch	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
1622	2016-06-15 17시	18시	2-3-3 2nd Polymer Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
1623	2016-06-15 17시	18시	2-3-2 2nd SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
1624	2016-06-16 10시	11시	NW Etch PR Remove	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
1625	2016-06-16 11시	12시	SPM Cleaning	한국전기연구원	전력반도체연구센터	석오균	108,000원
1626	2016-06-16 11시	12시	SPM 20min + QDR Spin Dryer 총 1Lot 진행(4inch)	(주)에스에스에이디티	연구기획팀	오은하	150,000원
1627	2016-06-16 9시	10시	NW Etch PR Remove	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
1628	2016-06-20 12시	13시	SPM, DHF Cleaning	전북대학교	전자공학부	김기현	140,000원
1629	2016-06-22 10시	11시	연구용 SPM 10분 1회	(주)에스에스에이디티	연구기획팀	오은하	150,000원
1630	2016-06-23 13시	17시	PR cap 前 clean SPM Ashing 후 Clean-1 SPM Ashing 후 Clean-2 APM Ashing 후 Clean-3 DHF	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	550,000원
1631	2016-06-24 12시	13시	Oxidation strip	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	150,000원
1632	2016-06-27 11시	12시	Active SPM PR Strip	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
1633	2016-06-27 12시	13시	Active Polymer Strip	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
1634	2016-06-27 14시	15시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	56,000원
1635	2016-06-27 15시	16시	SPM precleaning 10 min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	84,000원
1636	2016-06-27 16시	17시	PR strip	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	0원
1637	2016-06-27 19시	21시	SPM precleaning 10 min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	84,000원
1638	2016-06-28 10시	11시	SPM Cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
1639	2016-06-28 10시	11시	hard mask pre clean	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
1640	2016-06-28 11시	12시	Oxide Wet Etch	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
1641	2016-06-29 13시	14시	dhf	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	56,000원
1642	2016-06-29 21시	23시	SAC oxidation removal	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	56,000원
1643	2016-07-01 1시	15시	SPM2회 DHF3회	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	336,000원
1644	2016-07-04 10시	12시	0-2-1 Fab-in clean SPM 0-2-2 Fab-in clean DHF	(주)엔디디	기술연구	최은아	250,000원
1645	2016-07-04 11시	12시	SPM cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
1646	2016-07-05 10시	11시	NW native oxide removal	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	56,000원
1647	2016-07-05 11시	15시	oxide remove	나노융합기술원	기술지원팀	황현주	100,000원
1648	2016-07-05 15시	16시	dHF cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	56,000원
1649	2016-07-06 10시	11시	PR strip	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	0원
1650	2016-07-06 11시	14시	0-2-1 FI Back oxide remove (3hr 20min)	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	105,000원
1651	2016-07-07 16시	17시	클리닝	전북대학교	전자공학부	김기현	84,000원
1652	2016-07-08 11시	12시	PR strip	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	0원
1653	2016-07-10 10시	11시	spm+DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	140,000원
1654	2016-07-11 10시	11시	dHF etching	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	56,000원
1655	2016-07-11 12시	14시	SPM cleaning 수행	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	84,000원
1656	2016-07-12 14시	18시	Back oxide removal	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	56,000원
1657	2016-07-13 11시	12시	SPM 10 min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	84,000원
1658	2016-07-13 13시	14시	SiO2 제거	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	0원
1659	2016-07-14 14시	15시	oxide etch (PR coated)	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	0원
1660	2016-07-15 10시	12시	Metal 전 dHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	56,000원
1661	2016-07-18 11시	12시	Native oxide removal	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	56,000원
1662	2016-07-19 13시	14시	dhf 30sec	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
1663	2016-07-19 14시	16시	실리콘 표면 파티클 제거	부산대학교	유기소재시스템공학과	조정형	400,000원
1664	2016-07-20 15시	16시	BOE 10:1	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
1665	2016-07-26 11시	12시	DHF bath 30s	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
1666	2016-07-27 16시	17시	DHF clean	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	70,000원
1667	2016-08-01 13시	14시	SPM+DHF	한양대학교	화학과	강민성	250,000원
1668	2016-08-01 8시	13시	SPM2회 DHF3회	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	336,000원
1669	2016-08-02 13시	16시	SPM+DHF 2회씩	나노융합기술원	기술지원팀	황현주	500,000원
1670	2016-08-05 11시	14시	0-2-1 FI back oxide remove	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	105,000원
1671	2016-08-09 11시	12시	A-key	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	105,000원
1672	2016-08-09 14시	15시	Polymer Remove	포항공과대학교	물리학과	하창우	80,000원
1673	2016-08-09 14시	15시	PR Ashing	포항공과대학교	물리학과	하창우	120,000원
1674	2016-08-09 16시	17시	DHF Cleaning(SiN Stress Test WF11, WF12)	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
1675	2016-08-10 16시	18시	BOE Etching Test(WF06)	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
1676	2016-08-12 13시	14시	SPM+DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	140,000원
1677	2016-08-12 15시	16시	SPM	포항공과대학교	창의IT융합공학과	서명해	84,000원
1678	2016-08-16 13시	14시	LG 15-3-BW 2-1-1 메탈증착전 세정	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	105,000원
1679	2016-08-16 13시	14시	2회	엠투테크(주)	운영	엠투테크(주)	330,000원
1680	2016-08-18 13시	14시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	56,000원
1681	2016-08-18 9시	10시	SPM+DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	140,000원
1682	2016-08-22 10시	12시	SPM + DHF 50매	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	350,000원
1683	2016-08-22 10시	11시	SiC PR cap 전 Clean	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	150,000원
1684	2016-08-22 12시	14시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	112,000원
1685	2016-08-22 14시	15시	D/L PR Remove	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	105,000원
1686	2016-08-22 15시	16시	SPM + DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	서명해	140,000원
1687	2016-08-22 15시	16시	SPM PR Strip	포항공과대학교	물리학과	하창우	120,000원
1688	2016-08-22 16시	17시	Ashing 후 clean-1	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	150,000원
1689	2016-08-22 16시	17시	Polymer Strip	포항공과대학교	물리학과	하창우	80,000원
1690	2016-08-22 17시	18시	Ashing 후 clean-3	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	100,000원
1691	2016-08-22 17시	18시	Ashing 후 clean-2	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	150,000원
1692	2016-08-23 16시	17시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	112,000원
1693	2016-08-23 9시	10시	SiC Oxide Srrip	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	150,000원
1694	2016-08-25 11시	12시	Bonding Wafer D/L PR Remove	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	105,000원
1695	2016-08-25 16시	17시	SPM+DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	140,000원
1696	2016-08-26 16시	19시	0-2-1 back oxide remove oxide wet etch	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	105,000원
1697	2016-08-29 10시	11시	0-2-2 back oxide remove pr remove	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	105,000원
1698	2016-08-29 11시	12시	metal SPM	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	105,000원
1699	2016-09-01 11시	17시	SPM2회 DHF3회	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	336,000원
1700	2016-09-02 10시	11시	Oxide Removal_dHF 1 min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	56,000원
1701	2016-09-02 11시	12시	SPM, DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	98,000원
1702	2016-09-02 16시	17시	sputter를 통한 Ti/Ni 증착 및 전 처리	영남대학교	물리학과	황지영	100,000원
1703	2016-09-05 10시	11시	0-1-2 hard mask pre clean	(주)니나노	기업부설연구소	박준영	0원
1704	2016-09-05 14시	15시	dhf	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	56,000원
1705	2016-09-05 21시	22시	SPM 10 min + dHF 30 sec Precleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	140,000원
1706	2016-09-06 10시	11시	DHF bath	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	56,000원
1707	2016-09-07 10시	11시	SPM cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
1708	2016-09-07 13시	14시	native Oxide 제거	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	56,000원
1709	2016-09-07 14시	15시	oxide제거	나노융합기술원	기술지원팀	황현주	80,000원
1710	2016-09-07 15시	16시	PR Remove : SPM	(주)니나노	기업부설연구소	박준영	0원
1711	2016-09-19 16시	17시	SPM + DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	서명해	140,000원
1712	2016-09-20 17시	18시	SPM	포항공과대학교	창의IT융합공학과	서명해	84,000원
1713	2016-09-23 10시	15시	0-1-2 back oxide remove BOE 10:1 200min 0-2-2 back oxide remove SPM 10min	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	210,000원
1714	2016-09-26 16시	17시	A-key etch PR Remove	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	105,000원
1715	2016-09-27 11시	12시	Pre-Cleaning 수행	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	56,000원
1716	2016-09-27 14시	15시	DHF+SPM	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	140,000원
1717	2016-09-27 16시	17시	A-Key PR Remove	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	105,000원
1718	2016-09-27 17시	18시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	56,000원
1719	2016-09-27 7시	11시	BOE 10:1 200min SPM PR remove	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	210,000원
1720	2016-09-28 15시	16시	SPM + DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	서명해	140,000원
1721	2016-09-28 20시	21시	Pre-cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	56,000원
1722	2016-09-29 15시	16시	dhf	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	56,000원
1723	2016-09-29 20시	21시	SPM	포항공과대학교	창의IT융합공학과	서명해	84,000원
1724	2016-10-01 9시	10시	PR Cap 전 Clean	한국전자통신연구원	GaN전력소자연구실	박준보	150,000원
1725	2016-10-01 9시	15시	SPM2회 DHF3회	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	336,000원
1726	2016-10-04 10시	11시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	56,000원
1727	2016-10-04 11시	12시	dHF + SPM cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	140,000원
1728	2016-10-04 14시	15시	spm	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	84,000원
1729	2016-10-05 15시	16시	dHF cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	56,000원
1730	2016-10-05 16시	17시	spm cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
1731	2016-10-06 15시	16시	dHF cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	56,000원
1732	2016-10-06 9시	11시	SPM+APM+DHF	LG 전자	ICS 팀	황의진	320,000원
1733	2016-10-11 10시	11시	SOI wafer BOE Etching	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	105,000원
1734	2016-10-11 22시	23시	dhf	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	56,000원
1735	2016-10-13 13시	14시	dhf	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	56,000원
1736	2016-10-17 10시	11시	SPM 150도, 5분	(주)엔디디	기술연구	최은아	150,000원
1737	2016-10-17 11시	12시	100:1 DHF, 10sec	(주)엔디디	기술연구	최은아	100,000원
1738	2016-10-17 18시	20시	dHF, Naive Oxide removal	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	56,000원
1739	2016-10-19 10시	13시	0-2-1 back oxide remove wet etch boe 0-2-2 back oxide remove pr remove spm	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	210,000원
1740	2016-10-19 17시	18시	spm cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
1741	2016-10-21 17시	18시	spm cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
1742	2016-10-25 19시	20시	dHF cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	56,000원
1743	2016-10-27 15시	16시	SPM cleaning	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	105,000원
1744	2016-10-27 16시	17시	SPM + DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	서명해	140,000원
1745	2016-10-27 9시	10시	PR develop	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	56,000원
1746	2016-10-28 11시	12시	spm cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
1747	2016-10-28 16시	17시	SPM	포항공과대학교	창의IT융합공학과	서명해	84,000원
1748	2016-10-28 17시	18시	0-2-2 PR Remove	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	210,000원
1749	2016-10-28 9시	10시	dHF precleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	56,000원
1750	2016-11-01 10시	11시	spm cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	임태욱	84,000원
1751	2016-11-01 11시	12시	A key Etch PR Remove	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	105,000원
1752	2016-11-01 13시	15시	TMAH bath 사용	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	175,000원
1753	2016-11-01 16시	17시	0-2-1 initial oxide pre cleaning sc1 0-2-2 initial oxide pre cleaning dhf	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	175,000원
1754	2016-11-01 9시	11시	0-2-1 FI Fab-in Clean SPM 0-2-2 FI Fab-in Clean DHF	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	235,000원
1755	2016-11-01 9시	14시	SPM2회 DHF3회	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	336,000원
1756	2016-11-02 10시	12시	HCL:DL (one to one) 10 secs HCL, 20 secs DL and 20 Secs DL( 3 beakers)	영남대학교	물리학과	황지영	150,000원
1757	2016-11-02 9시	10시	Si/ITO ethicng test	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	56,000원
1758	2016-11-03 14시	15시	1-3-2 AKEY SPM PR Strip	(주) 이너센서	이너센서	강문식	150,000원
1759	2016-11-03 16시	17시	1-3-2 1st SPM PR Strip	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	105,000원
1760	2016-11-03 16시	17시	1-4-1 akey oxide remove dhf	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
1761	2016-11-04 16시	18시	SPM 10 min + dHF 1min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	140,000원
1762	2016-11-07 14시	15시	Si 1um SPM PR Strip	포항공과대학교	신소재공학과	김영태	105,000원
1763	2016-11-07 16시	17시	SPM	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	105,000원
1764	2016-11-07 17시	18시	Grating 2nd Si Etch PR REMOVE	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	105,000원
1765	2016-11-08 11시	13시	Native oxide removal	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	56,000원
1766	2016-11-08 12시	14시	APM(180s)+DHF(1000:1,90s) Pre-Cleaning 4매 1회	나노종합기술원	나노구조개발팀	형정환	135,000원
1767	2016-11-08 14시	18시	나노융합 전문인력양성 교육_Cleaning	계명대학교	화학공학과	서숭혁	3,480,000원
1768	2016-11-09 10시	13시	BOE 200MIN SPM 10MIN	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	210,000원
1769	2016-11-09 12시	13시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	56,000원
1770	2016-11-09 15시	16시	Si 6um SPM PR Strip	포항공과대학교	신소재공학과	김영태	105,000원
1771	2016-11-09 16시	17시	4-5-2 4th Seal SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
1772	2016-11-09 16시	17시	3-3-2 3rd SPM PR Strip	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	105,000원
1773	2016-11-10 10시	12시	Oxide Removal	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	56,000원
1774	2016-11-10 15시	16시	4-3-2 4th SPM PR Strip	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	105,000원
1775	2016-11-10 15시	16시	3-1-1 contact ild depo. pre cleaning apm 3-1-2 contact ild depo. pre cleaning dhf	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	175,000원
1776	2016-11-11 11시	12시	pr remove	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	0원
1777	2016-11-11 9시	10시	DHF Cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	70,000원
1778	2016-11-15 14시	15시	표면 클리낭	전북대학교	전자공학부	김기현	84,000원
1779	2016-11-15 16시	17시	0-2-1 initial oxide pre cleaning sc1 0-2-2 initial oxide pre cleaning dhf	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	175,000원
1780	2016-11-16 9시	10시	SPM BOE	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	180,000원
1781	2016-11-17 14시	15시	DHF	전북대학교	전자공학부	김기현	112,000원
1782	2016-11-18 15시	16시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	56,000원
1783	2016-11-18 17시	18시	SiC 6인치 공정 진행 5. Clean-1	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	150,000원
1784	2016-11-18 17시	18시	SiC 6인치 공정 진행 6. Clean-2	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	150,000원
1785	2016-11-18 17시	18시	SiC 6인치 공정 진행 7. Clean-3	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	100,000원
1786	2016-11-18 9시	10시	SiC 6인치 공정 진행 1. PR cap 전 Clean	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	150,000원
1787	2016-11-21 10시	11시	1-4-1 akey oxide remove	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
1788	2016-11-21 15시	16시	5-3-2 5th Contact SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
1789	2016-11-21 16시	17시	5-3-3 5th Contact Polymer Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
1790	2016-11-21 9시	10시	SiC 6인치 공정 진행 9. Oxide Strip	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	150,000원
1791	2016-11-23 10시	11시	6-2-1 7th MET Metal Pre Cleaning Wet station DHF 100:1 30sec	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
1792	2016-11-23 14시	15시	4-4-1 PAD Pre cleaning Dhf 100:1 10sec	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
1793	2016-11-29 10시	12시	dHF 30 sec precleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	56,000원
1794	2016-12-01 14시	16시	BOE 1hr	포항공과대학교	물리학과	김대형	120,000원
1795	2016-12-01 18시	19시	Si Dot Etch PR Remove : SPM	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
1796	2016-12-01 9시	15시	SPM2회 DHF3회	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	336,000원
1797	2016-12-01 9시	10시	Cleaning SPM + DHF(100,000) 재료비 Qz 4매 200,000	울산과학기술원(UNIST)	기계공학과	이준범	450,000원
1798	2016-12-05 16시	18시	Front Passivation oxide removal SPM 10min + dHF 3 min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	140,000원
1799	2016-12-05 9시	10시	SPM	광운대학교	전자과	김병목	150,000원
1800	2016-12-06 13시	14시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	56,000원
1801	2016-12-07 14시	15시	Polyimide coating 제거	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	84,000원
1802	2016-12-07 14시	15시	dHF 30 sec	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	56,000원
1803	2016-12-07 15시	16시	pr 제거	포항공과대학교	물리학과	하창우	96,000원
1804	2016-12-07 16시	17시	SPM	LG 전자	ICS 팀	황의진	120,000원
1805	2016-12-08 14시	15시	PR Cap 전 Clean	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	150,000원
1806	2016-12-09 11시	12시	Metal 증착전 dHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	56,000원
1807	2016-12-09 16시	17시	Ashing후 Clean-1, Clean-2	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	300,000원
1808	2016-12-09 16시	17시	Ashing후 Clean-3	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	100,000원
1809	2016-12-12 14시	15시	1-2-4 Pattern PR SPM Remove	광운대학교	전자과	김병목	150,000원
1810	2016-12-12 9시	10시	Oxidation strip	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	150,000원
1811	2016-12-13 15시	16시	SiO2 removal	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	56,000원
1812	2016-12-13 16시	17시	pr strip	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	84,000원
1813	2016-12-13 17시	18시	Activation 전 clean	LG전자	ICS팀	김기민	120,000원
1814	2016-12-14 14시	15시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	56,000원
1815	2016-12-15 14시	15시	Native oxide removal	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	56,000원
1816	2016-12-16 11시	12시	dhf	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	56,000원
1817	2016-12-19 16시	17시	etch 10:1 BOE 80min	포항공과대학교	물리학과	김대형	120,000원
1818	2016-12-19 9시	10시	PR Coating 전 Clean	서강대학교	전자공학과	배동우	150,000원
1819	2016-12-26 17시	18시	DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	56,000원
1820	2016-12-26 9시	11시	Wet Etching BOE	포항공과대학교	물리학과	김대형	120,000원
1821	2016-12-27 13시	15시	PR 제거	전북대학교	전자공학부	김기현	84,000원
1822	2016-12-28 17시	18시	클리닝-용액교체 요청드립니다	전북대학교	전자공학부	김기현	84,000원
1823	2016-12-29 10시	12시	SPM 10 min + dHF 30 sec	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	140,000원
1824	2017-01-02 9시	15시	SPM2회 DHF3회	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	336,000원
1825	2017-01-03 10시	11시	DHF	경북대학교	정밀기계공학과	김동억	100,000원
1826	2017-01-04 10시	11시	Spm boe	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	180,000원
1827	2017-01-05 13시	14시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	56,000원
1828	2017-01-05 16시	17시	spm	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	84,000원
1829	2017-01-06 10시	11시	HCL:DL (one to one) 10 secs HCL, 20 secs DL and 20 Secs DL( 3 beakers)	영남대학교	물리학과	황지영	120,000원
1830	2017-01-06 11시	12시	0-3-1 Cleaning wet station BOE10:1 30min	포항공과대학교	물리분석팀	김성규	105,000원
1831	2017-01-09 18시	23시	SPM 10min dHF 30sec cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	140,000원
1832	2017-01-10 11시	12시	3-1-1 contact pre-cleaning APM 3-1-2 contact pre-cleaning DHF 3-1-3 contact pre-cleaning SC-2	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	280,000원
1833	2017-01-10 16시	17시	1-4-1 1st oxdie remove BOE	포항공과대학교	물리분석팀	김성규	105,000원
1834	2017-01-11 11시	12시	2-1-1 CNT ILD Depo. Pre Clean APM	포항공과대학교	물리분석팀	김성규	105,000원
1835	2017-01-11 14시	18시	LaF3 captest patterning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	56,000원
1836	2017-01-11 9시	10시	SPM + DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	서명해	140,000원
1837	2017-01-12 11시	13시	SPM, BOE	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	216,000원
1838	2017-01-12 15시	16시	dHf 30 sec	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	56,000원
1839	2017-01-13 13시	14시	PR remove	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	105,000원
1840	2017-01-17 10시	11시	spm bath 사용	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	105,000원
1841	2017-01-18 14시	15시	DHF(100:1) native oxide remove	동부하이텍	특화공정개발	김종만	100,000원
1842	2017-01-18 15시	16시	TMAH Silicon Etching	동부하이텍	특화공정개발	김종만	300,000원
1843	2017-01-19 10시	12시	Si 식각	(주)유우일렉트로닉스	부설연구소	김형원	210,000원
1844	2017-01-20 10시	11시	BOE 10:1 사용	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	105,000원
1845	2017-01-23 11시	12시	SPM LG20_1	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	105,000원
1846	2017-01-24 14시	15시	SPM	포항공과대학교	창의IT융합공학과	서명해	84,000원
1847	2017-01-24 14시	15시	DHF bath 사용	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	70,000원
1848	2017-01-25 10시	17시	MEMS 기술사업화 계약_Thinfilm	나노융합기술원	기술지원팀	황현주	3,000,000원
1849	2017-02-01 11시	12시	1-4 KAEY PR Remove	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	105,000원
1850	2017-02-01 18시	19시	Cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	84,000원
1851	2017-02-01 9시	16시	SPM2회 DHF3회	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	336,000원
1852	2017-02-02 11시	12시	1-4 AKEY PR Remove	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	105,000원
1853	2017-02-02 15시	16시	Wet Etching BOE 10:1 50min	포항공과대학교	물리학과	김대형	120,000원
1854	2017-02-03 10시	12시	SPM, BOE	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	108,000원
1855	2017-02-06 13시	14시	Oxide Etch 후 PR Remove	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	105,000원
1856	2017-02-06 14시	15시	Oxide Etch 후 Polymer Remove	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
1857	2017-02-07 19시	21시	SPM 10 min Cleaning dHF 30sec Cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	84,000원
1858	2017-02-08 19시	20시	SPM + DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	서명해	84,000원
1859	2017-02-09 11시	12시	1-4-2 AKey PR Remove	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	105,000원
1860	2017-02-13 13시	14시	1-4-2 AKEY SPM PR Strip	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	105,000원
1861	2017-02-16 16시	20시	dHF cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	56,000원
1862	2017-02-16 17시	18시	SPM cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	84,000원
1863	2017-02-17 10시	11시	dHF cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	56,000원
1864	2017-02-20 16시	17시	SPM	포항공과대학교	창의IT융합공학과	서명해	84,000원
1865	2017-02-20 9시	10시	thermal oxide 전 clean	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	105,000원
1866	2017-02-21 10시	12시	SPM,SC-1	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	300,000원
1867	2017-02-21 13시	15시	dHF 1min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	56,000원
1868	2017-02-21 9시	10시	wafer bonding 전 clean	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	105,000원
1869	2017-02-22 10시	12시	SPM,BOE,SPM	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	450,000원
1870	2017-02-22 11시	12시	SPM	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	105,000원
1871	2017-02-23 11시	12시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	56,000원
1872	2017-02-23 12시	13시	BOE 30min	(주)니나노	기업부설연구소	박준영	0원
1873	2017-02-23 13시	14시	SiC Run SPM	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	150,000원
1874	2017-02-23 16시	17시	SPM	포항공과대학교	창의IT융합공학과	서명해	84,000원
1875	2017-02-23 9시	11시	SPM,BOE	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	270,000원
1876	2017-02-24 12시	14시	SINx제거	나노융합기술원	기술지원팀	황현주	175,000원
1877	2017-02-24 17시	18시	1-3-2	(주)니나노	기업부설연구소	박준영	0원
1878	2017-02-24 19시	20시	PR strip	포항공과대학교	전기전자공학과	김성지	84,000원
1879	2017-02-27 10시	11시	BOE, SPM	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	300,000원
1880	2017-02-27 11시	12시	SPM	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	105,000원
1881	2017-02-27 13시	14시	1-3-3	(주)니나노	기업부설연구소	박준영	0원
1882	2017-03-02 10시	12시	SPM2회 DHF3회	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	336,000원
1883	2017-03-02 12시	13시	BOE	(주)니나노	기업부설연구소	박준영	0원
1884	2017-03-02 20시	21시	SPM	포항공과대학교	창의IT융합공학과	서명해	84,000원
1885	2017-03-02 9시	10시	BOE,SPM	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	300,000원
1886	2017-03-06 11시	12시	A-key Si Etch PR Remove (4.0013825) 사물인터넷 나노 실리콘 기반 센서 공정 플랫폼 구축을 위한 신호 검출 회로 개발	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	150,000원
1887	2017-03-06 13시	15시	SPM,DHF	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	300,000원
1888	2017-03-06 15시	16시	dHF 1min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	56,000원
1889	2017-03-07 10시	11시	BOE	한국전기연구원	전력반도체연구단 차세대반도체연구센터	문정현	150,000원
1890	2017-03-08 11시	11시	Ti remover	한국전기연구원	전력반도체연구단 차세대반도체연구센터	문정현	100,000원
1891	2017-03-08 14시	15시	Pre-treament: HCL:DL (one to one) 10 secs HCL, 20 secs DL and 20 Secs DL( 3 beakers)	영남대학교	물리학과	황지영	150,000원
1892	2017-03-09 10시	11시	Al Etchant	한국전기연구원	전력반도체연구단 차세대반도체연구센터	문정현	150,000원
1893	2017-03-09 13시	14시	3-1-1 contact ILD Depo. pre-cleaining APM 3-1-2 contact ILD Depo. pre-cleaining DHF 3-1-3 contact ILD Depo. pre-cleaining SC-2	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	385,000원
1894	2017-03-09 18시	19시	SPM	포항공과대학교	창의IT융합공학과	서명해	84,000원
1895	2017-03-10 13시	14시	0-1-1 pre cleaning spm	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	105,000원
1896	2017-03-13 10시	11시	PR remove-SPM cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	84,000원
1897	2017-03-13 15시	16시	SPM, DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	서명해	140,000원
1898	2017-03-13 15시	16시	SPM 과제번호 : 4.0013825	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	105,000원
1899	2017-03-13 9시	10시	Pre-Cleaning SPM,DHF	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	175,000원
1900	2017-03-14 10시	11시	SPM DHF	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	225,000원
1901	2017-03-15 10시	11시	SiC PR cap coating 전 clean	서강대학교	전자공학과	배동우	150,000원
1902	2017-03-15 10시	11시	SPM	포항공과대학교	창의IT융합공학과	서명해	84,000원
1903	2017-03-15 14시	16시	SPM,SC1,SC2,BOE	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	750,000원
1904	2017-03-15 15시	16시	A key Etch PR Remove	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	105,000원
1905	2017-03-16 10시	11시	Pre-treament: HCL:DL (one to one) 10 secs HCL, 20 secs DL and 20 Secs DL( 3 beakers)	영남대학교	물리학과	황지영	150,000원
1906	2017-03-16 11시	12시	SPM Cleaning	포항공과대학교	시스템생명공학부	김보람	105,000원
1907	2017-03-16 13시	15시	H3PO4, TMAH	나노융합기술원	기술지원팀	황현주	350,000원
1908	2017-03-16 19시	21시	SPM 10min Cleaning 수행	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	84,000원
1909	2017-03-17 15시	16시	1-4-2 AKEY SPM Remove	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	105,000원
1910	2017-03-20 11시	12시	SPM	한국전기연구원	전력반도체연구단 차세대반도체연구센터	문정현	135,000원
1911	2017-03-20 13시	15시	SPM 10min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	84,000원
1912	2017-03-21 14시	18시	SPM 10min, dHF 30sec 진행	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	140,000원
1913	2017-03-21 20시	21시	SPM + DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	서명해	140,000원
1914	2017-03-22 10시	11시	Pre-treament: HCL:DL (one to one) 10 secs HCL, 20 secs DL and 20 Secs DL( 3 beakers)	영남대학교	물리학과	황지영	150,000원
1915	2017-03-22 13시	14시	SPM	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	150,000원
1916	2017-03-22 14시	16시	Back Oxide Removal	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	56,000원
1917	2017-03-23 10시	12시	SC2 1회	서강대학교	전자공학과	이장우	300,000원
1918	2017-03-23 17시	18시	SPM	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	150,000원
1919	2017-03-23 20시	21시	oxide 제거	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	56,000원
1920	2017-03-24 11시	12시	DHF 2회	서강대학교	전자공학과	이장우	200,000원
1921	2017-03-24 11시	12시	4in 2EA SPM cleaning	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	108,000원
1922	2017-03-24 17시	18시	DHF (oxide remove)	포항공과대학교	창의IT융합공학과	서명해	56,000원
1923	2017-03-24 9시	12시	SC-1 1회 SPM 2회	서강대학교	전자공학과	이장우	450,000원
1924	2017-03-27 16시	18시	BioFET S/D PR mask removal	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	84,000원
1925	2017-03-28 10시	11시	SPM	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	150,000원
1926	2017-03-28 11시	12시	3-7-1 Metal Depo Pre Clean DHF 30초	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	70,000원
1927	2017-03-28 12시	13시	Bonding 전 Clean SPM 10분 & DHF 1분 (과제 번호 4.0013825)	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	175,000원
1928	2017-03-31 20시	22시	Oxide remove	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	84,000원
1929	2017-04-03 11시	12시	1-3-2 1st Poly SPM PR Strip	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	112,500원
1930	2017-04-03 16시	17시	0-2-1 initial Cleaing SPM 0-2-2 initial Cleaing DHF	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	187,500원
1931	2017-04-04 16시	17시	Ashing 후 Clean-3	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	100,000원
1932	2017-04-04 16시	17시	Ashing 후 Clean-2	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	150,000원
1933	2017-04-04 16시	17시	Ashing 후 Clean-1	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	150,000원
1934	2017-04-04 9시	10시	1. PR coating전 Clean	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	150,000원
1935	2017-04-05 14시	15시	SPM,BOE Cleaning	LG전자	ICS팀	김기민	255,000원
1936	2017-04-05 9시	10시	Oxide strip	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	150,000원
1937	2017-04-05 9시	10시	Pre-treament: HCL:DL (one to one) 10 secs HCL, 20 secs DL and 20 Secs DL( 3 beakers)	영남대학교	물리학과	황지영	150,000원
1938	2017-04-06 14시	16시	SPM 10 min dHF 30 sec Pre cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	150,000원
1939	2017-04-06 16시	17시	PR remove	부산대학교	광메카트로닉스공학과	강지숙	135,000원
1940	2017-04-06 17시	18시	SiC & Poly Si ETch PR Remove	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	112,500원
1941	2017-04-07 12시	13시	cleaning	포항공과대학교	전기전자공학과	김성지	90,000원
1942	2017-04-07 13시	15시	wafer 구매 후 Lazer marking만 해놓은 상태입니다. Oxidation을 하기 전 pre cleaning을 진행하려고 합니다.	포항공과대학교	기계공학과	서동환	127,500원
1943	2017-04-10 10시	11시	SPM,DHF	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	187,500원
1944	2017-04-10 14시	15시	1-3-2 Bottom Poly SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	112,500원
1945	2017-04-11 12시	13시	SPM	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	90,000원
1946	2017-04-12 13시	15시	SPM 10 min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	90,000원
1947	2017-04-13 16시	18시	SPM 10 min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	90,000원
1948	2017-04-13 9시	11시	3-1-1 Contact Cleaning APM 3-1-2 Contact Cleaning DHF 3-1-3 Contact Cleaning SC2	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	412,500원
1949	2017-04-14 14시	15시	SPM Cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	112,500원
1950	2017-04-18 10시	11시	BOE	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	75,000원
1951	2017-04-18 12시	13시	Front oxide removal	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	60,000원
1952	2017-04-18 14시	15시	BOE	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	112,500원
1953	2017-04-18 15시	18시	SPM 10min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	90,000원
1954	2017-04-18 9시	10시	2-1-0 SAC Oxide Remove BOE	(주)네오나노텍	연구개발	김성훈	450,000원
1955	2017-04-19 10시	11시	SPM,DHF	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	187,500원
1956	2017-04-19 14시	18시	dHF 2min, SPM Claening	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	157,500원
1957	2017-04-20 16시	17시	SPM	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	112,500원
1958	2017-04-20 18시	24시	SPM 10min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	90,000원
1959	2017-04-25 22시	24시	SPM 10min, dHF 30sec	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	150,000원
1960	2017-04-25 9시	10시	2-6-1 Back side bonding 전 clean	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	75,000원
1961	2017-04-26 13시	16시	SPM 10min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	90,000원
1962	2017-04-27 11시	12시	SPM Cleaning	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	112,500원
1963	2017-04-28 9시	10시	SPM Cleaning	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	112,500원
1964	2017-05-02 12시	14시	oxide 제거	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	60,000원
1965	2017-05-02 13시	14시	3-3-1 meatl depo 전 clean	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	75,000원
1966	2017-05-02 15시	20시	SPM 10 min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	90,000원
1967	2017-05-04 9시	10시	cleaning	포항공과대학교	전기전자공학과	김성지	90,000원
1968	2017-05-08 9시	10시	4-4-1 Pre clean	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	75,000원
1969	2017-05-10 10시	11시	2-2-2 2nd Oxide Wet Etch	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	112,500원
1970	2017-05-10 10시	11시	cleaning	포항공과대학교	전기전자공학과	김성지	90,000원
1971	2017-05-10 11시	16시	SPM 10min dHF 30sec	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	150,000원
1972	2017-05-10 13시	14시	2-3-2 2nd Oxide SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	112,500원
1973	2017-05-10 15시	16시	2-3-3 2nd Oxide Polymer Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	75,000원
1974	2017-05-10 16시	18시	SPM+DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	150,000원
1975	2017-05-10 17시	18시	DHF Bath 사용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	60,000원
1976	2017-05-10 9시	10시	Native oxide 제거	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	60,000원
1977	2017-05-10 9시	10시	SiC 센서 소자 제작 관련 1. Clean-1	경남대학교	전자공학과	김성진	150,000원
1978	2017-05-10 9시	10시	SiC 센서 소자 제작 관련 1. Clean-2	경남대학교	전자공학과	김성진	100,000원
1979	2017-05-11 12시	13시	SPM,DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	150,000원
1980	2017-05-12 10시	11시	SPM,DHF	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	187,500원
1981	2017-05-12 11시	14시	Cap device back etching	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	60,000원
1982	2017-05-12 15시	17시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	60,000원
1983	2017-05-15 14시	16시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	60,000원
1984	2017-05-15 16시	17시	6. ashing 후 clean 3	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	100,000원
1985	2017-05-15 16시	17시	5. ashing 후 clean 1,2	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	300,000원
1986	2017-05-15 17시	18시	cleaning	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	120,000원
1987	2017-05-15 20시	21시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	60,000원
1988	2017-05-15 9시	10시	1. PR cap 전 clean	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	150,000원
1989	2017-05-15 9시	10시	1-1-1 . depo 전 clean (과제번호 : 4.0013825)	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	112,500원
1990	2017-05-16 13시	16시	SPM +DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	90,000원
1991	2017-05-16 16시	18시	Back Oxide removal	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	60,000원
1992	2017-05-16 9시	10시	8. oxidation strip	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	150,000원
1993	2017-05-16 9시	12시	3-1-1 contact pre cleaning apm 3-1-2 contact pre cleaning dhf 3-1-3 contact pre cleaning sc-2	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	412,500원
1994	2017-05-17 10시	11시	SPM 20 min, DHF (1:100) 3min, Spin Dry	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	250,000원
1995	2017-05-17 13시	14시	3-3-2 3th Poly SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	112,500원
1996	2017-05-18 10시	11시	ox 제거	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	80,000원
1997	2017-05-18 13시	14시	3-3-1 Metal depo pre clean	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	75,000원
1998	2017-05-18 15시	16시	cleaning	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	150,000원
1999	2017-05-19 11시	12시	0-1-1 Fab-in Clean SPM	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	112,500원
2000	2017-05-22 10시	11시	DHF Bath 사용	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	60,000원
2001	2017-05-22 12시	13시	Spm clean	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	90,000원
2002	2017-05-22 14시	15시	SPM.DHF	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	250,000원
2003	2017-05-22 17시	18시	cleaning	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	240,000원
2004	2017-05-25 10시	11시	1-4-2 Mirror SPM	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	112,500원
2005	2017-05-25 10시	11시	cleaning	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	240,000원
2006	2017-05-25 11시	12시	0-2-1 Fab-in Cleaning SPM	LG전자	센서솔루션연구소	이성단	127,500원
2007	2017-05-29 13시	17시	BioFET Cleaning SPM 10min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	90,000원
2008	2017-05-29 15시	16시	SPM Cleaning	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	112,500원
2009	2017-06-01 13시	15시	SPM 10min dHF 30sec 진행	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	150,000원
2010	2017-06-01 15시	18시	SPM+DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	150,000원
2011	2017-06-01 18시	19시	cleaning SPM,SPM,DHF 사용	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	400,000원
2012	2017-06-02 10시	12시	SC-2 6inch 2매(#4,5)	서강대학교	전자공학과	이장우	300,000원
2013	2017-06-02 13시	15시	SPM 10 min dHF 30 sec	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	90,000원
2014	2017-06-03 10시	12시	DHF 6inch(#2,3,4,5)	서강대학교	전자공학과	이장우	100,000원
2015	2017-06-03 12시	14시	SPM 6inch(#2,3,4,5)	서강대학교	전자공학과	이장우	150,000원
2016	2017-06-07 13시	17시	DHF, SPM	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	150,000원
2017	2017-06-07 17시	20시	Back Oxide removal	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	60,000원
2018	2017-06-08 10시	14시	dHF oxide removal	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	60,000원
2019	2017-06-09 1시	3시	6월 8일 오후 8시쯤 사용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	60,000원
2020	2017-06-09 11시	12시	DHF bath 사용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	60,000원
2021	2017-06-09 14시	15시	cleaning	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	120,000원
2022	2017-06-09 15시	16시	1-3-2 PIEZO Poly SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	112,500원
2023	2017-06-13 11시	13시	SPM,DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	150,000원
2024	2017-06-13 17시	24시	BioFET Cleaning SPM 10min dHF 1min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	150,000원
2025	2017-06-14 16시	17시	cleaning	포항공과대학교	전기전자공학과	김성지	90,000원
2026	2017-06-14 19시	24시	BioFET SPM 10min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	90,000원
2027	2017-06-15 14시	15시	2-3-2 CNT SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	112,500원
2028	2017-06-15 15시	16시	2-3-3 CNT Polymer Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	75,000원
2029	2017-06-16 10시	11시	0-1-2 cleaning	(주) 이너센서	이너센서	강문식	150,000원
2030	2017-06-16 11시	12시	DHF Cleainng	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	60,000원
2031	2017-06-19 10시	11시	native ox 제거	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	60,000원
2032	2017-06-19 14시	15시	cleaning	포항공과대학교	전기전자공학과	김성지	90,000원
2033	2017-06-19 14시	15시	SPM	포항공과대학교	창의IT융합공학과	서명해	90,000원
2034	2017-06-20 10시	11시	native oxide 제거	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	60,000원
2035	2017-06-21 15시	16시	SPM 채워주세요	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	150,000원
2036	2017-06-21 16시	17시	cleaning	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	120,000원
2037	2017-06-22 10시	11시	native oxide 제거	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	60,000원
2038	2017-06-22 14시	16시	SPM	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	120,000원
2039	2017-06-22 9시	10시	cleaning	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	80,000원
2040	2017-06-23 19시	21시	cleaning	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	160,000원
2041	2017-06-26 10시	11시	test wafer 3장 SPM과 DHF 둘다 이원범 선생님께 서비스 맡겼습니다.	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	187,500원
2042	2017-06-26 13시	18시	에칭속도, RI (refractive index) 측정관련 실험 1차 DHF(100:1) Etch 10min , 1min 2차 DHF(200:1) Etch 1min , 30sec 3차 DHF(150:1) Etch 20s, 60s, 90s, 5m, 10m	포스코	성능연구그룹	정현주	0원
2043	2017-06-26 15시	16시	PreCleaning SPM 10min	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	112,500원
2044	2017-06-27 14시	15시	cleaning	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	120,000원
2045	2017-06-27 17시	18시	cleaning	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	120,000원
2046	2017-06-28 10시	12시	기판 위의 oxide + PR Strip 예정 산업화장비 수리 후 공정체크	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2047	2017-06-28 12시	13시	dhf	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	75,000원
2048	2017-06-28 15시	16시	dHF 30 sec	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	60,000원
2049	2017-06-28 9시	10시	Spm 10min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	90,000원
2050	2017-06-29 13시	14시	cleaning	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	240,000원
2051	2017-06-29 16시	17시	7. Ashing 후 Clean-3	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	100,000원
2052	2017-06-29 16시	17시	6. Ashing 후 Clean-2	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	150,000원
2053	2017-06-29 16시	17시	5. Ashing 후 Clean-1	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	150,000원
2054	2017-06-29 9시	10시	1. PR cap 전 clean	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	150,000원
2055	2017-06-30 10시	11시	cleaning	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	80,000원
2056	2017-06-30 9시	10시	9. Oxidation strip	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	150,000원
2057	2017-07-03 13시	15시	진행할 공정 : SPM + APM + DHF(100:1 or 1000:1) or BOE * Furnace(NINT Code : SD17) 장비 점검 Test 시료	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2058	2017-07-03 14시	15시	Oxidation 전 Clean 1	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	112,500원
2059	2017-07-03 15시	18시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	60,000원
2060	2017-07-03 15시	16시	Oxidation 전 Clean 2	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	75,000원
2061	2017-07-04 10시	12시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	60,000원
2062	2017-07-04 13시	14시	진행할 공정 : PR patterning -Wafer 1. Al 1매 * Dry Etcher_Metal(NINT code:SE07) 장비 점검 Test 시료	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2063	2017-07-05 11시	12시	진행할 공정 : SPM + APM + DHF(100:1 or 1000:1) * 샘플 진행 run	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2064	2017-07-05 12시	13시	Spm dhf 클리닝	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	150,000원
2065	2017-07-05 13시	15시	진행할 공정 : SPM + APM + DHF(100:1 or 1000:1) or BOE * Furnace(NINT Code : SD17) 장비 점검 Test 시료	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2066	2017-07-06 10시	12시	이전진행 내역 : - 진행할 공정 : SPM+APM+DHF(1000:1 or 100:1) or BOE * Dry Etcher_20nm급(NINT code: -) 장비 점검 Test 시료	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2067	2017-07-06 13시	14시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	60,000원
2068	2017-07-06 18시	19시	이전진행 내역 : PR Ashing 진행할 공정 : SPM * Dry Etcher_20nm급(NINT code: -) 장비 점검 Test 시료	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2069	2017-07-07 11시	12시	cleaning	포항공과대학교	전기전자공학과	김성지	90,000원
2070	2017-07-07 12시	13시	SPM 10min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	90,000원
2071	2017-07-07 16시	17시	dHF 20 sec	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	75,000원
2072	2017-07-09 20시	21시	이전사용 SPM 1회, DHF 2회	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	240,000원
2073	2017-07-10 13시	14시	si etching SPM,DHF 사용	포항공과대학교	전기전자공학과	김성지	150,000원
2074	2017-07-10 14시	15시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	60,000원
2075	2017-07-10 9시	13시	이전공정 내역: PR strip 진행할 공정 : SPM + BOE + SPM * 1차 샘플 제작 Run (4ea) 이전공정 : 없음 진행할 공정 : SPM * 1차 샘플 제작 HM Particle 단위공정 (1ea) 이전공정 : 없음 진행할 공정 : SPM * 2차 샘플 제작 Run (4ea)	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2076	2017-07-11 11시	12시	ox 지우기	포항공과대학교	전기전자공학과	김성지	60,000원
2077	2017-07-11 11시	12시	SPM Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	90,000원
2078	2017-07-11 13시	14시	1-3-2 PIEZO SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	112,500원
2079	2017-07-11 14시	16시	이전공정 내역: 없음 진행할 공정 : SPM + APM + DHF * Furnace 장비 점검 (DF07) Test 시료(3ea)	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2080	2017-07-11 19시	20시	SPM + DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	서명해	150,000원
2081	2017-07-11 9시	11시	이전공정 내역: 없음 진행할 공정 : SPM + APM * Furnace 장비 점검 Test 시료(3ea)	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2082	2017-07-12 10시	11시	이전공정 내역 : HM Depo (2 um) 진행할 공정 : SPM + APM * 1차 샘플 제작 Run (4ea)	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2083	2017-07-12 11시	12시	ox 지우기	포항공과대학교	전기전자공학과	김성지	60,000원
2084	2017-07-12 12시	13시	이전공정 내역 : HM Depo (2 um) 진행할 공정 : BOE + SPM * 1차 샘플 제작 Run Rework (1ea)	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2085	2017-07-12 14시	15시	이전공정 내역: PSG Depo + Photo 공정 진행할 공정 : BOE * TC01호기 Wet Etch Test 시료(2ea)	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2086	2017-07-12 9시	10시	MEMS Full run 1차	LG전자	센서솔루션연구소	이성단	127,500원
2087	2017-07-13 11시	12시	이전공정 내역: PSG Depo 진행할 공정 : SPM + DHF * Furnace 장비 점검 (DF04) Test 시료(1ea)	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2088	2017-07-13 16시	17시	5. Ashing 후 Clean-1	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	150,000원
2089	2017-07-13 16시	17시	7. Ashing 후 Clean-3	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	100,000원
2090	2017-07-13 16시	17시	6. Ashing 후 Clean-2	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	150,000원
2091	2017-07-13 9시	10시	1. PR cap 전 Clean	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	150,000원
2092	2017-07-14 13시	14시	2-3-2 CNT SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	112,500원
2093	2017-07-14 14시	15시	2-3-3 CNT Polymer Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	75,000원
2094	2017-07-14 15시	16시	SPM	포항공과대학교	창의IT융합공학과	서명해	90,000원
2095	2017-07-14 9시	11시	이전공정 내역 : 없음 진행할 공정 : BOE(10min) + SPM(20min) + APM(10min) * 2차 샘플 제작 Run Rework (3ea)	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2096	2017-07-14 9시	10시	9. Oxidation Strip	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	150,000원
2097	2017-07-17 10시	11시	이전공정 내역 : Dry etch + Ashing 진행할 공정 : SMP (20min) * 1차 샘플 제작 Run Rework (3ea)	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2098	2017-07-17 14시	15시	이전공정 내역 : Dry etch + Ashing 진행할 공정 : SMP (20min) * 2차 샘플 제작 Run Rework (3ea)	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2099	2017-07-17 16시	17시	SPM	LG 이노텍	소자개발팀	정지철	150,000원
2100	2017-07-17 21시	22시	Wafer cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	최원영	90,000원
2101	2017-07-18 10시	11시	이전공정 내역 : Dry Etch + SPM 진행할 공정 : BOE(20min) + SPM * 2차 샘플 제작 Run Rework (3ea)	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2102	2017-07-18 14시	15시	1-3-2 PIEZO SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	112,500원
2103	2017-07-18 15시	16시	이전공정 내역 : Oxide Depo 진행할 공정 : SPM(20min) + APM(10min) * 2차 샘플 제작 Run Rework (1ea)	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2104	2017-07-19 10시	11시	cleaning	포항공과대학교	전기전자공학과	김성지	90,000원
2105	2017-07-20 11시	12시	이전공정 내역 : Dry etch + Ashing 진행할 공정 : SPM (20min) * 2차 샘플 제작 Run Rework (3ea)	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2106	2017-07-20 13시	14시	이전진행 내역 : Photo 진행할 공정 : BOE * Furnace(DF04) 장비 점검 Test 시료	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2107	2017-07-20 15시	16시	이전진행 내역 : PSG 진행할 공정 : DFH * Furnace(DF04) 장비 점검 Test 시료	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2108	2017-07-21 15시	16시	LaF3 CV test	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	60,000원
2109	2017-07-24 13시	14시	SPM + DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	서명해	150,000원
2110	2017-07-24 14시	15시	* 설비 Test (DF04) 이전진행 내역 : Back Silicide 진행할 공정 : DHF	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2111	2017-07-25 14시	15시	0-2-1 initial oxide pre cleaning SC1 0-2-2 initial oxide pre cleaning DHF	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	187,500원
2112	2017-07-25 15시	16시	* 설비 Test (DF04) 이전진행 내역 : Al Depo + Photo 진행할 공정 : Al Etch	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2113	2017-07-26 10시	11시	* 설비 Test (DF04) 이전진행 내역 : Dust etch + Ashing 진행할 공정 : DHF	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2114	2017-07-26 15시	16시	Preclean (spm, dHF)	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	150,000원
2115	2017-07-26 16시	17시	SPM	(주)니나노	기업부설연구소	박준영	750,000원
2116	2017-07-27 17시	18시	1-4-1 Akey oxide remove dhf	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	75,000원
2117	2017-07-27 18시	19시	SPM	포항공과대학교	창의IT융합공학과	서명해	90,000원
2118	2017-07-27 9시	11시	* 샘플제작 (1차) 이전진행 내역 : Oxide Etch 진행할 공정 : BOE(60min) + SPM	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2119	2017-07-28 15시	16시	4 wafer cleaning	LG 이노텍	소자개발팀	정지철	150,000원
2120	2017-07-28 9시	11시	* 샘플제작 (1차) 이전진행 내역 : Ashing 진행할 공정 : SPM + APM	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2121	2017-07-31 14시	15시	13 Wet Station BOE	LG 이노텍	소자개발팀	정지철	300,000원
2122	2017-07-31 14시	15시	0-1-2 hard mask depo. pre clean SPM	(주)니나노	기업부설연구소	박준영	150,000원
2123	2017-07-31 9시	11시	* 샘플제작 (1차) 이전진행 내역 : 희생산화 진행할 공정 : BOE + SPM + APM	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2124	2017-08-01 10시	11시	SPM	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	108,000원
2125	2017-08-02 10시	11시	* 샘플제작 (2차) 이전공정내역 : Oxide etch 진행요청공정 : BOE + SPM	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2126	2017-08-02 10시	11시	2-1 SAC Oxide Remove	(주)네오나노텍	연구개발	김성훈	300,000원
2127	2017-08-02 16시	18시	장비사용 교육 부탁 드립니다.	포항공과대학교	기계공학과	허명	247,500원
2128	2017-08-03 13시	14시	* 샘플제작 (1차) 이전공정내역 : PR Ashing 진행요청공정 : SPM + DHF	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2129	2017-08-03 9시	10시	Full run 3차 _SPM	LG전자	센서솔루션연구소	이성단	127,500원
2130	2017-08-04 10시	11시	dhf	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	60,000원
2131	2017-08-04 14시	16시	없음	포항공과대학교	기계공학과	허명	247,500원
2132	2017-08-04 16시	17시	SPM	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	90,000원
2133	2017-08-07 13시	14시	* 샘플제작 (1차) 이전공정내역 : Develop 진행요청공정 : BOE + EKC + DHF	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2134	2017-08-07 14시	15시	* 샘플제작 (2차) 이전공정내역 : PR Ashing 진행요청공정 : SPM + APM + DHF	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2135	2017-08-07 15시	16시	SPM+BOE	LG 이노텍	소자개발팀	정지철	450,000원
2136	2017-08-08 11시	15시	* 샘플제작 (1차) 이전공정내역 : Develop 진행요청공정 : Ti Wet etch + EKC + DHF	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2137	2017-08-08 15시	16시	3-1-1 APM	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	112,500원
2138	2017-08-08 16시	17시	3-1-2 DHF	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	75,000원
2139	2017-08-08 17시	19시	* Rework (1차 샘플) 이전공정내역 : Al Depo. 진행요청공정 : Al Strip	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2140	2017-08-08 19시	20시	3-1-3 SC2	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	225,000원
2141	2017-08-08 9시	11시	* 샘플제작 (2차) 이전공정내역 : 희생산화 진행요청공정 : BOE + SPM +APM + DHF	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2142	2017-08-09 13시	14시	* 샘플제작 (1차) 이전공정내역 : PR Pattern 진행요청공정 : Al Wet etch	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2143	2017-08-09 14시	15시	DHF(100:1)	LG 이노텍	소자개발팀	정지철	100,000원
2144	2017-08-09 15시	17시	* Rework (1차 샘플) 이전공정내역 : Metal + PR patern 진행요청공정 : Metal Wet etch + EKC	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2145	2017-08-09 17시	18시	* 샘플제작 (1차) 이전공정내역 : Alloy 진행요청공정 : DHF	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2146	2017-08-09 18시	19시	* 샘플제작 (1차) 이전공정내역 : PR Pattern 진행요청공정 : Al Wet Etch	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2147	2017-08-09 9시	12시	* Rework (1차 샘플) 이전공정내역 : Al Strip 진행요청공정 : surface cleaner + Ti Strip + DHF	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2148	2017-08-10 9시	10시	* 샘플제작 (1차) 이전공정내역 : Alloy 진행요청공정 : DHF	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2149	2017-08-11 15시	17시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	60,000원
2150	2017-08-16 10시	11시	DHF Bath 사용 SPM Bath 사용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	150,000원
2151	2017-08-16 13시	14시	* 샘플제작 (2차) 이전공정내역 : Ashing 진행요청공정 : SPM + DHF	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2152	2017-08-16 13시	14시	dHF	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	60,000원
2153	2017-08-17 11시	12시	oxide 제거	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	60,000원
2154	2017-08-17 13시	15시	* 샘플제작 (2차) 이전공정내역 : PSG + Photo 진행요청공정 : BOE + EKC + DHF	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2155	2017-08-17 15시	16시	* 설비 Test (Al Depo Test) 이전공정내역 : Ashing 진행요청공정 : SPM + DHF	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2156	2017-08-18 10시	12시	* 설비 Test (Al Depo Test) 이전공정내역 : Develop 진행요청공정 : Ti Wet Etch + EKC	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2157	2017-08-18 13시	15시	* 샘플제작 (2차) 이전공정내역 : Develop 진행요청공정 : Ti Wet Etch + EKC	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2158	2017-08-21 11시	14시	* 샘플제작 (2차) 이전공정내역 : Develop 진행요청공정 : Al Wet etch	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2159	2017-08-21 14시	15시	SPM 10 min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	90,000원
2160	2017-08-22 10시	11시	oxide Etch PR Remove	부산대학교	인지메카트로닉스공학과	심영보	135,000원
2161	2017-08-22 10시	11시	* 샘플제작 (2차) 이전공정내역 : Alloy 진행요청공정 : DHF	테크닉스(주)	연구개발	강예환	0원
2162	2017-08-22 12시	13시	SPM,DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	187,500원
2163	2017-08-23 10시	11시	SPM,DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	박슬기	212,500원
2164	2017-08-25 10시	11시	SPM,DHF	전북대학교	전자공학부	김기현	150,000원
2165	2017-08-25 10시	11시	2nd Mask PR Remove (SPM)	부산대학교	인지메카트로닉스공학과	심영보	135,000원
2166	2017-08-25 16시	17시	0-2-1 pr remove spm 0-3-2 thinning oxidation pre clean	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	440,000원
2167	2017-08-29 15시	16시	0-4-1 thinning ox strip ox wet etch boe	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	300,000원
2168	2017-08-31 11시	12시	DHF+SPM	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	150,000원
2169	2017-08-31 16시	17시	0-2-1 initial oxide SC1 0-2-2 initial oxide DHF	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	187,500원
2170	2017-09-01 11시	12시	2-3-3 CNT Polymer Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	75,000원
2171	2017-09-01 11시	12시	2-3-2 CNT SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	112,500원
2172	2017-09-01 14시	15시	Oxide Etch PR Remove (SPM)	(주)니나노	기업부설연구소	박준영	150,000원
2173	2017-09-01 14시	15시	cleaning	포항공과대학교	전기전자공학과	김성지	90,000원
2174	2017-09-01 15시	16시	Polymer Remove	(주)니나노	기업부설연구소	박준영	100,000원
2175	2017-09-04 15시	16시	1-4-1 AKEY Oxide Remove	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	75,000원
2176	2017-09-05 8시	9시	SPM	LG전자	센서솔루션연구소	이성단	127,500원
2177	2017-09-07 14시	15시	* 단위공정 이전공정 : Al Depo 완료 진행공정 : Al Strip	테크닉스(주)	연구개발	강예환	100,000원
2178	2017-09-08 14시	15시	4 Wafer Cleaning SPM 6 Wafer Cleaning BOE	LG 이노텍	소자개발팀	정지철	450,000원
2179	2017-09-08 15시	16시	AKEY PR Remove	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	112,500원
2180	2017-09-11 11시	12시	1-3-2 NW SPM PR Strip	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	150,000원
2181	2017-09-11 12시	13시	1-3-3 NW Polymer Strip	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	100,000원
2182	2017-09-11 16시	17시	BOE Bath	LG 이노텍	소자개발팀	정지철	300,000원
2183	2017-09-12 11시	13시	SPM, BOE cleaning 4 inch Si wafer 2EA SiC wafer 4EA	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	220,000원
2184	2017-09-13 10시	18시	MEMS 기술사업화 계약_Thinfilm	나노융합기술원	기술지원팀	황현주	2,250,000원
2185	2017-09-13 12시	13시	SiO2 Remove	LG 이노텍	소자개발팀	정지철	100,000원
2186	2017-09-14 17시	18시	조각 3개 cleaning (SPM, dHF)	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	150,000원
2187	2017-09-15 12시	13시	2-3-2 SE SPM PR Strip	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	150,000원
2188	2017-09-18 15시	17시	3-1-1 contact ild depo. precleaning APM 3-1-2 contact ild depo. precleaning DHF 3-1-3 contact ild depo. precleaning SC2	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	412,500원
2189	2017-09-18 16시	17시	0-1-1 fab-in Clean SPM	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	112,500원
2190	2017-09-19 10시	12시	SPM(어제사용)+DHF(금일사용)	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	150,000원
2191	2017-09-20 11시	12시	dHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	60,000원
2192	2017-09-20 18시	19시	SPM 10 min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	90,000원
2193	2017-09-20 21시	22시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	60,000원
2194	2017-09-21 17시	18시	SPM DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	150,000원
2195	2017-09-25 10시	11시	0-1-1 fab-in clean spm	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	112,500원
2196	2017-09-26 10시	11시	Native oxide 제거	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	60,000원
2197	2017-09-26 18시	19시	7. Ashing 후 Clean-3	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	100,000원
2198	2017-09-26 18시	19시	6. Ashing 후 Clean-2	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	150,000원
2199	2017-09-26 18시	19시	5. Ashing 후 Clean-1	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	150,000원
2200	2017-09-26 9시	10시	1. PR cap 전 Clean	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	150,000원
2201	2017-09-27 13시	14시	2-6-1 Back PR Remove	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	112,500원
2202	2017-09-27 9시	10시	9. Oxidatin strip	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	150,000원
2203	2017-09-28 10시	11시	dhf	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	60,000원
2204	2017-09-28 16시	17시	SPM + DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	서명해	150,000원
2205	2017-09-29 13시	14시	SPM + DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	서명해	150,000원
2206	2017-09-29 9시	10시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	60,000원
2207	2017-10-10 11시	12시	2-6-1 Back PR Remove	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	112,500원
2208	2017-10-10 11시	13시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	60,000원
2209	2017-10-12 15시	16시	3-4-1 DOP Anneal DHF Clean	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	100,000원
2210	2017-10-13 14시	15시	Wet Station SPM	이코루미	연구소	구가인	150,000원
2211	2017-10-13 14시	15시	6 Wafer Cleaning BOE	LG 이노텍	소자개발팀	정지철	300,000원
2212	2017-10-13 14시	15시	silicon wafer cleaning	포항공과대학교	전자과	백상원	90,000원
2213	2017-10-13 17시	18시	SPM cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	90,000원
2214	2017-10-16 16시	17시	SPM DHF Bath 사용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	150,000원
2215	2017-10-16 17시	18시	5. Ashing 후 Clean-1	ETRI	RF/전력부품연구그룹	문재경	150,000원
2216	2017-10-16 17시	18시	6. Ashing 후 Clean-2	ETRI	RF/전력부품연구그룹	문재경	150,000원
2217	2017-10-16 17시	18시	7. Ashing 후 Clean-3	ETRI	RF/전력부품연구그룹	문재경	100,000원
2218	2017-10-16 9시	10시	1.PR cap 前 clean	ETRI	RF/전력부품연구그룹	문재경	150,000원
2219	2017-10-17 17시	18시	BOE	LG 이노텍	소자개발팀	정지철	300,000원
2220	2017-10-17 9시	10시	9. Oxidation Strip	ETRI	RF/전력부품연구그룹	문재경	150,000원
2221	2017-10-18 10시	12시	SPM, BOE cleaning 4 inch SiC wafer 6EA	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	225,000원
2222	2017-10-18 13시	14시	SPM dHF cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	150,000원
2223	2017-10-18 14시	15시	DHF Bath 사용	LG 이노텍	소자개발팀	정지철	100,000원
2224	2017-10-20 13시	14시	25 자연 산화막 제거 cleaning	LG 이노텍	소자개발팀	정지철	100,000원
2225	2017-10-20 14시	15시	4-2-1 MET DHF Wet Etch	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	100,000원
2226	2017-10-23 14시	15시	2-2-1 al depo. pre clean	(주) 이너센서	이너센서	강문식	100,000원
2227	2017-10-23 14시	15시	DHF cleaning	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	75,000원
2228	2017-10-23 15시	16시	SPM Cleaning	이코루미	연구소	구가인	150,000원
2229	2017-10-25 10시	18시	MEMS 기술사업화 계약_Thinfilm	나노융합기술원	기술지원팀	황현주	3,000,000원
2230	2017-10-26 16시	17시	PR REmove _SPM	포항공과대학교	IBB	정민규	127,500원
2231	2017-10-26 18시	19시	SPM 10min / dHF 5 min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	150,000원
2232	2017-10-27 9시	10시	SPM Cleaning	포항공과대학교	IBB	정민규	127,500원
2233	2017-10-31 10시	11시	0-3-2 thinning oxidation pre clean SC-1, DHF	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	250,000원
2234	2017-11-01 15시	16시	0-4-1 thinning oxidation ox wet etxh boe	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	300,000원
2235	2017-11-02 10시	11시	bare wafer SPM / dHF cleaning	포항공과대학교	전자과	백상원	150,000원
2236	2017-11-02 11시	12시	1. PR cap 전 clean	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	150,000원
2237	2017-11-02 13시	17시	전문인력양성사업 교육_ThinFilm	나노융합기술원	교육홍보팀	이현규	400,000원
2238	2017-11-03 12시	13시	BOE Etch	LG전자	ICS팀	김기민	212,500원
2239	2017-11-03 15시	16시	5. Clean 1	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	150,000원
2240	2017-11-03 15시	16시	6. Clean 2	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	150,000원
2241	2017-11-03 15시	16시	7. Clean 3	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	100,000원
2242	2017-11-06 9시	10시	9. Oxidation Strip	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	150,000원
2243	2017-11-07 14시	15시	Cleaning SPM	포항공과대학교	전자전기공학과	최원영	90,000원
2244	2017-11-07 15시	16시	Cleaning DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	최원영	60,000원
2245	2017-11-07 16시	17시	dHF Back oxide removal	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	60,000원
2246	2017-11-08 14시	15시	dHF cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	60,000원
2247	2017-11-08 14시	15시	SPM,APM,DHF	LG전자	ICS팀	김기민	340,000원
2248	2017-11-09 15시	15시	SPM Wet Station	이코루미	연구소	구가인	150,000원
2249	2017-11-10 16시	17시	bare wafer cleaning	포항공과대학교	전자과	백상원	90,000원
2250	2017-11-13 13시	14시	dHF 3min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	60,000원
2251	2017-11-13 14시	15시	Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	최원영	90,000원
2252	2017-11-13 15시	16시	Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	최원영	60,000원
2253	2017-11-14 11시	12시	dHF 2min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	60,000원
2254	2017-11-15 11시	12시	DHF Cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	60,000원
2255	2017-11-20 15시	16시	PR Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	최원영	90,000원
2256	2017-11-20 16시	17시	PR Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	최원영	60,000원
2257	2017-11-23 12시	13시	SPM, dHF 사용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	150,000원
2258	2017-11-23 14시	15시	SPM Cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	90,000원
2259	2017-11-23 15시	16시	SPM+DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	서명해	150,000원
2260	2017-11-27 10시	11시	DHF Bath 사용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	60,000원
2261	2017-11-27 15시	16시	PR Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	최원영	90,000원
2262	2017-11-27 16시	17시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	60,000원
2263	2017-11-27 16시	17시	1 Ashing 후 Clean 1 2 rounding 후 clen 1	LG전자	SIC센터 ICS팀	김수진	255,000원
2264	2017-11-27 18시	19시	1. Ashing 후 Clean 2 2. Rounding 처리 후 Clean 2	LG전자	SIC센터 ICS팀	김수진	170,000원
2265	2017-11-28 14시	15시	PR Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	최원영	90,000원
2266	2017-11-29 10시	11시	oxide remove	포항공과대학교	전기전자공학과	김성지	60,000원
2267	2017-11-29 11시	13시	BOE 10:1	LG전자	ICS팀	김기민	212,500원
2268	2017-11-29 13시	14시	0-1-2 hard mask depo. pre clean spm	(주)니나노	기업부설연구소	박준영	270,000원
2269	2017-11-30 11시	12시	dHF cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	60,000원
2270	2017-11-30 16시	17시	dHF 산화막제거	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	60,000원
2271	2017-11-30 9시	10시	DHF Bath 사용(nano wire)	포항공과대학교	전기전자공학과	김성지	75,000원
2272	2017-12-01 11시	12시	ox remove	포항공과대학교	전기전자공학과	김성지	60,000원
2273	2017-12-05 11시	12시	2-1-2 DHF	(주)네오나노텍	연구개발	김성훈	100,000원
2274	2017-12-05 14시	15시	SPM	포항공과대학교	창의IT융합공학과	서명해	90,000원
2275	2017-12-07 10시	11시	spm cleaning	LG전자	센서솔루션연구소	이성단	127,500원
2276	2017-12-07 11시	16시	인산 150C 1hr BOE(10:1) 20min 조각 sample 8ea	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	450,000원
2277	2017-12-07 15시	16시	4 Wafer Cleaning SPM 6 Wafer Cleaning DHF	LG 이노텍	소자개발팀	정지철	250,000원
2278	2017-12-08 10시	11시	Pre cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	최원영	90,000원
2279	2017-12-11 11시	12시	Field Plate Pattern DHF	LG 이노텍	소자개발팀	정지철	100,000원
2280	2017-12-11 14시	15시	Field Plate Pattern SPM	LG 이노텍	소자개발팀	정지철	150,000원
2281	2017-12-11 15시	16시	cleaning	포항공과대학교	전기전자공학과	김성지	90,000원
2282	2017-12-11 16시	17시	PR cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	최원영	90,000원
2283	2017-12-12 13시	14시	29 뒷면 잔여 산화막 제거	LG 이노텍	소자개발팀	정지철	300,000원
2284	2017-12-12 16시	17시	Metal BOE Etch	LG 이노텍	소자개발팀	정지철	300,000원
2285	2017-12-13 15시	16시	cleaning (SPM,dHF)	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	150,000원
2286	2017-12-14 10시	11시	precleaning spm dhf	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	225,000원
2287	2017-12-14 11시	18시	MEMS 기술사업화 계약_cleaning	나노융합기술원	기술지원팀	황현주	600,000원
2288	2017-12-14 9시	10시	SOI SPM	LG전자	센서솔루션연구소	이성단	127,500원
2289	2017-12-19 10시	11시	Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	최원영	90,000원
2290	2017-12-19 14시	15시	1-3-2 NW NR PR Remove SPM 1-3-3 NW NR PR Remove DHF	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	250,000원
2291	2017-12-21 10시	11시	cleaning	포항공과대학교	전기전자공학과	김성지	90,000원
2292	2017-12-22 10시	11시	2-3-2 SE BOX PR Remove SPM	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	150,000원
2293	2017-12-22 14시	15시	LaF3 CV Fabrication	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	60,000원
2294	2017-12-26 15시	16시	PR	포항공과대학교	전자전기공학과	최원영	60,000원
2295	2017-12-26 17시	18시	1-4-4 Si 100:1 DHF	(주)네오나노텍	연구개발	김성훈	100,000원
2296	2017-12-26 17시	18시	1-4-3 Si SPM 10min	(주)네오나노텍	연구개발	김성훈	150,000원
2297	2017-12-27 12시	13시	DHF bath 사용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	60,000원
2298	2017-12-27 15시	16시	dhf	포항공과대학교	전기전자공학과	김성지	60,000원
2299	2017-12-27 17시	18시	SPM + DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	서명해	150,000원
2300	2017-12-28 17시	18시	폴리이미드 제거	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	90,000원
2301	2017-12-29 10시	11시	SPM + dHF	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	150,000원
2302	2018-01-02 10시	12시	SPM + DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	서명해	150,000원
2303	2018-01-02 9시	10시	Spm dhf 클리닝 진행	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	150,000원
2304	2018-01-05 14시	15시	0-1-2 preclean spm dhf	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유호천	0원
2305	2018-01-08 10시	11시	Spm dhf 클리닝	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	150,000원
2306	2018-01-09 13시	14시	DOP PR Remove	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	250,000원
2307	2018-01-11 15시	16시	SPM Bath 사용	LG전자	ICS팀	김기민	127,500원
2308	2018-01-11 16시	17시	SPM	포항공과대학교	창의IT융합공학과	서명해	90,000원
2309	2018-01-12 10시	17시	SPM 1회 SC-2 1회 DHF 1회	서강대학교	전자공학과	이장우	0원
2310	2018-01-12 15시	16시	SPM DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	150,000원
2311	2018-01-15 15시	16시	SPM DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	150,000원
2312	2018-01-16 16시	17시	Poly Etch PR Remove Test	(주)케이이씨	공정기술G	박선운	150,000원
2313	2018-01-16 19시	20시	SPM DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	150,000원
2314	2018-01-19 12시	13시	Poly Etch PR Remove Test	(주)케이이씨	공정기술G	박선운	150,000원
2315	2018-01-19 13시	14시	2-1-0 SAC Oxide Remove	(주)네오나노텍	연구개발	김성훈	250,000원
2316	2018-01-19 14시	15시	cleaning	포항공과대학교	전기전자공학과	김성지	90,000원
2317	2018-01-22 15시	16시	SPM,DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	150,000원
2318	2018-01-23 13시	14시	DHF Bath	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	75,000원
2319	2018-01-23 14시	15시	SPM	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	90,000원
2320	2018-01-24 10시	11시	SPM, dHF	포항공과대학교	전자전기공학과	최원영	150,000원
2321	2018-01-24 9시	12시	dhf 1min + wf 5매	주식회사 아르케	연구개발	사공성환	275,000원
2322	2018-01-25 10시	11시	10시까지 spm 온도 올려주세요 DHF Bath 사용	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	180,000원
2323	2018-01-25 14시	15시	SPM 1 회	(주)네오나노텍	연구개발	김성훈	150,000원
2324	2018-01-25 22시	23시	SPM + DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	서명해	150,000원
2325	2018-01-26 14시	15시	PR stripping SPM, dHF	포항공과대학교	전자전기공학과	최원영	150,000원
2326	2018-01-29 13시	14시	1-3-2 Poly SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	112,500원
2327	2018-01-29 13시	14시	cleaning	포항공과대학교	전기전자공학과	김성지	90,000원
2328	2018-01-29 14시	15시	cleaning	포항공과대학교	전기전자공학과	김성지	60,000원
2329	2018-01-29 20시	21시	DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	60,000원
2330	2018-01-30 10시	11시	ox etch	포항공과대학교	전기전자공학과	김성지	60,000원
2331	2018-01-30 13시	14시	1-5-2 PENITRIDE SPM PR Strip	(주)네오나노텍	연구개발	김성훈	150,000원
2332	2018-01-30 16시	17시	Spm dhf	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	150,000원
2333	2018-01-31 14시	15시	기계사용법 배우고 싶습니다. TMAH 90도 / DHF Cleaning	포항공과대학교	기계공학과	허명	375,000원
2334	2018-01-31 15시	16시	Dhf	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	60,000원
2335	2018-01-31 9시	13시	TIDL-LJW-24,25 SPM + DHF TIDL-TFET-1,2,3 SC-2 TIDL-B-09,10,19 SC-2 DHF	서강대학교	전자공학과	이장우	0원
2336	2018-02-01 10시	11시	10시까지 spm 온도 부탁드립니다 DHF도 같이 부탁드립니다	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	180,000원
2337	2018-02-01 11시	12시	SPM	LG전자	센서솔루션연구소	이성단	127,500원
2338	2018-02-05 17시	18시	1-3-1 PIEZO PR Ashing	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	112,500원
2339	2018-02-06 15시	16시	SPM 15 min BOE 5min 부탁드립니다	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	225,000원
2340	2018-02-08 14시	15시	4-2-1 Bath DHF 2회	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	200,000원
2341	2018-02-12 23시	24시	PR 제거 및 dHF 클리닝 (2월 9일 사용)	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	150,000원
2342	2018-02-12 9시	10시	ETRI SiC 6인치 Wafer 과제 수행 1. Clean	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	0원
2343	2018-02-13 10시	11시	ETRI SiC 6인치 Wafer 과제 수행 5/6/7, Clean	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	0원
2344	2018-02-13 10시	11시	cleaning	포항공과대학교	전기전자공학과	김성지	90,000원
2345	2018-02-13 9시	10시	ETRI SiC 6인치 Wafer 과제 수행 9.Oxidation Strip	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	0원
2346	2018-02-14 15시	16시	DHF	포항공과대학교	전기전자공학과	김성지	60,000원
2347	2018-02-19 15시	16시	cleaning	포항공과대학교	전기전자공학과	김성지	90,000원
2348	2018-02-20 9시	18시	MEMS 기술사업화 계약_Thinfilm	나노융합기술원	기술지원팀	황현주	600,000원
2349	2018-02-22 12시	13시	dhf	포항공과대학교	전기전자공학과	김성지	60,000원
2350	2018-02-22 22시	23시	SPM cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	90,000원
2351	2018-02-22 9시	10시	cleaning	포항공과대학교	전기전자공학과	김성지	90,000원
2352	2018-02-23 11시	12시	dhf	포항공과대학교	전기전자공학과	김성지	60,000원
2353	2018-02-23 18시	19시	SOI cleaning, SPM, dHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	150,000원
2354	2018-02-27 11시	12시	SPM Cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	90,000원
2355	2018-02-27 14시	15시	0-2-1 initial oxide pre cleaning sc1 0-2-2 initial oxide pre cleaning dhf	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	187,500원
2356	2018-02-27 14시	15시	0-2-1 akey initial oxide pre cleaning sc1 0-2-2 akey initial oxide pre cleaning dhf	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	0원
2357	2018-02-28 13시	14시	SPM,DHF Cleaning	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	225,000원
2358	2018-03-05 12시	13시	SPM, DHF 공정의뢰 드립니다. 오전 11시 쯤 도착할 것 같습니다. SPM 온도 셋팅 부탁 드립니다.	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	225,000원
2359	2018-03-05 13시	14시	SPM cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	90,000원
2360	2018-03-05 14시	15시	0-1-1 fab-in clean spm	부산테크노파크	파워반도체상용화센터	전헌수	0원
2361	2018-03-06 11시	12시	2-1-0 si sac oxide remove boe	(주)네오나노텍	연구개발	김성훈	300,000원
2362	2018-03-08 15시	16시	SPM cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	90,000원
2363	2018-03-09 13시	14시	SPM PR cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	90,000원
2364	2018-03-12 11시	12시	SPM 공정의뢰 11시까지 온도 셋팅 부탁드립니다	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	108,000원
2365	2018-03-12 16시	17시	SPM cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	90,000원
2366	2018-03-13 15시	16시	SPM PR Remove	(주)네오나노텍	연구개발	김성훈	150,000원
2367	2018-03-13 16시	18시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	60,000원
2368	2018-03-15 10시	11시	Spm BOE	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	225,000원
2369	2018-03-15 14시	15시	SPM dHF pre-clean	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	150,000원
2370	2018-03-15 23시	24시	SPM 3월 13일 사용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	90,000원
2371	2018-03-16 17시	18시	PR cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	90,000원
2372	2018-03-19 10시	11시	Cleaning	현대모비스	전력반도체팀	이정윤	0원
2373	2018-03-19 11시	12시	SPM Cleaning	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	112,500원
2374	2018-03-19 15시	16시	Back SPM PR Remove	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	112,500원
2375	2018-03-20 11시	12시	dHF cleaning (SPM 3월 19일 신청) SPM 사용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	150,000원
2376	2018-03-20 13시	14시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	60,000원
2377	2018-03-20 13시	14시	SPM,DHF	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	0원
2378	2018-03-20 15시	18시	유량 센서 및 후면 배선 연결 공정[과제번호:4.0015206.01]_Wet Etch	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	850,000원
2379	2018-03-22 13시	14시	SPM	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	0원
2380	2018-03-22 15시	16시	3-1-1 contact ild depo. pre claening APM 3-1-2 contact ild depo. pre claening DHF 3-1-3 contact ild depo. pre claening SC2	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	412,500원
2381	2018-03-22 16시	17시	조각 SPM DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	150,000원
2382	2018-03-23 14시	15시	0-1-1 fab-in spm	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	112,500원
2383	2018-03-23 18시	19시	SPM, dHF cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	150,000원
2384	2018-03-26 17시	18시	SiC 과제 관련 5,6,7 Wet Clean	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	0원
2385	2018-03-26 9시	10시	SiC 과제 관련 1. Pre Clean	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	0원
2386	2018-03-27 10시	11시	I32301D, I32302D 각 2매 Pre Cleaning 진행 하고자 함. SPM, APM, DHF사용 ------------------------------------------------- SPM,BOE 각1회 사용	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2387	2018-03-27 11시	12시	DHF Cleaning	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	90,000원
2388	2018-03-27 11시	12시	APM Cleaning	부산테크노파크	파워반도체상용화센터	전헌수	0원
2389	2018-03-27 9시	10시	SiC 과제 관련 9. Oxidation Strip	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	0원
2390	2018-03-28 17시	18시	SPM, dHF cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	150,000원
2391	2018-03-30 11시	12시	SPM, DHF Cleaning	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	225,000원
2392	2018-03-30 15시	18시	I32301D (2매) , I32302D (2매) SPM, (DHF 1000:1) QDR 사용하고자 함.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2393	2018-03-30 18시	19시	Spm	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	90,000원
2394	2018-04-02 10시	12시	I32301D (2매) BOE,QDR,Spindryer 사용 신청합니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2395	2018-04-02 13시	14시	1-2-1 mask remove ox. wet strip	광전자주식회사	SF개발1부	조민재	300,000원
2396	2018-04-02 15시	16시	DHF Cleaning	현대모비스	전력반도체팀	이정윤	0원
2397	2018-04-03 10시	12시	I32302D (2매) BOE,QDR,Spindryer 사용 신청합니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2398	2018-04-03 14시	15시	SPM - PR cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	90,000원
2399	2018-04-03 15시	16시	0-1-1 fab-in SPM cleaning	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	112,500원
2400	2018-04-03 9시	10시	SPM_10분	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	112,500원
2401	2018-04-04 11시	12시	3-3-1 contact metal depo. dhf 100:1	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	75,000원
2402	2018-04-04 11시	12시	180404 BOE 10:1 60min, DHF 100:1 15sec	현대모비스	전력반도체팀	이정윤	0원
2403	2018-04-04 11시	12시	0-3-2 thinning oxidation pre clean sc1, dhf	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	250,000원
2404	2018-04-05 10시	11시	SPM	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	112,500원
2405	2018-04-05 14시	15시	0-4-1 thinning ox strip BOE	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	300,000원
2406	2018-04-05 16시	17시	Back Si Etch PR Remove	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	112,500원
2407	2018-04-05 9시	10시	I32301 (2매) , I32302 (2매) SPM, DHF 사용 신청합니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2408	2018-04-06 10시	11시	SPM Cleaning SC-1 Cleaning	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	0원
2409	2018-04-06 10시	11시	0-1-1 fab-in clean spm	부산테크노파크	파워반도체상용화센터	전헌수	0원
2410	2018-04-06 11시	12시	0-1-1 fab-in clean	부산테크노파크	파워반도체상용화센터	전헌수	0원
2411	2018-04-09 10시	11시	SPM	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	112,500원
2412	2018-04-09 15시	16시	단위공정용 wafer SPM Cleaning 요청합니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2413	2018-04-09 16시	17시	100:1 DHF	한국전기연구원	창의원천연구본부 나노융합기술연구센터	윤민주	90,000원
2414	2018-04-09 16시	17시	SPM PR Remove	한국전기연구원	창의원천연구본부 나노융합기술연구센터	윤민주	135,000원
2415	2018-04-09 21시	22시	SPM, dHF cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	150,000원
2416	2018-04-09 9시	10시	I32301D (2매) , I32302 (2매) BOE 사용 신청합니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2417	2018-04-10 11시	12시	I32301D (2매) , I32302D (2매) APM,SPM,DHF 사용 신청합니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2418	2018-04-10 13시	14시	I32301D (2매) , I32302D (2매) SPM , DHF 사용신청합니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2419	2018-04-10 17시	18시	HM PR Remove	부산테크노파크	파워반도체상용화센터	전헌수	0원
2420	2018-04-11 11시	12시	SPM, BOE 11시까지 SPM 온도 부탁드리겠습니다.	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	408,000원
2421	2018-04-11 13시	14시	SPM	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	112,500원
2422	2018-04-11 15시	16시	0-1-1 Fab-in Clean	(주)베프스	기획팀	BEFS	150,000원
2423	2018-04-11 16시	17시	HM PR Remove	부산테크노파크	파워반도체상용화센터	전헌수	0원
2424	2018-04-11 9시	11시	I32301D (2매) , I32302D (2매) SPM , BOE 사용 신청 합니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2425	2018-04-12 13시	14시	TEST Wafer 1매 SPM 사용 요청합니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2426	2018-04-12 16시	17시	oxide remove	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	225,000원
2427	2018-04-12 18시	19시	I32301D (2매) , I32302D (2매) SPM 사용 신청합니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2428	2018-04-12 8시	10시	I32301D (2매) , I32302D (2매) SPM, BOE 사용 신청합니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2429	2018-04-13 11시	12시	SPM, dHF (4월 12일 사용)	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	90,000원
2430	2018-04-13 9시	11시	쇼트키 1매 DHF 100:1 사용 신청합니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2431	2018-04-16 1시	16시	차세대 실리콘 파워반도체 기술사업화 계약-박막	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	800,000원
2432	2018-04-16 11시	13시	Jig Cleaning BOE 사용 신청합니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2433	2018-04-16 13시	15시	I32301D (2매) , I32302D (2매) , I41101D (2매) SPM,DHF 100:1 사용 신청합니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2434	2018-04-17 10시	11시	SPM, BOE cleaning -------------------	한국전기연구원	전력반도체연구센터	석오균	225,000원
2435	2018-04-17 11시	12시	SPM, DHF Bath 사용	한국전기연구원	전력반도체연구센터	석오균	225,000원
2436	2018-04-17 13시	14시	SPM, dHF cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	150,000원
2437	2018-04-17 14시	15시	Jig Cleaning BOE 사용 신청합니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2438	2018-04-17 16시	17시	1-3-2 AKEY SPM PR Remove	현대모비스	전력반도체팀	이정윤	112,500원
2439	2018-04-18 10시	11시	SPM,DHF 탑다운과제	한국전기연구원	전력반도체연구센터	석오균	225,000원
2440	2018-04-18 11시	12시	SPM 전처리	LG전자	센서솔루션연구소	이성단	127,500원
2441	2018-04-18 12시	13시	dHF 사용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	김강현	60,000원
2442	2018-04-18 16시	17시	SPM,DHF 사용 신청합니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2443	2018-04-20 10시	11시	Bare 6" silicon wafer cleaning (SPM + dHF)	포항공과대학교	전자과	백상원	150,000원
2444	2018-04-23 1시	1시	안녕하세요 주)DNF 박건주입니다. 메일로 보내드린 내용과 같이 Wet etch 의뢰 드립니다. Wet etch condition : HF 200 : 1 박막 종류 : SiN (Silicon nitride) 박막 두께 : 150~350Å Sample 수량 : 50mm*50mm size 15EA 입니다 당사에서는 공정 진행료 처리를 위해 견적서가 필요합니다. 해당 공정 내용 및 두께 측정료 내역을 gjpark@dnfsolution.com 으로 견적서 발급을 부탁드립니다. 문의사항은 010-5580-6952 언제든 문의 주시면 됩니다 감사합니다	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	500,000원
2445	2018-04-25 10시	14시	SPM, BOE 10분	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2446	2018-04-25 13시	14시	SPM, SC-1, DHF	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	0원
2447	2018-04-25 16시	17시	SPM	포항공과대학교	IBB	정민규	127,500원
2448	2018-04-26 10시	12시	BOE	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2449	2018-04-26 17시	18시	SPM,DHF Cleaning	포항공과대학교	기계공학과	김민정	212,500원
2450	2018-04-27 10시	12시	SPM 사용 신청 합니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2451	2018-04-30 15시	16시	0-1-2 hard mask pre clean	(주)니나노	기업부설연구소	박준영	150,000원
2452	2018-05-02 10시	12시	SPM,SC-1,DHF Cleaning	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	300,000원
2453	2018-05-02 11시	13시	BOE Bath(rework)	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2454	2018-05-02 16시	17시	SPM 10 min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	90,000원
2455	2018-05-03 10시	12시	dHF 3min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	60,000원
2456	2018-05-03 13시	16시	SPM, BOE 사용 신청합니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2457	2018-05-04 10시	12시	BOE Cleaning (SiC 3ea 50min dipping 2회)	현대모비스	전력반도체팀	이정윤	450,000원
2458	2018-05-04 9시	10시	PD020065E0 (2매) SPM,BOE 사용 요청합니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2459	2018-05-07 15시	18시	SPM , BOE 사용.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2460	2018-05-08 20시	21시	SPM 10 min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	90,000원
2461	2018-05-09 15시	16시	2-3-2 Ring SPM PR Strip	현대모비스	전력반도체팀	이정윤	112,500원
2462	2018-05-09 9시	10시	SPM, BOE 사용 입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2463	2018-05-10 10시	11시	SPM, DHF 각 1회씩 진행예정입니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	150,000원
2464	2018-05-10 10시	12시	HM050N120A0 4매 BOE 사용신청합니다. 점심쯤 SPM도 사용할거같아요.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2465	2018-05-10 13시	16시	세정 순서 1) WAFER 10매 DIW에 30시간 DIPPING ==> MANUAL SCRUBBING==>SPM==> RINSE==>SPIN DRY 2) WAFER 10매 DIW에 30시간 DIPPING ==>SPM==> RINSE ==> SC1 ==> RINSE ==> SPIN DRY	아레텍(주)	대표이사	이학원	450,000원
2466	2018-05-11 13시	14시	SPM,BOE 사용 예정입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2467	2018-05-11 14시	15시	3-1-1 active field oxidation APM 3-1-2 active field oxidation DHF	현대모비스	전력반도체팀	이정윤	187,500원
2468	2018-05-14 13시	15시	silicide test spm 4매 진행예정입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2469	2018-05-15 9시	10시	SPM DHF Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	박슬기	212,500원
2470	2018-05-16 11시	12시	0-1-1 Fab-in SPM	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	0원
2471	2018-05-17 13시	14시	1-4-1 AKEY Oxide Remove	현대모비스	전력반도체팀	이정윤	225,000원
2472	2018-05-18 15시	16시	3-6-2 Active SPM PR Strip	현대모비스	전력반도체팀	이정윤	112,500원
2473	2018-05-18 17시	18시	PR Remove & Polymer Remove	(주)베프스	기획팀	BEFS	150,000원
2474	2018-05-21 10시	11시	HM050N120A0 BOE 사용 신청합니다. 1회사용	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2475	2018-05-21 15시	16시	silicide test spm 사용입니다. 1회 사용	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2476	2018-05-21 15시	17시	2-4-1 Ring Oxide Remove	현대모비스	전력반도체팀	이정윤	225,000원
2477	2018-05-23 14시	15시	HM050N120A0 SPM, BOE 2회 사용합니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2478	2018-05-23 16시	18시	3-10-1 Active Oxide Remove BOE 4-1-1 Gate Oxide APM, DHF	현대모비스	전력반도체팀	이정윤	412,500원
2479	2018-05-23 9시	11시	Pre-treament: HCL:DL (one to one) 10 secs HCL, 20 secs DL and 20 Secs DL( 3 beakers)	영남대학교	물리학과	황지영	150,000원
2480	2018-05-23 9시	17시	차세대 실리콘 파워반도체 기술사업화 계약-Thinfilm	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	800,000원
2481	2018-05-24 10시	11시	test wafer 진행입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2482	2018-05-24 13시	18시	10나노급 차세대 실리콘 개발 관련 SC-2, BOE 각 2회	포항공과대학교	창의IT융합공학과	박태훈	1,000,000원
2483	2018-05-25 9시	10시	HM050N120A0 SPM, DHF 1회 사용신청입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2484	2018-05-28 11시	12시	SPM Cleaning	한국전기연구원	창의원천연구본부 나노융합기술연구센터	윤민주	135,000원
2485	2018-05-28 15시	16시	0-1-1 Fab-in SPM Clean	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	0원
2486	2018-05-28 17시	18시	HM050N120A0 SPM 1회,DHF 1회 사용 신청입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2487	2018-05-28 9시	10시	HM050N120A0 SPM, BOE 각 1회 사용신청입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2488	2018-05-29 15시	16시	SIlicide 3매, schottky 2매, poly test 2매 이용신청입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2489	2018-05-29 16시	18시	4-6-2 GATE SPM PR Strip	현대모비스	전력반도체팀	이정윤	112,500원
2490	2018-05-29 17시	18시	4-6-3 GATE Polymer Strip	현대모비스	전력반도체팀	이정윤	75,000원
2491	2018-05-29 8시	9시	SPM,BOE 각 1회 사용입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2492	2018-05-30 16시	17시	4-6-2 GATE PR Remove SPM 4-6-3 GATE PR Remove DHF	현대모비스	전력반도체팀	이정윤	187,500원
2493	2018-05-30 20시	22시	pR remove	포항공과대학교	전자전기공학과	최원영	90,000원
2494	2018-05-30 9시	11시	HM050N120A0 BOE 후 SPM,DHF 각 1회씩 사용 신청합니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2495	2018-05-31 11시	12시	HM050N120A0 4매 SPM 1회, BOE 1회 이용신청입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2496	2018-05-31 17시	18시	SPM Cleaning	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2497	2018-06-01 10시	11시	SPM	(주)라디안큐바이오	바이오 R&D 센터	라디안큐바이오	75,000원
2498	2018-06-01 11시	12시	DHF	(주)라디안큐바이오	바이오 R&D 센터	라디안큐바이오	50,000원
2499	2018-06-01 14시	16시	3-1-1 Contact ILD Depo. Pre-Cleaning APM 3-1-2 Contact ILD Depo. Pre-Cleaning DHF 3-1-3 Contact ILD Depo. Pre-Cleaning SC2	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	412,500원
2500	2018-06-01 14시	15시	SPM, DHF 각 1회 신청합니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2501	2018-06-04 15시	17시	SPM 2회 신청합니다	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2502	2018-06-04 17시	18시	1st Si Wet Etching, 3회 진행(120min, 50min, 60min)	(주)라디안큐바이오	바이오 R&D 센터	라디안큐바이오	450,000원
2503	2018-06-05 10시	11시	SPM, BOE,DHF 사용 신청입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2504	2018-06-05 15시	16시	Oxide Etching	(주)라디안큐바이오	바이오 R&D 센터	라디안큐바이오	150,000원
2505	2018-06-05 16시	17시	2nd Si Wet Etch	(주)라디안큐바이오	바이오 R&D 센터	라디안큐바이오	300,000원
2506	2018-06-07 10시	11시	8-4" Si Susceptor 10매(1회) BOE Etch 입니다.(Oxide 3000Å)	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2507	2018-06-07 10시	12시	SPM, SC-1 Cleaning SPM, BOE Cleaning SC-2, DHF Cleaning	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	862,500원
2508	2018-06-07 15시	16시	4" Si Wafer 1매 Pre CLN 진행(SPM+DHF)	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2509	2018-06-08 10시	11시	HM050N120A0 4매 SPM 1회 사용요청입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2510	2018-06-11 10시	11시	Poly test 1매 SPM 1회, DHF 1회 사용 요청입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2511	2018-06-11 13시	14시	SPM, DHF Cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	150,000원
2512	2018-06-11 9시	10시	0-2-1 Fab-in SPM	고려대학교	반도체시스템공학과	김승근	150,000원
2513	2018-06-12 10시	11시	HM050N120A0 SPM,DHF 각 1회 신청입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2514	2018-06-12 16시	17시	SPM,DHF Cleaning	파워마스터반도체 주식회사	제품개발팀	김홍기	187,500원
2515	2018-06-12 20시	21시	SPM 10 min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	90,000원
2516	2018-06-14 13시	14시	5-3-2 N+ PR Remove SPM PR Strip	현대모비스	전력반도체팀	이정윤	112,500원
2517	2018-06-14 13시	14시	Quartz Jig 1매 DHF 1000:1 3min 진행입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2518	2018-06-14 13시	14시	3-3-1 Contact Metal depo before DHF cleaning 30sec	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	75,000원
2519	2018-06-14 17시	18시	Poly Test 용 Wafer 2매 Pre-CLN 진행입니다. (SPM 10min + DHF 3min)	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2520	2018-06-18 17시	18시	poly Test 용 4" Si Bare Wafer 1매 SPM 10min + DHF100:1 3min 진행입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2521	2018-06-18 17시	18시	0-1-2 HM Pre Cleaning SPM	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	0원
2522	2018-06-18 9시	15시	차세대 실리콘 반도체 기술사업화 계약_thinfilm	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	800,000원
2523	2018-06-19 11시	12시	SPM 및 dHF 를 포함하여 사용 예정.	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	150,000원
2524	2018-06-19 14시	16시	1-2-1 mask remove ox. wet strip	광전자주식회사	SF개발1부	조민재	300,000원
2525	2018-06-19 15시	16시	4-4-1 PAD Metal Pre Cleaning	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	75,000원
2526	2018-06-20 11시	12시	EIS sensor back oxide etching	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	60,000원
2527	2018-06-20 20시	21시	SPM 및 dHF 를 포함하여 사용예정.	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	150,000원
2528	2018-06-21 13시	16시	BOE Etching	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2529	2018-06-22 10시	11시	RT020065V1 4매 SPM 1회 진행 입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2530	2018-06-22 9시	10시	wafer initial cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	최원영	90,000원
2531	2018-06-25 13시	14시	HM050N120A1 5매, SI TEST W/F 2매 SPM 1회, DHF 1회 진행입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2532	2018-06-27 10시	18시	안녕하세요 주)DNF 이삼동입니다. Wet etch 의뢰 드립니다. 상세 의뢰 정보는 메일로 송부 드렸습니다. Wet etch condition : HF 200 : 1 박막 종류 : SiOCN/Si Sub, SiO2/Si sub. Sample 수량 : 30mm*30mm size 5EA 분석 데이터는 하기 메일로 송부 부탁드립니다. sdlee2@dnfsolution.com 당사에서는 공정 진행료 처리를 위해 견적서가 필요합니다. 해당 공정 내용 및 두께 측정료 내역을 상기 메일로 견적서 발급을 부탁드립니다. 문의사항은 010-5828-8051 으로 연락주세요. 감사합니다	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	400,000원
2533	2018-06-27 18시	19시	Si 1st 2nd Layer Etching	(주)라디안큐바이오	바이오 R&D 센터	라디안큐바이오	480,000원
2534	2018-06-28 14시	15시	6-1-1 cont ild depo. pre-cleaning	현대모비스	전력반도체팀	이정윤	112,500원
2535	2018-06-29 10시	11시	HM050N120A1 5매 SPM1회, DHF 1회 진행입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2536	2018-06-29 17시	18시	RT020065V1 1매 SPM 1회 DHF 1회 BOE 1회 진행입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2537	2018-07-02 10시	11시	RT020065V1 (1매) SPM, BOE 각 1회 사용 요청입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2538	2018-07-02 20시	21시	Bare silicon wafer cleaning (SPM+dHF)	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	150,000원
2539	2018-07-03 11시	12시	6-3-2 cont pr remove spm	현대모비스	전력반도체팀	이정윤	112,500원
2540	2018-07-03 13시	15시	HM050N120A1 5매 - BOE 사용 (오후) RT020065V1 4매 - SPM 사용 (오후)	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2541	2018-07-04 14시	15시	2-3-2 bath SPM	현대모비스	전력반도체팀	이정윤	150,000원
2542	2018-07-05 10시	11시	si wet etch	(주)라디안큐바이오	바이오 R&D 센터	라디안큐바이오	150,000원
2543	2018-07-05 13시	14시	DHF cleaning	현대모비스	전력반도체팀	이정윤	75,000원
2544	2018-07-05 16시	17시	native oxide 제거	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	60,000원
2545	2018-07-06 10시	13시	1st si wet etch 2nd si wet etch	(주)라디안큐바이오	바이오 R&D 센터	라디안큐바이오	480,000원
2546	2018-07-06 11시	12시	HM050N120A1 5매 SPM 1회, DHF 1회 진행입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2547	2018-07-06 14시	16시	1st si wet etch 2nd si wet etch	(주)라디안큐바이오	바이오 R&D 센터	라디안큐바이오	150,000원
2548	2018-07-06 14시	15시	RT020065v1 3매 SPM 1회 진행입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2549	2018-07-06 15시	17시	BOE Cleaning	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2550	2018-07-09 10시	11시	Mosteg 4매 BOE 1회 진행입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2551	2018-07-09 15시	16시	Mosteg 4매 SPM 1회 진행입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2552	2018-07-09 19시	20시	Pre cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	최원영	90,000원
2553	2018-07-10 10시	12시	1st si wet etch 2nd si wet etch	(주)라디안큐바이오	바이오 R&D 센터	라디안큐바이오	720,000원
2554	2018-07-10 10시	11시	HM050N120A1 5매 BOE 진행	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2555	2018-07-10 11시	14시	삼성 Thick/GaN Wafer Cleanning SPM+DHF 5매씩 5회진행 SPM+SC2+DHF 1회진행	파워마스터반도체 주식회사	공정기술팀	기종	0원
2556	2018-07-10 19시	20시	Pre cleaning (SPM 1회, dHF 1회)	포항공과대학교	전자전기공학과	최원영	150,000원
2557	2018-07-11 10시	11시	RT020065V1 4매 SPM 1회, DHF 1회 진행입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2558	2018-07-11 10시	12시	1st si wet etch 2nd si wet etch	(주)라디안큐바이오	바이오 R&D 센터	라디안큐바이오	480,000원
2559	2018-07-11 13시	15시	RT020065V1 4매, MOSTEG 4매 SPM 1회, DHF 2회 진행입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2560	2018-07-11 17시	18시	3-3-2 DOP PR Remove SPM 3-4-1 DOP Anneal DHF	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	0원
2561	2018-07-12 10시	12시	1st si wet etch 2nd si wet etch	(주)라디안큐바이오	바이오 R&D 센터	라디안큐바이오	480,000원
2562	2018-07-12 20시	21시	BioFET 소자 Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	90,000원
2563	2018-07-13 14시	15시	SAMCO 8매 SPM 신청입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2564	2018-07-16 10시	11시	HM050N120A1 SPM 사용신청입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2565	2018-07-16 12시	14시	0-1-4 fab-in spmclean 0-1-5 fab-in sc2clean 0-1-6 fab-in dhfclean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
2566	2018-07-16 14시	16시	0-1-4 fab-in spmclean 0-1-5 fab-in sc2clean 0-1-6 fab-in dhfclean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
2567	2018-07-16 16시	18시	0-1-4 fab-in spmclean 0-1-5 fab-in sc2clean 0-1-6 fab-in dhfclean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
2568	2018-07-17 15시	16시	DHF Cleaning	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	75,000원
2569	2018-07-17 17시	18시	RT020065V1 4매 SPM 1회, DHF 1회 진행입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2570	2018-07-18 10시	12시	RT020065V1 4매 BOE 1회, SPM1 회 , DHF1 회 진행입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2571	2018-07-18 11시	12시	1-3-2 akey pr remove spm	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
2572	2018-07-18 15시	16시	BOE Cleaning	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2573	2018-07-18 15시	16시	1-3-2 akey pr remove spm	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
2574	2018-07-19 9시	18시	차세대 실리톤 파워반도체 기술사업화 계약_Thinfilm	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	800,000원
2575	2018-07-20 11시	12시	2-3-2 rx pr remove spm	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
2576	2018-07-20 12시	13시	2-3-2 rx pr remove spm	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
2577	2018-07-20 15시	16시	RT020065V1 4매 SPM 1회 진행입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2578	2018-07-20 9시	10시	HM050N120A1 2매rework BOE 사용신청	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2579	2018-07-23 10시	11시	Pre-treament: HCL:DL (one to one) 10 secs HCL, 20 secs DL and 20 Secs DL( 3 beakers)	영남대학교	물리학과	황지영	127,500원
2580	2018-07-23 11시	12시	3-1-1 pc gate tin depo. spm 3-1-2 pc gate tin depo. sc2 3-1-3 pc gate tin depo. dhf	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
2581	2018-07-24 10시	12시	HM050N120A1 5매 BOE 1회, SPM 1회 진행입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2582	2018-07-24 14시	15시	0-2-1 fi fab-in clean spm	고려대학교	반도체시스템공학과	김승근	150,000원
2583	2018-07-24 15시	17시	HM050N120A1 5매 SPM 1회 , BOE 1회 진행입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2584	2018-07-25 14시	15시	pre cleaning (SPM 1회)	포항공과대학교	전자전기공학과	최원영	90,000원
2585	2018-07-25 14시	15시	HM050N120A1 5매 BOE SPM 사용	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2586	2018-07-25 15시	16시	8-inch Silicon Wafer Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	150,000원
2587	2018-07-26 11시	12시	fox wet etch 50min	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2588	2018-07-26 15시	16시	SPM and DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	90,000원
2589	2018-07-26 16시	17시	Samco test sample 2매 BOE 1회, SPM 1회 진행입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2590	2018-07-26 9시	11시	HM050N120A1 1매(Rework) SPM 1회, BOE 1회 진행입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2591	2018-07-27 10시	11시	HM050N120A1 5매 SPM 1회 진행입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2592	2018-07-30 15시	16시	0-1-4 fab-in spm clean 0-1-5 fab-in sc2 clean 0-1-6 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
2593	2018-07-30 16시	17시	HM050N120A1 SPM 1회 진행입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2594	2018-07-31 11시	12시	back metal test 시료 2매 DHF 1회 진행입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2595	2018-08-01 10시	12시	P-5000 TEST Wafer 6매 SPM / BOE 진행	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2596	2018-08-01 11시	12시	1 wafer cleaning spm	LG전자	센서솔루션연구소	홍정엽	127,500원
2597	2018-08-01 16시	17시	1-3-2 akey pr remove	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
2598	2018-08-02 11시	12시	SPM	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	112,500원
2599	2018-08-06 9시	12시	Unit Test 전처리 U-Metal/U-Metal-1/U-Metal2/U-OxideE/U-HOxide/U-TiN/U-PGaN	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	735,000원
2600	2018-08-07 10시	12시	2-3-2 Bath SPM 8매	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2601	2018-08-07 11시	12시	PR remove	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	112,500원
2602	2018-08-07 13시	14시	P-5000 검증 test 1매 BOE 1회 진행입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2603	2018-08-07 14시	15시	4-1-2 SC-2 Clean 8매	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2604	2018-08-07 15시	16시	4-1-3 DHF clean 8매	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	150,000원
2605	2018-08-07 17시	18시	0-1-4 SPM	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
2606	2018-08-07 18시	19시	0-1-5 SC2	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2607	2018-08-07 19시	20시	0-1-6 DHF	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	75,000원
2608	2018-08-08 10시	16시	안녕하세요 주)DNF 이삼동입니다. Wet etch 의뢰 드립니다. 상세 의뢰 정보는 메일로 송부 드렸습니다. Wet etch condition : HF 200 : 1 박막 종류 : SiOCN/Si Sub 1EA, SiO2/Si sub. 2EA Sample 수량 : 30mm*30mm size 3EA 분석 데이터는 하기 메일로 송부 부탁드립니다. sdlee2@dnfsolution.com 당사에서는 공정 진행료 처리를 위해 견적서가 필요합니다. 해당 공정 내용 및 두께 측정료 내역을 상기 메일로 견적서 발급을 부탁드립니다. 문의사항은 010-5828-8051 으로 연락주세요. 감사합니다	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	500,000원
2609	2018-08-08 11시	13시	SPM,SC2,DHF Cleaning	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	412,500원
2610	2018-08-08 19시	22시	1-3-2 SPM	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2611	2018-08-08 22시	23시	wafer cleaning(spm1회)	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	90,000원
2612	2018-08-09 14시	16시	BOE Cleaning	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2613	2018-08-09 15시	16시	SPM, DHF Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	150,000원
2614	2018-08-10 10시	12시	2-3-2 RX PR Remove SPM PR strip (8매 4매씩 2회 나눠서 진행- spin dryer issue)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2615	2018-08-10 13시	16시	Unit Test 전처리 U-Metal/U-Metal-1/U-Metal2/U-OxideE/U-HOxide/U-TiN/U-PGaN 7개 Lot	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	490,000원
2616	2018-08-10 7시	10시	BOE Cleaning	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2617	2018-08-14 10시	12시	P-5000 검증 시료 1매 Boe1회 Spm 1회 진행입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2618	2018-08-14 12시	13시	4-1-2 pc gate tin depo sc2 clean(2회 진행) 4-1-3 pc gate tin depo dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	300,000원
2619	2018-08-14 13시	17시	기종 연구원님	단국대학교	창의융합제조공학과	조성집	300,000원
2620	2018-08-14 18시	19시	Oxide Removal	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	60,000원
2621	2018-08-16 16시	18시	SPM(2회), DHF Cleaning	한국전기연구원	전력반도체연구센터	석오균	288,000원
2622	2018-08-20 10시	11시	4-5-7 PC 전세정 dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	75,000원
2623	2018-08-20 9시	11시	SPM,BOE,SC2 Cleaning	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	465,000원
2624	2018-08-21 12시	15시	SPM, BOE	LG전자	센서솔루션연구소	이성단	382,500원
2625	2018-08-21 14시	15시	0-1-2 0 cleaning spm	현대모비스	전력반도체팀	이정윤	112,500원
2626	2018-08-21 14시	15시	Test wafer pre cleaning spm,dhf	포항공과대학교	전자전기공학과	최원영	150,000원
2627	2018-08-21 9시	17시	차세대 실리콘 파워반도체 기술사업화 계약_Thin film	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	800,000원
2628	2018-08-22 10시	11시	spm, boe	한국전기연구원	전력반도체연구센터	문정현	405,000원
2629	2018-08-22 11시	13시	0-1-3 0 fab-in spm clean (4장씩 2회) 0-1-5 0 fab-in dhf clean (4장씩 2회)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	375,000원
2630	2018-08-22 15시	16시	8-inch SOI wafer cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	90,000원
2631	2018-08-24 11시	12시	SPM Cleaning	한국전기연구원	전력반도체연구센터	석오균	135,000원
2632	2018-08-24 14시	15시	DHF Cleaning	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	70,000원
2633	2018-08-24 14시	16시	1-3-2 akey pr remove	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2634	2018-08-27 11시	12시	Pre-treament: HCL:DL (one to one) 10 secs HCL, 20 secs DL and 20 Secs DL( 3 beakers)	영남대학교	물리학과	황지영	255,000원
2635	2018-08-27 11시	13시	SPM 10min dHF 5min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	150,000원
2636	2018-08-27 17시	18시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip(2회 진행)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2637	2018-08-27 17시	18시	2-1-5 oxide etch	LG전자	센서솔루션연구소	이성단	255,000원
2638	2018-08-28 14시	16시	4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	300,000원
2639	2018-08-28 17시	18시	7. Ashing 후 Clean-3	트리노테크놀로지	연구소	정진영	100,000원
2640	2018-08-28 17시	18시	5. Ashing 후 Clean-1	트리노테크놀로지	연구소	정진영	150,000원
2641	2018-08-28 17시	18시	6. Ashing 후 Clean-2	트리노테크놀로지	연구소	정진영	150,000원
2642	2018-08-28 9시	10시	1. PR cap 前 clean	트리노테크놀로지	연구소	정진영	150,000원
2643	2018-08-29 10시	11시	BOE Cleaning	포항공과대학교	IBB	정민규	255,000원
2644	2018-08-29 9시	10시	9. Oxidation Strip	트리노테크놀로지	연구소	정진영	150,000원
2645	2018-08-30 13시	14시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
2646	2018-08-30 14시	15시	BioFET PE-Oxide Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	60,000원
2647	2018-08-30 14시	16시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
2648	2018-08-30 17시	19시	TMAH test	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	187,500원
2649	2018-08-31 10시	11시	DHF cleaning	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	75,000원
2650	2018-09-03 10시	12시	SPM 5min	LG전자	센서솔루션연구소	이성단	127,500원
2651	2018-09-03 14시	15시	Wafer pre cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	최원영	90,000원
2652	2018-09-03 15시	16시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
2653	2018-09-03 15시	16시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
2654	2018-09-03 16시	17시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	60,000원
2655	2018-09-03 17시	18시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	60,000원
2656	2018-09-04 10시	12시	1 wafer notch->f/z pr strip	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2657	2018-09-04 10시	12시	1 wafer notch->f/z pr strip	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2658	2018-09-04 17시	18시	Mark Etch 선행 PR Remove	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2659	2018-09-04 18시	19시	Mark Etch 선행 PR Remove	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2660	2018-09-04 19시	20시	pre cleaning (SPM 1회)	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	90,000원
2661	2018-09-04 20시	21시	pe oxide 20nm 제거	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	60,000원
2662	2018-09-05 10시	12시	2-3-2 px pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
2663	2018-09-05 10시	12시	2-3-2 px pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
2664	2018-09-05 13시	14시	4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean(3장씩 2회 진행)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	150,000원
2665	2018-09-05 14시	15시	pR strip + oxide 제거 (SPM DHF 1회)	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	150,000원
2666	2018-09-05 15시	16시	4-5-7 pc 전세정 dhf clean(3장씩 2회 진행)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	150,000원
2667	2018-09-05 15시	16시	4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean(3장씩 2회 진행)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	450,000원
2668	2018-09-05 16시	18시	SPM	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	90,000원
2669	2018-09-06 8시	9시	SPM 과 dHF 를 함께 사용	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	150,000원
2670	2018-09-06 9시	18시	안녕하세요 주)DNF 이삼동입니다. Wet etch 의뢰 드립니다. 상세 의뢰 정보는 메일로 송부 드렸습니다. Wet etch condition : HF 200 : 1 박막 종류 : SiOC/Si Sub 4EA, SiO2/Si sub. 2EA Sample 수량 : 30mm*30mm size 3EA 분석 데이터는 하기 메일로 송부 부탁드립니다. sdlee2@dnfsolution.com 당사에서는 공정 진행료 처리를 위해 견적서가 필요합니다. 해당 공정 내용 및 두께 측정료 내역을 상기 메일로 견적서 발급을 부탁드립니다. 문의사항은 010-5828-8051 으로 연락주세요. 감사합니다	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	260,000원
2671	2018-09-07 10시	12시	mask etch pr strip wet pr strip spm	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2672	2018-09-07 11시	12시	DHF 1회 진행입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2673	2018-09-07 13시	14시	5 densify cleaning spm	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2674	2018-09-07 14시	16시	8 inch Glass 23매 SPM Cleaning 공정의뢰 완료 후에 퀵으로 바로 발송 부탁드리겠습니다. 토요일에도 퀵 받을수 있습니다. (서울시 노원구 공릉동 232 서울테크노파크 12F (주) 템퍼스 , 김수진 주임연구원 (010-5460-5613)				450,000원
2675	2018-09-07 16시	17시	5 densify cleaning spm	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2676	2018-09-07 16시	17시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-3 0 fab-in sc2 clean 0-1-3 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
2677	2018-09-07 17시	18시	4-5-7 pc 전세정 boe clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2678	2018-09-07 9시	11시	mask etch pr strip wet pr strip spm	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2679	2018-09-10 10시	11시	SPM 1회, DHF 2회 진행입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2680	2018-09-10 11시	13시	5-3-4 mc 전세정 spm clean 5-3-4 mc 전세정 tmah clean 5-3-4 mc 전세정 dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
2681	2018-09-10 14시	15시	BOE 1회, SPM 1회 진행입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2682	2018-09-11 11시	12시	4-5-6 pc 전세정 boe clean(1min. 5min)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	450,000원
2683	2018-09-11 16시	17시	Oxide Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	60,000원
2684	2018-09-11 17시	18시	SPM 1회, APM 1회, DHF 1회 진행입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2685	2018-09-12 10시	11시	SPM 1회 진행입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2686	2018-09-12 15시	16시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2687	2018-09-13 10시	11시	APM, SPM, DHF 각 1회 사용입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2688	2018-09-13 13시	14시	5-3-5 mc 전세정 dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	150,000원
2689	2018-09-13 15시	17시	SPM 2회, APM 1회, DHF 1회 진행입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2690	2018-09-14 10시	11시	Cr Wet Etching	나노콘	나노콘 연구소	나노콘	300,000원
2691	2018-09-14 10시	11시	PR stripping	포항공과대학교	전자전기공학과	최원영	90,000원
2692	2018-09-14 11시	12시	SPM	나노콘	나노콘 연구소	나노콘	150,000원
2693	2018-09-14 11시	12시	dHF 10min SPM Bath 사용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	150,000원
2694	2018-09-14 16시	17시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip(2회 진행) 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	375,000원
2695	2018-09-14 9시	18시	차세대 실리톤 파워반도체 기술사업화 계약_Thinfilm	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	800,000원
2696	2018-09-17 15시	16시	SPM 1회, DHF 1회, BOE 1회 사용입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2697	2018-09-17 9시	10시	SPM 10 min 수행 샘플 위치: 일립소미터 옆 곽현탁 이라고 적혀있는 8인치 웨이퍼 1장입니다.	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	112,500원
2698	2018-09-18 10시	11시	PR cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	최원영	90,000원
2699	2018-09-18 11시	12시	HF 10 min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	60,000원
2700	2018-09-18 12시	13시	SPM 1회, DHF 1회 진행입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2701	2018-09-18 15시	16시	0-1-3 0 fab-in spm clean (2회진행) 0-1-4 0 fab-in sc2 clean (2회진행) 0-1-5 0 fab-in dhf clean (2회진행)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
2702	2018-09-18 16시	17시	SPM 2회, DHF 1회 진행입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2703	2018-09-19 10시	18시	안녕하세요 주)DNF 이삼동입니다. Wet etch 의뢰 드립니다. 상세 의뢰 정보는 메일로 송부 드렸습니다. Wet etch condition : HF 200 : 1 박막 종류 : SiOCN/Si Sub 2EA, SiOCN/Si Sub. 4EA, SiO2/Si sub. 2EA Sample 수량 : 30mm*30mm size 8EA 분석 데이터는 하기 메일로 송부 부탁드립니다. sdlee2@dnfsolution.com 당사에서는 공정 진행료 처리를 위해 견적서가 필요합니다. 해당 공정 내용 및 두께 측정료 내역을 상기 메일로 견적서 발급을 부탁드립니다. 문의사항은 010-5828-8051 으로 연락주세요. 감사합니다	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	600,000원
2704	2018-09-19 12시	13시	APM E/R Test	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	306,500원
2705	2018-09-19 14시	16시	PR Stripping	포항공과대학교	전자전기공학과	최원영	90,000원
2706	2018-09-19 18시	19시	SPM Bath 사용	LG전자	ICS팀	김기민	102,000원
2707	2018-09-20 10시	11시	pR strip (SPM 1회, DHF 1회)	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	150,000원
2708	2018-09-20 10시	11시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip (2회 진행)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2709	2018-09-20 14시	16시	0-1-3 0 fab-in spm clean (2회진행) 0-1-4 0 fab-in sc2 clean (2회진행) 0-1-5 0 fab-in dhf clean (2회진행)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
2710	2018-09-20 15시	17시	0-1-3 0 fab-in spm clean (2회진행) 0-1-4 0 fab-in sc2 clean (2회진행) 0-1-5 0 fab-in dhf clean (2회진행)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
2711	2018-09-21 10시	12시	Spm 1회, apm 1회 진행입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2712	2018-09-21 12시	14시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip (2회진행) 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean (2회진행) 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean (2회진행)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
2713	2018-09-21 14시	15시	W05, W06 SPM Cleaning	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
2714	2018-09-27 10시	11시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2715	2018-09-27 11시	12시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2716	2018-09-27 14시	15시	180927 PGaN Wafer 4.0 Photo PC	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
2717	2018-09-27 15시	16시	SS03 rework BOE 3min	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2718	2018-09-27 16시	17시	BOE 1회 진행입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2719	2018-09-27 19시	20시	wafer pre cleaning (SPM 1회)	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	90,000원
2720	2018-09-28 10시	11시	SPM, APM 각 1회 진행입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2721	2018-09-28 17시	18시	2-3-2 px pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2722	2018-09-28 18시	19시	2-3-2 px pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2723	2018-09-28 9시	12시	1st si wet etch 2nd si wet etch	(주)라디안큐바이오	바이오 R&D 센터	라디안큐바이오	600,000원
2724	2018-09-28 9시	10시	6" wafer DHF Cleaning	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	75,000원
2725	2018-10-01 10시	11시	4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	600,000원
2726	2018-10-01 11시	12시	4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	600,000원
2727	2018-10-01 13시	14시	SC-1, DHF 사용	한국전기연구원	전력반도체연구센터	석오균	180,000원
2728	2018-10-02 10시	11시	BOE 80min	광전자주식회사	SF개발1부	조민재	300,000원
2729	2018-10-02 13시	14시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
2730	2018-10-04 10시	12시	SPM 새로 갈아주시길 부탁드립니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	최원영	90,000원
2731	2018-10-04 12시	13시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
2732	2018-10-04 9시	10시	4-5-7 pc 전세정 boe clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2733	2018-10-04 9시	10시	2 cleaning spm	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2734	2018-10-05 11시	13시	5-3-5 mc metal 전세정 clean sc1 5-3-5 mc metal 전세정 clean tmah 5-3-5 mc metal 전세정 clean spm 5-3-5 mc metal 전세정 clean dhf	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	637,500원
2735	2018-10-05 11시	12시	APM,DHF Bath 사용	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2736	2018-10-05 12시	13시	4-5-7 pc 전세정 BOE	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2737	2018-10-05 12시	13시	4-5-7 pc 전세정 BOE	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2738	2018-10-05 15시	17시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
2739	2018-10-05 15시	16시	cleaning 오전 DHF Bath 사용	포항공과대학교	전기전자공학과	김성지	150,000원
2740	2018-10-05 18시	20시	SPM 2회, APM 1회, DHF 1회 진행입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2741	2018-10-05 9시	10시	Si susceptor(8-4") 5매 BOE 30min -> SPM 10min	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2742	2018-10-08 10시	11시	SPM	(주)엔디디	기술연구	최은아	150,000원
2743	2018-10-08 13시	15시	DHF 2회	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	150,000원
2744	2018-10-10 14시	15시	0-1-2 0 cleaning spm	현대모비스	전력반도체팀	이정윤	112,500원
2745	2018-10-11 11시	12시	0-1-2 hard mask. depo. pre clean spm	현대모비스	전력반도체팀	이정윤	112,500원
2746	2018-10-11 11시	12시	4-5-7 pc 전세정 BOE Clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2747	2018-10-11 17시	18시	5 fox cleaning dhf	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2748	2018-10-11 17시	18시	4 mark etch pr strip wet pr strip	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2749	2018-10-12 10시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
2750	2018-10-12 10시	11시	1-3-2 trench pr remove SPM,DHF	현대모비스	전력반도체팀	이정윤	187,500원
2751	2018-10-12 16시	17시	1-3-5 trench etch BOE etching 30min	현대모비스	전력반도체팀	이정윤	225,000원
2752	2018-10-12 17시	19시	5-3-5 mc m0 metal 전세정 clean sc1 5-3-5 mc m0 metal 전세정 clean tmah 5-3-5 mc m0 metal 전세정 clean spm	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	450,000원
2753	2018-10-12 9시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
2754	2018-10-15 17시	18시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2755	2018-10-15 18시	19시	Bio FET Oxide Etching	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	60,000원
2756	2018-10-15 20시	21시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2757	2018-10-16 13시	15시	SPM 3회, APM 2회, DHF 3회 진행입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2758	2018-10-16 15시	16시	FET Oxide Etching	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	60,000원
2759	2018-10-16 8시	15시	차세대 실리톤 파워반도체 기술사업화 계약_Thinfilm	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	800,000원
2760	2018-10-16 9시	11시	SPM 새로 갈아주시길 바랍니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	최원영	90,000원
2761	2018-10-17 10시	11시	APM, DHF	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2762	2018-10-17 10시	11시	FET Oxide Etching	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	60,000원
2763	2018-10-17 11시	12시	PR cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	최원영	90,000원
2764	2018-10-17 13시	14시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2765	2018-10-17 13시	14시	1-3-2 hard mask pr remove nano pr strip spm 1-3-3 hard mask pr remove polymer strip dhf	현대모비스	전력반도체팀	이정윤	187,500원
2766	2018-10-17 14시	15시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2767	2018-10-17 14시	15시	1-3-2 NW NR pr Remove spm 1-3-3 NW NR pr Remove polymer strip dhf	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	250,000원
2768	2018-10-17 15시	16시	Oxide removal	포항공과대학교	전자전기공학과	최원영	60,000원
2769	2018-10-17 15시	16시	native oxide 제거 (폴리이미드 코팅 웨이퍼)	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	60,000원
2770	2018-10-17 16시	17시	4-5-7 pc 전세정 dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	150,000원
2771	2018-10-17 16시	18시	BOE Cleaning	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2772	2018-10-18 13시	15시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
2773	2018-10-19 10시	11시	SC2, DHF bath	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	300,000원
2774	2018-10-19 14시	15시	2-3-2 se box pr remove spm	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	150,000원
2775	2018-10-19 15시	16시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2776	2018-10-19 15시	16시	0-2-1 0 fab-in pre clean spm 0-3-2 0 fab-in pre clean dhf	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	250,000원
2777	2018-10-19 9시	11시	4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	300,000원
2778	2018-10-20 14시	16시	si 50 um etch	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	187,500원
2779	2018-10-22 13시	14시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-5-7 pc 전세정 dhf clea	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	375,000원
2780	2018-10-22 16시	17시	전자과 공정수업용 예약입니다. 연구원 분께서 사용하시는 모습을 직접 보고 싶습니다. 관련하여 문의 사항은 서태원 01050098015 최원영 01054362518 로 연락주시면 감사하겠습니다. 4시까지 가도록 하겠습니다. SPM 10 min dHF 3 min	포항공과대학교	전자전기공학과	진재석	187,500원
2781	2018-10-22 17시	18시	8 pr strip wet pr strip	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2782	2018-10-23 10시	11시	Spm 1회, Dhf 1회 진행입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2783	2018-10-24 16시	17시	2-2-2 ar anneal carbon strip spm pr strip1	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	112,500원
2784	2018-10-24 20시	21시	Si 50 um etch TMAH 용액 bath 에 준비 부탁드립니다! SOI 조각 이용예정이라 최소한의 용량만 담아주시면 될 것 같습니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	187,500원
2785	2018-10-24 9시	10시	1 spm 3회	알앤에스랩	센서팀	알앤에스랩	450,000원
2786	2018-10-25 11시	12시	2-1-1 ge clean spm (sc1+dhf)	고려대학교	반도체시스템공학과	김승근	250,000원
2787	2018-10-25 13시	14시	1-5-1 si hard mask oxide etch	현대모비스	전력반도체팀	이정윤	225,000원
2788	2018-10-25 13시	14시	1-4-2 SiN PR Remove spm remove	고려대학교	반도체시스템공학과	김승근	150,000원
2789	2018-10-25 14시	18시	SPM+DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	150,000원
2790	2018-10-25 18시	19시	BOE 80min	광전자주식회사	SF개발1부	조민재	300,000원
2791	2018-10-26 10시	11시	sPM	포항공과대학교	전기전자공학과	김성지	90,000원
2792	2018-10-26 11시	13시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
2793	2018-10-26 11시	12시	PR strip	포항공과대학교	정보전자융합공학부	박찬오	90,000원
2794	2018-10-26 12시	14시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
2795	2018-10-29 15시	16시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2796	2018-10-29 16시	17시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2797	2018-10-31 14시	15시	0-4-1 0 thinning ox strip ox wet etch boe	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	300,000원
2798	2018-11-01 12시	13시	SPM	(주)엔디디	기술연구	최은아	150,000원
2799	2018-11-01 14시	18시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	60,000원
2800	2018-11-02 10시	12시	안녕하세요 주)DNF 박건주입니다 상세 진행 Recipe는 메일로 송부 드렸습니다 HF 200:1 조건에서 Wet etch 진행 전,후 ellipsometer 두께 측정 요청 드립니다 감사합니다	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	800,000원
2801	2018-11-02 15시	16시	0-1-2 hard mask depo. pre clean spm	(주)니나노	기업부설연구소	박준영	297,000원
2802	2018-11-02 15시	16시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
2803	2018-11-02 16시	17시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
2804	2018-11-02 20시	21시	Si 50 um etch TMAH 용액 bath 에 준비 부탁드립니다! SOI 조각 이용예정이라 최소한의 용량만 담아주시면 될 것 같습니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	187,500원
2805	2018-11-05 14시	16시	dhf	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	60,000원
2806	2018-11-05 15시	16시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2807	2018-11-05 16시	17시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2808	2018-11-05 17시	18시	SPM, SC-1 bath 사용	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2809	2018-11-06 10시	11시	4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	600,000원
2810	2018-11-06 11시	12시	SPM Cleaning	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2811	2018-11-06 14시	15시	LaF3 EIS sensor back oxide removal	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	90,000원
2812	2018-11-07 14시	16시	8inch 2매 SPM + APM Cleaning 공정의뢰				300,000원
2813	2018-11-08 10시	11시	0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	150,000원
2814	2018-11-08 10시	11시	0-1-2 hard mask depo. pre clean	(주)니나노	기업부설연구소	박준영	346,000원
2815	2018-11-08 11시	12시	Bio FET Oxide Etching	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	60,000원
2816	2018-11-08 12시	13시	SPM Test	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
2817	2018-11-08 16시	17시	4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	150,000원
2818	2018-11-08 16시	18시	spm 3 회 진행 stress test	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	315,000원
2819	2018-11-08 16시	17시	0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	150,000원
2820	2018-11-09 16시	17시	4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	600,000원
2821	2018-11-12 10시	12시	4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	600,000원
2822	2018-11-12 11시	12시	3-3-2 DOP pr remove spm	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	150,000원
2823	2018-11-12 15시	16시	w/s test(SPM,SC-1)	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2824	2018-11-12 16시	17시	SPM Cleaning	LG전자	SIC센터 ICS팀	김수진	127,500원
2825	2018-11-12 20시	21시	cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	60,000원
2826	2018-11-13 14시	15시	SPM 15min	LG전자	SIC센터 ICS팀	김수진	127,500원
2827	2018-11-13 21시	22시	PR strip	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	120,000원
2828	2018-11-14 11시	13시	4-1-1 SC-II 4-1-2 DHF	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	300,000원
2829	2018-11-14 15시	17시	SPM+SC2	현대모비스	전력반도체팀	이정윤	337,500원
2830	2018-11-14 16시	18시	SC-II DHF	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	300,000원
2831	2018-11-14 16시	18시	SPM+DHF	(주)니나노	기업부설연구소	박준영	250,000원
2832	2018-11-14 20시	21시	dHF cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	60,000원
2833	2018-11-15 10시	11시	DHF	현대모비스	전력반도체팀	이정윤	150,000원
2834	2018-11-15 14시	15시	SPM and dHF (200:1)	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	90,000원
2835	2018-11-15 16시	17시	SPM 10min	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2836	2018-11-19 18시	19시	5 densify cleaning sc1 10min	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2837	2018-11-19 9시	18시	안녕하세요 주)DNF 이삼동입니다. Wet etch 의뢰 드립니다. 상세 의뢰 정보는 메일로 송부 드렸습니다. Wet etch condition : HF 200 : 1 박막 종류 : SiOCN/Si Sub 4EA, SiO2/Si sub. 2EA Sample 수량 : 30mm*30mm size 6EA 분석 데이터는 하기 메일로 송부 부탁드립니다. sdlee2@dnfsolution.com 당사에서는 공정 진행료 처리를 위해 견적서가 필요합니다. 해당 공정 내용 및 두께 측정료 내역을 상기 메일로 견적서 발급을 부탁드립니다. 문의사항은 010-5828-8051 으로 연락주세요. 감사합니다	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	600,000원
2838	2018-11-20 10시	11시	SiO2 etch	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	80,000원
2839	2018-11-20 11시	12시	SPM 1회 DHF 1회 진행입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2840	2018-11-20 14시	16시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
2841	2018-11-20 20시	21시	Si 50 um etch TMAH 용액 bath 에 준비 부탁드립니다! SOI 조각 이용예정이라 최소한의 용량만 담아주시면 될 것 같습니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	187,500원
2842	2018-11-20 21시	22시	Oxide removal	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	60,000원
2843	2018-11-20 9시	16시	차세대 실리톤 파워반도체 기술사업화 계약_Thinfilm	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	800,000원
2844	2018-11-21 10시	12시	SPM 1회 BOE 1회 DHF 1회 진행입니다	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2845	2018-11-21 11시	12시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	60,000원
2846	2018-11-21 12시	13시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	60,000원
2847	2018-11-21 13시	15시	SPM 1, DHF 1진행입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2848	2018-11-21 15시	16시	Cleaning dHF	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	60,000원
2849	2018-11-22 10시	12시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2850	2018-11-22 14시	16시	SPM 사용	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2851	2018-11-22 17시	18시	PR(DNR) pattern	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	80,000원
2852	2018-11-22 20시	21시	Si 50 um etch TMAH 용액 bath 에 준비 부탁드립니다! SOI 조각 이용예정이라 최소한의 용량만 담아주시면 될 것 같습니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	187,500원
2853	2018-11-23 14시	15시	4-2-1 met sputter dhf wet etch	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	100,000원
2854	2018-11-26 15시	17시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
2855	2018-11-26 15시	16시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2856	2018-11-27 10시	11시	4 pr strip h2so4	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2857	2018-11-27 18시	19시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2858	2018-11-27 20시	21시	Si 50 um etch TMAH 용액 bath 에 준비 부탁드립니다! SOI 조각 이용예정이라 최소한의 용량만 담아주시면 될 것 같습니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	김동훈	187,500원
2859	2018-11-27 9시	11시	4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	600,000원
2860	2018-11-28 15시	16시	PR strip	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	120,000원
2861	2018-11-29 10시	11시	oxide etch	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	80,000원
2862	2018-11-29 13시	14시	0-1-1 mask remove ox. wet strip	광전자주식회사	SF개발1부	조민재	300,000원
2863	2018-11-29 14시	15시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
2864	2018-11-29 15시	16시	SPM cleaning	알앤에스랩	센서팀	알앤에스랩	150,000원
2865	2018-11-29 18시	19시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2866	2018-11-29 9시	10시	PR strip (ZEP520A)	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	120,000원
2867	2018-11-30 10시	11시	PR cleaning	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	120,000원
2868	2018-11-30 10시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
2869	2018-11-30 12시	14시	KOH, TMAH Test	(주)라디안큐바이오	바이오 R&D 센터	라디안큐바이오	600,000원
2870	2018-11-30 15시	16시	Silicon 4'' wafer에 LPCVD Nitride 2um 가 올려져 있는 샘플입니다.	포항공과대학교	기계공학과	김준수	127,500원
2871	2018-11-30 17시	18시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
2872	2018-12-04 1시	10시	native oxide 제거 (1:100 / 1분)	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	80,000원
2873	2018-12-04 15시	16시	mask layer etch test(tmah)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	210,000원
2874	2018-12-04 15시	16시	1-5-1 si hard mask oxide etch	(주)니나노	기업부설연구소	박준영	300,000원
2875	2018-12-04 17시	18시	4-2-8 pc oxide depo. 전세정	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2876	2018-12-05 10시	11시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2877	2018-12-05 11시	12시	SC1 Bath 10min 1회 DHF Bath 1min 2회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	262,500원
2878	2018-12-05 12시	13시	dHF cleaning	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	160,000원
2879	2018-12-06 11시	13시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
2880	2018-12-06 15시	16시	2-1-2 si sacoxide remove oxide etch	(주)니나노	기업부설연구소	박준영	300,000원
2881	2018-12-06 16시	18시	WET DHF 공정의뢰				200,000원
2882	2018-12-06 9시	10시	dHF cleaning	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	80,000원
2883	2018-12-07 10시	11시	spm 5min cleaning	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	112,500원
2884	2018-12-07 11시	12시	dHF 와 SPM 함께 사용	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	150,000원
2885	2018-12-07 12시	14시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
2886	2018-12-10 9시	18시	안녕하세요 주)DNF 이삼동입니다. Wet etch 의뢰 드립니다. 상세 의뢰 정보는 메일로 송부 드리겠습니다. Wet etch condition : HF 200 : 1 박막 종류 : SiOCN/Si Sub 19EA, SiO2/Si sub. 3EA Sample 수량 : 30mm*30mm size 20EA, 200mm wafer 2EA 분석 데이터는 하기 메일로 송부 부탁드립니다. sdlee2@dnfsolution.com 당사에서는 공정 진행료 처리를 위해 견적서가 필요합니다. 해당 공정 내용 및 두께 측정료 내역을 상기 메일로 견적서 발급을 부탁드립니다. 문의사항은 010-5828-8051 으로 연락주세요. 감사합니다	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	1,860,000원
2887	2018-12-11 10시	11시	10 pr strip spm 10min, sc1 5miin	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2888	2018-12-11 11시	12시	PR test	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	80,000원
2889	2018-12-11 12시	13시	DHF 2회	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	60,000원
2890	2018-12-11 16시	17시	0-2-1 fab-in clean spm	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	0원
2891	2018-12-11 16시	17시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2892	2018-12-12 10시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
2893	2018-12-12 14시	15시	PR stripping. SPM 새로 갈아주시길 부탁드립니다.	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	120,000원
2894	2018-12-12 20시	21시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	60,000원
2895	2018-12-13 11시	12시	spm cleaning	현대모비스	전력반도체팀	이정윤	112,500원
2896	2018-12-13 9시	12시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
2897	2018-12-13 9시	11시	11-3-1 gc metal depo. 전세정 spm clean 11-3-2 gc metal depo. 전세정 dhf clean 11-3-3 gc metal depo. 전세정 tmah clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
2898	2018-12-14 1시	2시	.	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	80,000원
2899	2018-12-14 14시	16시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
2900	2018-12-17 10시	11시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	60,000원
2901	2018-12-17 11시	12시	BOE 1회, SPM 1회 진행입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2902	2018-12-17 16시	17시	SPM & DHF	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	200,000원
2903	2018-12-17 17시	18시	4 mask etch pr strip	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2904	2018-12-18 10시	11시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2905	2018-12-18 10시	11시	1-3-2 akey pr remove	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2906	2018-12-18 12시	14시	BOE 1회 진행입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
2907	2018-12-18 14시	15시	spm cleaning	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	112,500원
2908	2018-12-18 9시	10시	SiO2 removal	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	80,000원
2909	2018-12-19 10시	11시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2910	2018-12-19 11시	12시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
2911	2018-12-19 17시	18시	SPM CLN 조각 6ea	현대모비스	전력반도체팀	이정윤	105,000원
2912	2018-12-20 1시	8시	메일내용참조 Wet Etch DHF(200:1)	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	1,800,000원
2913	2018-12-21 10시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
2914	2018-12-21 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	210,000원
2915	2018-12-24 10시	12시	SPM+DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	150,000원
2916	2018-12-24 15시	16시	.	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	120,000원
2917	2018-12-24 16시	22시	차세대 실리톤 파워반도체 기술사업화 계약_Thinfilm	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	800,000원
2918	2018-12-24 17시	18시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2919	2018-12-26 10시	11시	sic dhf cleaning	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	75,000원
2920	2018-12-26 15시	16시	boe cleaning	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2921	2018-12-27 10시	11시	si wet etch	(주)라디안큐바이오	바이오 R&D 센터	라디안큐바이오	300,000원
2922	2018-12-27 16시	17시	0-2-1 fab-in wet station spm	WORLDEX	소재사업부	이정현	0원
2923	2018-12-28 10시	12시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
2924	2018-12-28 13시	15시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
2925	2018-12-28 15시	16시	.	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	80,000원
2926	2018-12-28 9시	10시	SPM Cleaning	알앤에스랩	센서팀	알앤에스랩	150,000원
2927	2019-01-02 10시	11시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2928	2019-01-02 11시	12시	Gas Sensor 표면 가공 샘플 제작[4.0016655.01] : APM 10min	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	762,500원
2929	2019-01-02 13시	15시	SPM/ APM Clenaing				300,000원
2930	2019-01-02 14시	15시	spm cleaning	알앤에스랩	센서팀	알앤에스랩	300,000원
2931	2019-01-02 15시	16시	.	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	80,000원
2932	2019-01-02 16시	17시	SC35 SC1, DHF Cleaning	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	187,500원
2933	2019-01-03 10시	11시	DHF WET Etch				100,000원
2934	2019-01-03 11시	18시	안녕하세요 주)DNF 이삼동입니다. Wet etch 의뢰 드립니다. 상세 의뢰 정보는 메일로 송부 드리겠습니다. Wet etch condition : HF 200 : 1 박막 종류 : SiOCN/Si Sub 15EA, SiO2/Si sub. 2EA Sample 수량 : 30mm*30mm size 14EA, 200mm wafer 3EA 분석 데이터는 하기 메일로 송부 부탁드립니다. sdlee2@dnfsolution.com 당사에서는 공정 진행료 처리를 위해 견적서가 필요합니다. 해당 공정 내용 및 두께 측정료 내역을 상기 메일로 견적서 발급을 부탁드립니다. 문의사항은 010-5828-8051 으로 연락주세요. 감사합니다	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	1,800,000원
2935	2019-01-03 18시	19시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
2936	2019-01-03 7시	9시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
2937	2019-01-04 10시	11시	PR stripping. SPM 새로 갈아주시길 바랍니다.	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	200,000원
2938	2019-01-04 13시	15시	Gas Sensor 표면 가공 샘플 제작[4.0016655.01] : 황산/과수, DHF	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	662,500원
2939	2019-01-04 15시	16시	initial SPM Cleaning	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
2940	2019-01-07 10시	11시	SPM 새로 갈아주시길 바랍니다.	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	120,000원
2941	2019-01-07 9시	10시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
2942	2019-01-08 10시	13시	3 mask etch pr strip spm 4 wet etch boe+apm	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2943	2019-01-08 11시	12시	4-3-8 pc oxide depo. 전세정 tmah 4-3-8 pc oxide depo. 전세정 dhf	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	295,000원
2944	2019-01-08 13시	15시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
2945	2019-01-09 15시	16시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	210,000원
2946	2019-01-09 16시	17시	tmah bath 사용	LG전자	ICS팀	김기민	255,000원
2947	2019-01-09 17시	18시	CMP -> APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2948	2019-01-10 11시	12시	TMAH Bath 사용	LG전자	ICS팀	김기민	255,000원
2949	2019-01-10 16시	17시	.	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	80,000원
2950	2019-01-10 9시	10시	SPM Cleaning	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2951	2019-01-11 9시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
2952	2019-01-14 10시	17시	안녕하세요 주)DNF 이삼동입니다. Wet etch 의뢰 드립니다. 상세 의뢰 정보는 메일로 송부 드리겠습니다. Wet etch condition : HF 200 : 1 박막 종류 : SiOCN pattern/Si sub. 3EA, SiO2/Si sub. 2EA Sample 수량 : 30mm*30mm size 5EA 분석 데이터는 하기 메일로 송부 부탁드립니다. sdlee2@dnfsolution.com 당사에서는 공정 진행료 처리를 위해 견적서가 필요합니다. 해당 공정 내용 및 두께 측정료 내역을 상기 메일로 견적서 발급을 부탁드립니다. 문의사항은 010-5828-8051 으로 연락주세요. 감사합니다	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	140,000원
2953	2019-01-14 11시	12시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2954	2019-01-14 9시	17시	차세대 실리톤 파워반도체 기술사업화 계약_T/F	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	800,000원
2955	2019-01-15 10시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
2956	2019-01-15 11시	13시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
2957	2019-01-15 14시	16시	APM Cleaning 6회(58ea)	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2958	2019-01-15 15시	17시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
2959	2019-01-15 17시	18시	SPM 과 dHF 를 함께 사용	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	90,000원
2960	2019-01-16 13시	17시	메일 참조	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	780,000원
2961	2019-01-17 10시	17시	안녕하세요 주)DNF 이삼동입니다. Wet etch 의뢰 드립니다. 상세 의뢰 정보는 메일로 송부 드리겠습니다. Wet etch condition : HF 200 : 1 박막 종류 : SiOCN/Si sub. 9EA, SiO2/Si sub. 2EA Sample 수량 : 30mm*30mm size 11EA 분석 데이터는 하기 메일로 송부 부탁드립니다. sdlee2@dnfsolution.com 당사에서는 공정 진행료 처리를 위해 견적서가 필요합니다. 해당 공정 내용 및 두께 측정료 내역을 상기 메일로 견적서 발급을 부탁드립니다. 문의사항은 010-5828-8051 으로 연락주세요. 감사합니다	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	820,000원
2962	2019-01-17 17시	18시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2963	2019-01-17 17시	18시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2964	2019-01-17 7시	9시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
2965	2019-01-18 10시	11시	1-3-2 nw pr remove spm 1-3-2 nw pr remove dhf	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	250,000원
2966	2019-01-18 13시	15시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
2967	2019-01-18 14시	16시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
2968	2019-01-18 15시	16시	SPM + SC1 Cleaning 3회	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2969	2019-01-18 16시	17시	Bio FET Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	90,000원
2970	2019-01-18 16시	18시	6-2-2 6th nitride etching (SPM+SC1)	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	225,000원
2971	2019-01-18 17시	18시	Nitride Etch 후 Cleaning	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	112,500원
2972	2019-01-19 14시	16시	Double SPM + SC1 Cleaning	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2973	2019-01-19 15시	18시	Single SPM + SC1 Cleaning	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2974	2019-01-20 13시	15시	Double SPM + SC1 Cleaning	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2975	2019-01-20 16시	18시	Single SPM + SC1 Cleaning	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2976	2019-01-21 11시	14시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	60,000원
2977	2019-01-21 14시	16시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2978	2019-01-21 15시	17시	13 pr strip(spm+apm)	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2979	2019-01-22 11시	12시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
2980	2019-01-22 13시	15시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
2981	2019-01-22 14시	15시	17 pr strip(SPM+APM)	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2982	2019-01-22 15시	17시	SPM + DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	150,000원
2983	2019-01-22 17시	18시	Si Etch PR Remove	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	112,500원
2984	2019-01-22 18시	19시	6-2-2 6th pr remove	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	112,500원
2985	2019-01-22 18시	19시	24 pr strip (spm+apm)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	0원
2986	2019-01-23 10시	11시	cleaning	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	120,000원
2987	2019-01-23 10시	11시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	60,000원
2988	2019-01-23 12시	13시	20 pr strip	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2989	2019-01-23 15시	16시	initial cleaning	탑런 연구소	신사업팀	주별진	0원
2990	2019-01-23 17시	18시	29 pr strip (spm+apm)	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2991	2019-01-24 10시	17시	안녕하세요 주)DNF 이삼동입니다. Wet etch 의뢰 드립니다. 상세 의뢰 정보는 메일로 송부 드리겠습니다. Wet etch condition : HF 200 : 1 박막 종류 : SiOCN/Si sub. 9EA, SiO2/Si sub. 2EA Sample 수량 : 30mm*30mm size 11EA 분석 데이터는 하기 메일로 송부 부탁드립니다. sdlee2@dnfsolution.com 당사에서는 공정 진행료 처리를 위해 견적서가 필요합니다. 해당 공정 내용 및 두께 측정료 내역을 상기 메일로 견적서 발급을 부탁드립니다. 문의사항은 010-5828-8051 으로 연락주세요. 감사합니다	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	820,000원
2992	2019-01-24 10시	12시	1-2-1 0 mask remove ox. wet strip boe	광전자주식회사	SF개발1부	조민재	300,000원
2993	2019-01-24 11시	12시	23 pr strip h2so4(spm+apm)	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2994	2019-01-24 14시	15시	boe+tmah	LG전자	ICS팀	김기민	314,500원
2995	2019-01-24 16시	18시	34 pr strip (spm+apm)	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2996	2019-01-24 17시	19시	27 pr strip	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2997	2019-01-25 11시	12시	31 pr strip h2so4 (spm+apm)	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2998	2019-01-25 11시	12시	2 mark etch oxide wet etch boe 80sec	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
2999	2019-01-25 13시	15시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	0원
3000	2019-01-25 16시	18시	39 pr strip (spm+apm)	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3001	2019-01-25 18시	19시	24 pr strip (spm + apm)	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3002	2019-01-25 9시	10시	DHF	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	80,000원
3003	2019-01-26 11시	13시	Double SPM + SC1 Cleaning	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3004	2019-01-26 15시	17시	Single SPM + SC1 Cleaning	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3005	2019-01-26 16시	18시	Double SPM + SC1 Cleaning	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3006	2019-01-28 11시	12시	45 pr strip (spm+apm)	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3007	2019-01-28 15시	16시	49 pr strip	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3008	2019-01-28 16시	18시	메일참조	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	520,000원
3009	2019-01-28 18시	19시	48 pr strip(spm+apm)	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3010	2019-01-29 10시	11시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	0원
3011	2019-01-29 10시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3012	2019-01-29 11시	13시	52 pr strip(spm+apm)	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3013	2019-01-29 13시	14시	cleaning	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	120,000원
3014	2019-01-29 17시	18시	54 pr strip (spm+apm)	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3015	2019-01-29 18시	20시	55 pr strip (spm+apm)	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3016	2019-01-30 10시	18시	DHF 100:1 8hr	단국대학교	창의융합제조공학과	조성집	400,000원
3017	2019-01-30 17시	19시	Double SPM + SC1 Cleaning	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3018	2019-01-31 13시	14시	1-3-2 SPM PR Strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
3019	2019-01-31 17시	19시	Single SPM + SC1 Cleaning	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3020	2019-01-31 17시	19시	Double SPM + SC1 Cleaning	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3021	2019-02-02 21시	22시	dHF cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	60,000원
3022	2019-02-07 10시	11시	Clean-1 spm Clean-2 apm Clean-3 dhf	한국전자통신연구원	IT융합부품연구실	원종일	0원
3023	2019-02-07 11시	12시	DHF	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	80,000원
3024	2019-02-07 13시	16시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3025	2019-02-07 14시	15시	2-3-1 bevel pr remove	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	112,500원
3026	2019-02-08 10시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3027	2019-02-08 11시	12시	1-2-3 akey si dry etch spm	WORLDEX	소재사업부	이정현	0원
3028	2019-02-08 9시	10시	DHF	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	80,000원
3029	2019-02-08 9시	13시	차세대 실리톤 파워반도체 기술사업화 계약_thinfilm	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	800,000원
3030	2019-02-11 12시	13시	Bio FET Oxide Etching	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	60,000원
3031	2019-02-12 10시	11시	64 pr strip(spm+apm)	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3032	2019-02-12 11시	12시	67 pr strip(spm+apm)	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3033	2019-02-12 11시	12시	1-3-2 akey pr remove	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
3034	2019-02-13 10시	13시	KOH 4회 청구	(주)네오나노텍	부설연구소	송영열	1,200,000원
3035	2019-02-13 14시	15시	BOE+SC1 Cleaning	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3036	2019-02-14 14시	16시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성전자	종합기술원	한주헌	467,500원
3037	2019-02-14 17시	18시	SPM Cleaning	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3038	2019-02-14 8시	11시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3039	2019-02-15 13시	15시	3-1-1 contact ild depo. pre-cleaning apm 3-1-2 contact ild depo. pre-cleaning dhf 3-1-3 contact ild depo. pre-cleaning sc2	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	412,500원
3040	2019-02-18 10시	11시	PI coated Si & SOI wafer dHF cleaning (remove native oxide)	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	60,000원
3041	2019-02-18 11시	13시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3042	2019-02-18 14시	15시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	210,000원
3043	2019-02-18 15시	16시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	210,000원
3044	2019-02-18 15시	16시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3045	2019-02-18 16시	17시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성전자	종합기술원	한주헌	127,500원
3046	2019-02-19 14시	15시	2-3-2 se box pr remove	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	150,000원
3047	2019-02-20 14시	16시	1-3-2 PR Strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
3048	2019-02-20 16시	18시	SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3049	2019-02-21 16시	17시	SPM cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	90,000원
3050	2019-02-22 10시	11시	SPM 새로 갈아주시길 부탁드립니다. (Pre-cleaning)	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	120,000원
3051	2019-02-22 11시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성전자	종합기술원	한주헌	467,500원
3052	2019-02-22 11시	12시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3053	2019-02-22 12시	13시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3054	2019-02-22 9시	10시	dHF cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	60,000원
3055	2019-02-25 18시	19시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
3056	2019-02-26 10시	12시	fab-in cleaning	(주)엔디디	기업부설연구소	이승헌	150,000원
3057	2019-02-26 11시	13시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3058	2019-02-26 13시	14시	SPM cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	90,000원
3059	2019-02-26 14시	15시	3-3-1 contact metal depo. dhf 30sec	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	75,000원
3060	2019-02-26 14시	15시	spm cleaning	LG전자	ICS팀	김기민	102,000원
3061	2019-02-27 10시	11시	PR cleaning. SPM 새로 갈아주시길 바랍니다.	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	120,000원
3062	2019-02-27 10시	11시	SPM, DHF	한국전기연구원	전력반도체연구센터	석오균	360,000원
3063	2019-02-27 14시	15시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3064	2019-02-27 14시	15시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3065	2019-02-27 14시	15시	Si wet etch 3lot	(주)라디안큐바이오	바이오 R&D 센터	라디안큐바이오	1,050,000원
3066	2019-02-27 16시	17시	boe oxide etch 3ea	(주)라디안큐바이오	바이오 R&D 센터	라디안큐바이오	450,000원
3067	2019-02-28 13시	14시	SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3068	2019-02-28 17시	18시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
3069	2019-03-04 15시	16시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
3070	2019-03-04 15시	17시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3071	2019-03-05 10시	12시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3072	2019-03-05 14시	15시	tmah bath 사용	LG전자	ICS팀	김기민	237,500원
3073	2019-03-05 9시	10시	4-4-1 pad metal pre cleaning	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	85,000원
3074	2019-03-06 15시	16시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3075	2019-03-07 11시	12시	0-2-1 0 fab-in pre clean 0-3-2 0 thinning oxidation pre clean	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	300,000원
3076	2019-03-07 13시	14시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3077	2019-03-07 16시	17시	4-2-3 oxide remove rework	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	210,000원
3078	2019-03-07 19시	20시	oxide etching	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	64,000원
3079	2019-03-08 10시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3080	2019-03-08 10시	11시	0-4-1 0 thinning oxidation ox wet tech boe	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	300,000원
3081	2019-03-08 14시	16시	5 densify cleaning 43매	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3082	2019-03-11 10시	17시	안녕하세요. 주)DNF 이삼동입니다. Wet etch 의뢰 드립니다. 상세 의뢰 정보는 메일로 송부 드리겠습니다. Wet etch condition : HF 200 : 1 박막 종류 : SiOCN/Si sub. 6EA, SiO2/Si sub. 2EA Sample 수량 : 30mm*30mm size 8EA 분석 데이터는 하기 메일로 송부 부탁드립니다. sdlee2@dnfsolution.com 당사에서는 공정 진행료 처리를 위해 견적서가 필요합니다. 해당 공정 내용 및 두께 측정료 내역을 상기 메일로 견적서 발급을 부탁드립니다. 문의사항은 010-5828-8051 으로 연락주세요. 감사합니다	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	700,000원
3083	2019-03-11 17시	18시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
3084	2019-03-11 9시	13시	차세대 실리톤 파워반도체 기술사업화 계약_Thin	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	800,000원
3085	2019-03-12 10시	12시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3086	2019-03-12 13시	14시	3-4-1 dop anneal dhf clean	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	100,000원
3087	2019-03-12 9시	10시	fab-in cleaning	(주)엔디디	기업부설연구소	이승헌	135,000원
3088	2019-03-13 23시	24시	pre-cleaning (SPM and dHF)	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	160,000원
3089	2019-03-14 14시	15시	SPM, BOE	한국전기연구원	전력반도체연구센터	석오균	380,000원
3090	2019-03-14 15시	16시	Pre-cleaning. SPM 새로 갈아주시길 바랍니다.	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	120,000원
3091	2019-03-14 16시	17시	BOE+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3092	2019-03-15 10시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3093	2019-03-15 10시	11시	1-3-2 nw pr remove spm 1-3-3 nw pr remove dhf	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	250,000원
3094	2019-03-15 14시	15시	4-2-1 met depo. dhf wet etch(선행포함)	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	200,000원
3095	2019-03-15 15시	16시	Bio FET Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	102,000원
3096	2019-03-18 10시	11시	SPM, BOE	한국전기연구원	전력반도체연구센터	석오균	427,500원
3097	2019-03-18 14시	15시	SPM Cleaning	LG전자	ICS팀	김기민	142,500원
3098	2019-03-18 14시	15시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성전자	종합기술원	한주헌	440,000원
3099	2019-03-18 20시	21시	dHF cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	64,000원
3100	2019-03-19 10시	11시	SPM, BOE	한국전기연구원	전력반도체연구센터	석오균	427,500원
3101	2019-03-19 11시	12시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
3102	2019-03-19 11시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3103	2019-03-20 11시	12시	SPM	한국전기연구원	전력반도체연구센터	석오균	142,500원
3104	2019-03-20 11시	12시	1-3-2 gan etch gan remove spm pr strip 2-2-2 gan etch boe clean	삼성전자	종합기술원	한주헌	360,000원
3105	2019-03-20 11시	13시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3106	2019-03-21 10시	11시	SPM clean	(주)예스파워테크닉스	부설연구소	김기현	102,000원
3107	2019-03-21 16시	17시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
3108	2019-03-22 10시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3109	2019-03-22 15시	16시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
3110	2019-03-25 11시	12시	4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	600,000원
3111	2019-03-25 13시	14시	0-1-2 0 fab-in spm clean(multimetal gate -4)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3112	2019-03-25 13시	14시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3113	2019-03-25 14시	15시	0-2-1 fi fab-in clean spm	고려대학교	전기전자공학과	한규현	150,000원
3114	2019-03-25 17시	18시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
3115	2019-03-26 10시	11시	BOE 50min, SPM 10min SPM(2 회 사용)	한국전기연구원	전력반도체연구센터	석오균	570,000원
3116	2019-03-26 13시	14시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3117	2019-03-26 15시	16시	SPM 사용 전에 SPM 갈아 주시면 감사하겠습니다.	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	120,000원
3118	2019-03-26 16시	17시	1-4-2 sin pr remove spm remove	고려대학교	전기전자공학과	한규현	150,000원
3119	2019-03-26 17시	18시	wafer clean 5매 spm+dhf	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	200,000원
3120	2019-03-27 10시	12시	SPM DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	170,000원
3121	2019-03-27 14시	15시	1-3-2 akey pr remove pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
3122	2019-03-27 16시	17시	DHF Bath 사용	LG전자	ICS팀	김기민	76,000원
3123	2019-03-28 10시	12시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3124	2019-03-28 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean (gate recess)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3125	2019-03-28 15시	16시	2-1-1 ge clean spm+dhf	고려대학교	전기전자공학과	한규현	250,000원
3126	2019-03-28 9시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3127	2019-03-29 16시	18시	SPM+DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	170,000원
3128	2019-04-01 10시	11시	BOE 50min, SPM 10min	한국전기연구원	전력반도체연구센터	석오균	712,500원
3129	2019-04-01 13시	14시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
3130	2019-04-01 14시	15시	SPM cleaning	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	120,000원
3131	2019-04-02 10시	11시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3132	2019-04-02 10시	11시	SPM 10min	한국전기연구원	전력반도체연구센터	석오균	142,500원
3133	2019-04-02 13시	14시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성전자	종합기술원	한주헌	440,000원
3134	2019-04-02 13시	14시	0-1-1 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	210,000원
3135	2019-04-02 13시	14시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3136	2019-04-02 14시	16시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성전자	종합기술원	한주헌	600,000원
3137	2019-04-02 14시	15시	PR stripping. SPM 새로 갈아주시길 바랍니다.	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	120,000원
3138	2019-04-03 10시	11시	SPM 10min	한국전기연구원	전력반도체연구센터	석오균	142,500원
3139	2019-04-03 11시	14시	안녕하세요 (주)디엔에프 전상용 010-3441-2414 syjeon@dnfsolution.com 상세 진행 Recipe는 메일로 송부 예정 HF 200:1 조건에서 Wet etch 진행 전,후 ellipsometer 두께 측정 요청	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	1,300,000원
3140	2019-04-03 14시	16시	DHF-SPM	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	170,000원
3141	2019-04-04 11시	13시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3142	2019-04-04 11시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean(multimetal gate-5)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	210,000원
3143	2019-04-04 13시	15시	SPM+APM 45ea	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3144	2019-04-04 13시	14시	11-2-2 gc metal depo. 전세정 dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	70,000원
3145	2019-04-04 15시	16시	SPM+DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	170,000원
3146	2019-04-04 16시	18시	0-1-2 0 cleaning	나노콘	나노콘 연구소	나노콘	135,000원
3147	2019-04-04 16시	17시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
3148	2019-04-04 9시	10시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
3149	2019-04-08 10시	11시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
3150	2019-04-09 10시	11시	SPM Cleaning	LG전자	ICS팀	김기민	114,000원
3151	2019-04-09 10시	12시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3152	2019-04-09 12시	13시	0-2-1 fab-in clean	(주) 센텍코리아	생산기술연구팀	임채현	75,000원
3153	2019-04-09 13시	14시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	68,000원
3154	2019-04-10 12시	13시	BOE+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3155	2019-04-10 13시	14시	SPM10min 진행	한국전기연구원	전력반도체연구센터	김영조	142,500원
3156	2019-04-10 14시	16시	2-1-0 si sac oxide remove wet etching	(주)네오나노텍	연구개발	김성훈	300,000원
3157	2019-04-10 8시	9시	11-2-2 gc metal depo. 전세정 dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	70,000원
3158	2019-04-10 9시	12시	차세대 실리톤 파워반도체 기술사업화 계약_thin	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	800,000원
3159	2019-04-11 10시	11시	BOE+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3160	2019-04-12 10시	11시	SPM 새로 갈아주시길 바랍니다.	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	120,000원
3161	2019-04-12 11시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3162	2019-04-15 10시	11시	0-1-1 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	210,000원
3163	2019-04-15 11시	12시	dHF 30 sec	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	68,000원
3164	2019-04-15 9시	12시	(주)디엔에프 전상용 010-3441-2414 syjeon@dnfsolution.com 상세 진행 Recipe는 메일로 송부 완료 HF 200:1 조건에서 Wet etch 진행 전,후 ellipsometer 두께 측정 요청	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	3,200,000원
3165	2019-04-16 10시	11시	Naive Oxide removal before Metal Pattern	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	68,000원
3166	2019-04-16 11시	12시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
3167	2019-04-16 16시	17시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	210,000원
3168	2019-04-16 23시	24시	DHF	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	68,000원
3169	2019-04-17 10시	12시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3170	2019-04-18 11시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3171	2019-04-18 11시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in dhf clean	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	200,000원
3172	2019-04-18 14시	17시	KOH 1hr	단국대학교	창의융합제조공학과	조성집	400,000원
3173	2019-04-19 13시	15시	BOE + APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3174	2019-04-19 15시	16시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
3175	2019-04-19 9시	11시	SPM (23ea+25ea)	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3176	2019-04-22 14시	15시	SPM 새로 갈아주세요	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	120,000원
3177	2019-04-22 15시	16시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
3178	2019-04-23 14시	15시	PR cleaning SPM 새로 갈아주세요	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	120,000원
3179	2019-04-23 14시	15시	BOE+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3180	2019-04-24 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3181	2019-04-24 11시	12시	SPM clean	(주)예스파워테크닉스	부설연구소	김기현	102,000원
3182	2019-04-24 17시	18시	11-2-2 gc metal depo. 전세정	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	75,000원
3183	2019-04-25 13시	14시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3184	2019-04-25 13시	14시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3185	2019-04-25 14시	15시	0-2-1 akey initial oxide pre cleaning SC-1. DHF	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	212,500원
3186	2019-04-25 9시	13시	(주)디엔에프 전상용 010-3441-2414 syjeon@dnfsolution.com 상세 진행 Recipe는 메일로 송부 완료 HF 200:1 조건에서 Wet etch 진행 전,후 ellipsometer 두께 측정 요청	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	1,720,000원
3187	2019-04-29 12시	13시	0-1-3 0 fab-in spm clean(gate recess3)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3188	2019-04-29 15시	16시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
3189	2019-04-29 9시	10시	SiC Pre cleaning 1	서강대학교	전자공학과	김태홍	150,000원
3190	2019-04-29 9시	10시	SiC Pre cleaning 2	서강대학교	전자공학과	김태홍	100,000원
3191	2019-04-30 10시	11시	BOE+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3192	2019-04-30 14시	16시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3193	2019-05-02 13시	18시	Pre Cleaning SPM	전북대학교	전자공학부	김기현	1,600,000원
3194	2019-05-03 10시	11시	-- 0 fab-in spm	(주)베프스	기획팀	BEFS	0원
3195	2019-05-03 10시	11시	0-1-1 fab-in spm	(주)베프스	기획팀	BEFS	0원
3196	2019-05-07 10시	11시	6인치 Bare wafer 공정 들어가기 전 Cleaning 25장 (1 lot) SPM+APM+DHF	포항공과대학교	기계공학과	김준수	360,000원
3197	2019-05-07 13시	14시	5-2-1 membrane open et ono etch oxide wet etch	(주) 센텍코리아	생산기술연구팀	임채현	150,000원
3198	2019-05-07 14시	15시	SPM 새로 갈아주시길 바랍니다.	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	120,000원
3199	2019-05-07 15시	16시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	127,500원
3200	2019-05-08 13시	14시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in dhf clean	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	200,000원
3201	2019-05-08 13시	14시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3202	2019-05-08 15시	16시	APM cleaning 40ea	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3203	2019-05-09 7시	8시	dhf bath 사용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	136,000원
3204	2019-05-09 8시	9시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
3205	2019-05-09 9시	18시	안녕하세요. 주)DNF 이삼동입니다. Wet etch 의뢰 드립니다. 상세 의뢰 정보는 메일로 송부 드리겠습니다. Wet etch condition : HF 200 : 1 박막 종류 : SiO2/Si sub. 11EA Sample 수량 : 30mm*30mm size 11EA 분석 데이터는 하기 메일로 송부 부탁드립니다. sdlee2@dnfsolution.com 당사에서는 공정 진행료 처리를 위해 견적서가 필요합니다. 해당 공정 내용 및 두께 측정료 내역을 상기 메일로 견적서 발급을 부탁드립니다. 문의사항은 010-5828-8051 으로 연락주세요. 감사합니다	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	820,000원
3206	2019-05-10 12시	13시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
3207	2019-05-10 15시	16시	2-3-2 ring pr remove spm pr strip	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	127,500원
3208	2019-05-13 10시	12시	Pre-cleaning SPM 새로 갈아주세요	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	120,000원
3209	2019-05-13 12시	13시	2-4-1 ring oxide remove ox wet strip boe 3-1-1 active field oxidation pr cleaning apm 3-1-2 active field oxidation pr cleaning dhf	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	467,500원
3210	2019-05-13 13시	14시	BOE+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3211	2019-05-14 11시	12시	2-2-5 L1 pr remove spm	(주)베프스	기획팀	BEFS	0원
3212	2019-05-14 16시	17시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in dhf clean	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	200,000원
3213	2019-05-15 10시	11시	3-6-2 active pr remove spm pr strip	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	127,500원
3214	2019-05-15 10시	11시	3-5-1 active etching oxide etching	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	255,000원
3215	2019-05-15 10시	11시	BOE,APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3216	2019-05-15 12시	14시	차세대 실리톤 파워반도체 기술사업화 계약_Thin film	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	800,000원
3217	2019-05-16 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3218	2019-05-16 11시	12시	0-1-2 cleaning spm	포항공과대학교	IBS CALDES	이진환	135,000원
3219	2019-05-16 18시	19시	Sputter 1 담당자 이원범 선임님에게 SiGe/p-Si 샘플 단위 기판을 전해 드렸습니다. Ni 증착을 하기 전에 DHF cleaning이나 native oxide 제거를 위한 cleaning을 부탁드리겠습니다. 감사합니다. 혹시 궁금하신게 있으시면 010-5678-4672 한규현 으로 연락주시면 감사하겠습니다.	고려대학교	전기전자공학과	한규현	100,000원
3220	2019-05-17 14시	15시	3-10-1 active oxide remove oxide etching	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	255,000원
3221	2019-05-17 14시	15시	.	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	120,000원
3222	2019-05-17 15시	16시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
3223	2019-05-20 10시	11시	4-1-1 gate oxide pre-cleaning	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	212,500원
3224	2019-05-20 13시	14시	0-1-3 0 fab-in spm clean(ohmic 세정)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3225	2019-05-20 13시	14시	.	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	80,000원
3226	2019-05-20 14시	15시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
3227	2019-05-21 10시	11시	4-1-1 pc 전세정 sc2 clean 4-1-2 pc 전세정 dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	600,000원
3228	2019-05-21 11시	13시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3229	2019-05-21 11시	13시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3230	2019-05-21 15시	16시	spm	나노융합기술원	대외협력팀	강민식	0원
3231	2019-05-21 16시	18시	세정 평가 : SPM	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3232	2019-05-22 10시	11시	dHF	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	80,000원
3233	2019-05-23 10시	11시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
3234	2019-05-23 13시	14시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3235	2019-05-24 10시	11시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3236	2019-05-24 11시	12시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3237	2019-05-24 14시	15시	Bio FET Oxide 제거	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	68,000원
3238	2019-05-27 14시	15시	0-1-2 hard mask depo. pre clean	(주)니나노	기업부설연구소	박준영	395,000원
3239	2019-05-27 14시	15시	0-1-2 hard mask depo. pre clean	(주)니나노	기업부설연구소	박준영	395,000원
3240	2019-05-27 17시	18시	PR cleaning	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	120,000원
3241	2019-05-29 10시	11시	1-3-2 hard mask pr remove nano pr strip 1-3-3 hard mask pr remove polymer strip	(주)니나노	기업부설연구소	박준영	250,000원
3242	2019-05-29 11시	12시	SPM + DHF 사용	포항공과대학교	전자전기공학과	윤솔	170,000원
3243	2019-05-29 17시	18시	4-6-2 gate pr remove spm pr strip 4-6-3 gate pr remove polymer strip	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	212,500원
3244	2019-05-29 20시	21시	pre cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	64,000원
3245	2019-05-29 9시	10시	1-3-2 hard mask pr remove nano pr strip 1-3-3 hard mask pr remove polymer strip	(주)니나노	기업부설연구소	박준영	250,000원
3246	2019-05-30 14시	15시	11-2-2 gc metal depo. 전세정 dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	75,000원
3247	2019-06-03 13시	14시	2-3-2 se box pr remove spm	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	150,000원
3248	2019-06-04 10시	11시	0-2-1 0 fab-in pre cleaning sc1 0-2-2 0 fab-in pre cleaning dhf 0-2-3 0 fab-in pre cleaning tmah	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	467,500원
3249	2019-06-04 14시	15시	5-3-2 n+ pr remove spm pr strip spm	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	127,500원
3250	2019-06-04 16시	18시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성전자	종합기술원	한주헌	440,000원
3251	2019-06-10 11시	12시	11-2-2 gc metal depo. 전세정 dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	75,000원
3252	2019-06-10 9시	16시	안녕하세요. 주)DNF 이삼동입니다. Wet etch 의뢰 드립니다. 상세 의뢰 정보는 메일로 송부 드리겠습니다. Wet etch condition : HF 200 : 1 박막 종류 : SiO2/Si sub. 10EA Sample 수량 : 30mm*30mm size 10EA 분석 데이터는 하기 메일로 송부 부탁드립니다. sdlee2@dnfsolution.com 당사에서는 공정 진행료 처리를 위해 견적서가 필요합니다. 해당 공정 내용 및 두께 측정료 내역을 상기 메일로 견적서 발급을 부탁드립니다. 문의사항은 010-5828-8051 으로 연락주세요. 감사합니다	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	780,000원
3253	2019-06-11 13시	14시	SPM과 dHF 함께 사용	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	170,000원
3254	2019-06-11 15시	17시	3 pr strip spm + apm 25ea	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3255	2019-06-12 10시	11시	spm 10min	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3256	2019-06-12 15시	17시	6 pr strip spm + apm 25ea	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3257	2019-06-13 16시	18시	10 pr strip spm + apm 25ea	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3258	2019-06-13 9시	13시	MEMS Bio-Sensor 제작	(주)아이제스트	연구개발팀	김성지	0원
3259	2019-06-14 14시	15시	0-1-3 0 fab-in apm clean 0-1-4 0 fab-in dhf clean	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	200,000원
3260	2019-06-14 16시	18시	13 pr strip spm + apm 25ea	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3261	2019-06-14 9시	13시	차세대 실리톤 파워반도체 기술사업화 계약	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	800,000원
3262	2019-06-17 14시	15시	0-2-1 0 initial oxide pre cleaning sc1 10min 0-2-1 0 initial oxide pre cleaning dhf 1min	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	212,500원
3263	2019-06-17 14시	15시	0-2-1 0 fab-in pre cleaning apm 0-2-2 0 fab-in pre cleaning dhf 0-2-3 0 fab-in pre cleaning tmah	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	467,500원
3264	2019-06-17 15시	16시	17 pr strip spm + apm 25ea	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3265	2019-06-17 16시	17시	Oxide Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	68,000원
3266	2019-06-18 16시	17시	20 pr strip spm + apm 25ea	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3267	2019-06-18 9시	15시	차세대 실리콘 나노선 개발	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	0원
3268	2019-06-19 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3269	2019-06-19 14시	17시	메일 송부	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	260,000원
3270	2019-06-20 15시	16시	dHF cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	64,000원
3271	2019-06-20 16시	17시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3272	2019-06-20 18시	20시	24 pr strip spm + apm 25ea	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3273	2019-06-20 18시	19시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
3274	2019-06-21 15시	16시	1-5-1 si hard mask oxide etch boe	(주)니나노	기업부설연구소	박준영	300,000원
3275	2019-06-21 15시	16시	27 pr strip spm + apm 25ea	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3276	2019-06-21 15시	16시	1-5-1 si hard mask oxide etch boe	(주)니나노	기업부설연구소	박준영	300,000원
3277	2019-06-24 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3278	2019-06-24 10시	11시	2-3-2 rx pr remove spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3279	2019-06-24 16시	18시	31 pr strip spm + apm 25ea	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3280	2019-06-25 14시	15시	1-4-2 akey pr remove sp rp strip (WF3 dhf clean)	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	212,500원
3281	2019-06-25 15시	16시	3-4-1 dop anneal dhf clean	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	100,000원
3282	2019-06-25 16시	17시	34 pr strip spm + apm 25ea	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3283	2019-06-26 1시	2시	pre cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	96,000원
3284	2019-06-26 13시	14시	0-2-1 0 fab-in pre cleaning spm 0-2-2 0 fab-in pre cleaning dhf	나노융합기술원	포스텍-프라운호퍼 IISB 실용화연구센터	성민재	212,500원
3285	2019-06-26 15시	17시	34 pr strip spm + apm 25ea	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3286	2019-06-26 9시	10시	4-1-1 pc 전세정 sc2 clean 4-1-2 pc 전세정 dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	300,000원
3287	2019-06-26 9시	10시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
3288	2019-06-27 10시	11시	5-3-2 n+ pr remove spm pr strip(rework)	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	127,500원
3289	2019-06-27 12시	13시	PE-Oxide Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	68,000원
3290	2019-06-27 15시	16시	45 pr strip spm + apm 25ea	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3291	2019-06-28 15시	16시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3292	2019-07-01 10시	18시	(주)디엔에프 전상용 010-3441-2414 syjeon@dnfsolution.com HF 200:1 조건에서 Wet etch 진행 전,후 ellipsometer 두께 측정 요청 --> 1min - 1min - 1min - 3min -14min 진행	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	1,240,000원
3293	2019-07-01 18시	19시	52 pr strip spm + apm 25ea	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3294	2019-07-01 9시	10시	SPM 10min	연세대학교 의료원	방사선종양학과	권나혜	150,000원
3295	2019-07-02 17시	18시	55 pr strip spm + apm 25ea	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3296	2019-07-03 12시	13시	6-1-1 cont ild depo. pre cleaning	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	127,500원
3297	2019-07-03 13시	14시	SPM PR remove 2회	연세대학교 의료원	방사선종양학과	권나혜	300,000원
3298	2019-07-03 13시	14시	4-2-1 met sputter dhf wet etch	전자부품연구원	메디컬IT융합	이국녕	100,000원
3299	2019-07-03 14시	15시	Active Oxide Etch	연세대학교 의료원	방사선종양학과	권나혜	300,000원
3300	2019-07-03 17시	19시	59 pr strip spm + apm 25ea	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3301	2019-07-04 10시	11시	DHF	연세대학교 의료원	방사선종양학과	권나혜	100,000원
3302	2019-07-04 14시	15시	Silicon oxide, Nitride 증착된 6인치 Si wafer 500um 두께 --------------------------- spm+apm	포항공과대학교	기계공학과	김준수	270,000원
3303	2019-07-04 16시	18시	62 pr strip spm+apm 25ea	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3304	2019-07-04 9시	10시	APM	연세대학교 의료원	방사선종양학과	권나혜	150,000원
3305	2019-07-05 15시	16시	200:1 dHF native oxide 제거	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	64,000원
3306	2019-07-05 15시	16시	2-3-2 F_POE oxide etch	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	720,000원
3307	2019-07-05 15시	16시	1-3-1 akey pr remove	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	127,500원
3308	2019-07-05 16시	17시	1-4-1 akey oxide remove	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	85,000원
3309	2019-07-05 18시	19시	67 pr strip spm+apm 25ea	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3310	2019-07-05 9시	10시	차세대 나노선 개발	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	0원
3311	2019-07-08 15시	16시	2-2-3 trench mask etch cleaning spm	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	135,000원
3312	2019-07-09 10시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3313	2019-07-09 17시	18시	spm+apm 25ea	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3314	2019-07-10 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3315	2019-07-10 10시	11시	1-3-2 akey pr remove spm pr stirp	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
3316	2019-07-10 11시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3317	2019-07-10 14시	15시	dhf 50sec	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	70,000원
3318	2019-07-10 17시	18시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
3319	2019-07-11 10시	11시	3-2-1 3th oxide etching peoixde etch	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	270,000원
3320	2019-07-11 10시	11시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3321	2019-07-11 10시	11시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3322	2019-07-11 14시	15시	6-3-2 cont pr remove spm pr strip	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	127,500원
3323	2019-07-11 16시	17시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3324	2019-07-11 16시	17시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3325	2019-07-12 10시	11시	4-1-1 pc 전세정 SC2 clean 4-1-1 pc 전세정 DHF clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	300,000원
3326	2019-07-12 10시	11시	4-1-1 pc 전세정 SC2 clean 4-1-1 pc 전세정 DHF clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	300,000원
3327	2019-07-12 14시	15시	2-3-4 trench etch cleaning oxide remove	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	355,000원
3328	2019-07-12 15시	16시	11-2-2 gc meta depo. 전세정 dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	75,000원
3329	2019-07-15 10시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean (11.0 gc module photo)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	385,000원
3330	2019-07-16 10시	11시	11-2-2 gc metal depo. 전세정 dhf clean (11.0 gc module photo)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	70,000원
3331	2019-07-16 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3332	2019-07-16 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3333	2019-07-16 14시	15시	6-5-1 cont met1 sputter dhf cleaning	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	85,000원
3334	2019-07-16 15시	16시	5-3-2 0 poly etch pr remove spm pr strip	나노융합기술원	포스텍-프라운호퍼 IISB 실용화연구센터	성민재	127,500원
3335	2019-07-16 15시	16시	11-2-2 gc metal depo. 전세정 BOE 100:1 clean (11.0 gc module photo)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	210,000원
3336	2019-07-17 10시	11시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3337	2019-07-17 10시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean (11.0 gc module photo-2)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	385,000원
3338	2019-07-17 10시	11시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3339	2019-07-17 16시	17시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3340	2019-07-17 16시	17시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3341	2019-07-17 16시	17시	11-2-2 gc metal depo. 전세어 dhf clean 8min (11.0 gc module photo)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	70,000원
3342	2019-07-18 10시	11시	4-1-1 pc 전세정 sc2 clean 4-1-2 pc 전세정 dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	300,000원
3343	2019-07-18 10시	11시	4-1-1 pc 전세정 sc2 clean 4-1-2 pc 전세정 dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	300,000원
3344	2019-07-18 10시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3345	2019-07-18 10시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3346	2019-07-18 12시	13시	차세대 실리톤 파워반도체 기술사업화 계약	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	800,000원
3347	2019-07-18 14시	15시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
3348	2019-07-18 16시	17시	5-2-2 back oxide etch boe 15min	나노콘	나노콘 연구소	나노콘	270,000원
3349	2019-07-18 9시	10시	차세대 실리콘 나노선 개발	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	0원
3350	2019-07-19 13시	14시	11-2-2 gc metal depo. 전세정 boe 100:1 4min 30sec (11.0 gc module photo)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
3351	2019-07-19 14시	15시	4-1-5 oxide 2000A wet etch boe 6 min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	240,000원
3352	2019-07-22 10시	11시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
3353	2019-07-22 10시	11시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3354	2019-07-22 14시	15시	dhf 1min	삼성전자	종합기술원	한주헌	80,000원
3355	2019-07-22 14시	15시	0-1-3 0 fab-in spm clean (sin_oxide etch rate)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3356	2019-07-22 9시	10시	나노선 열전소자 제작(Cleaning_SPM+DHF)	주식회사 싸이츠	기업부설연구소	백창기	0원
3357	2019-07-23 10시	11시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc 전세정 sc2 clean 4-1-2 pc 전세정 dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3358	2019-07-23 14시	15시	0-1-3 0 fab-in spm clean (pGaN인산 평가)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3359	2019-07-23 14시	15시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean (GC module setup_SiN)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	385,000원
3360	2019-07-23 17시	18시	0-7-3 0 metal depo. 전세정 h3po4 (sin_oxide etch rate)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	210,000원
3361	2019-07-23 9시	10시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3362	2019-07-24 13시	14시	dHF cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	64,000원
3363	2019-07-24 14시	15시	spm cleaning	한국전기연구원	전력반도체연구센터	석오균	142,500원
3364	2019-07-24 14시	15시	11-2-2 gc metal depo. 전세정 dhf clean (11.0 gc module photo-2)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	70,000원
3365	2019-07-24 17시	18시	나노선 열전소자 제작(Pillar Etch_Cleaning)	주식회사 싸이츠	기업부설연구소	백창기	0원
3366	2019-07-25 11시	12시	나노선 열전소자 제작(VNP Passi_Cleaning)	주식회사 싸이츠	기업부설연구소	백창기	0원
3367	2019-07-25 14시	15시	1-3-2 aky pr remove spm pr strip (gc module setup_sin)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3368	2019-07-25 18시	18시	0-2-1 fab-in clean spm	LG전자	센서솔루션연구소	이성단	142,500원
3369	2019-07-26 10시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3370	2019-07-26 17시	18시	2-3-3 front pr remove ashing spm	LG전자	센서솔루션연구소	이성단	142,500원
3371	2019-07-26 9시	11시	0-2-1 fab-in clean spm 0-2-2 fab-in clean boe	LG전자	센서솔루션연구소	이성단	427,500원
3372	2019-07-29 10시	11시	3-2-1 ox remove boe 10:1 10min (1500A remove)	LG전자	센서솔루션연구소	이성단	285,000원
3373	2019-07-29 11시	12시	2-5-4 trench etch sc1 2-5-5 trench etch boe	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	382,500원
3374	2019-07-29 13시	14시	나노선 열전소자 제작(Cleaning_SPM+DHF)	주식회사 싸이츠	기업부설연구소	백창기	0원
3375	2019-07-29 16시	17시	11-2-1 gc metal depo. 전세정 boe clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
3376	2019-07-29 17시	18시	11-2-2 gc meatal depo. 전세정 dhf clean (11.0 gc module photo-2)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	70,000원
3377	2019-07-29 18시	19시	2-3-3 front pr remove spm clean	LG전자	센서솔루션연구소	이성단	142,500원
3378	2019-07-29 20시	21시	spm cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	96,000원
3379	2019-07-30 10시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3380	2019-07-30 13시	14시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
3381	2019-07-30 16시	17시	11-2-2 gc metal depo. 전세정 dhf clean (11.0 gc module photo-2)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	70,000원
3382	2019-07-31 11시	12시	akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
3383	2019-07-31 13시	14시	11-2-2 gc metal depo. 전세정 인산 (gc module setip_sin)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	210,000원
3384	2019-07-31 15시	16시	나노선 열전소자 제작(N Implant_PR remove)	주식회사 싸이츠	기업부설연구소	백창기	0원
3385	2019-07-31 16시	17시	11-2-2 gc metal depo. 전세정 dhf clean (11.0 gc module photo-2)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	70,000원
3386	2019-07-31 9시	10시	BOE Bath 사용	LG전자	센서솔루션연구소	이성단	285,000원
3387	2019-08-01 9시	13시	SiN / SiO2 Wet Etch 200:1 HF 상세 내용은 기종 연구원님께 송부 문의내용은 syjeon@dnfsolution.com 으로 송부 010-3441-2414	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	1,240,000원
3388	2019-08-01 9시	10시	차세대 나노선 개발	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	0원
3389	2019-08-02 10시	11시	Humidity 1차_SPM	알앤에스랩	센서팀	알앤에스랩	150,000원
3390	2019-08-02 14시	15시	2-3-1 bevel pr remove spm	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	127,500원
3391	2019-08-02 15시	16시	11-2-2 gc metal depo. 전세정 인산 (pGaN 인산)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	210,000원
3392	2019-08-05 10시	11시	3-1-1 contact ild depo. pre-cleaning apm 3-1-2 contact ild depo. pre-cleaning dhf 3-1-3 contact ild depo. pre-cleaning sc2	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	467,500원
3393	2019-08-05 10시	11시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean(split)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	900,000원
3394	2019-08-05 13시	18시	안녕하세요. 주)DNF 이삼동입니다. Wet etch 의뢰 드립니다. 상세 의뢰 정보는 메일로 송부 드리겠습니다. Wet etch condition : HF 200 : 1 박막 종류 : SiN/Si sub. 11EA, SiO2/Si sub. 2EA Sample 수량 : 30mm*30mm size 13EA 분석 데이터는 하기 메일로 송부 부탁드립니다. sdlee2@dnfsolution.com 당사에서는 공정 진행료 처리를 위해 견적서가 필요합니다. 해당 공정 내용 및 두께 측정료 내역을 상기 메일로 견적서 발급을 부탁드립니다. 문의사항은 010-5828-8051 으로 연락주세요. 감사합니다	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	1,100,000원
3395	2019-08-05 18시	19시	pc 전세정 dhf clean 2매 pc metal depo. 전세정 boe clean 2매	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	300,000원
3396	2019-08-05 18시	19시	나노선 열전소자 제작(Cleaning_SPM+DHF)	주식회사 싸이츠	기업부설연구소	백창기	0원
3397	2019-08-05 9시	10시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3398	2019-08-06 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3399	2019-08-06 11시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3400	2019-08-06 16시	17시	나노선 열전소자 제작(Silicide Annealing_SC1_SPM)	주식회사 싸이츠	기업부설연구소	백창기	0원
3401	2019-08-06 9시	10시	pre cleaning SPM, 100:1 dHF	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	160,000원
3402	2019-08-07 10시	12시	1-3-2 AKEY PR remove	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
3403	2019-08-07 13시	14시	APM+DHF	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	212,500원
3404	2019-08-07 14시	15시	3-2-1 BOE, 3-3-1 DHF	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	340,000원
3405	2019-08-07 9시	10시	1-3-2 AKEY PR remove	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
3406	2019-08-08 10시	11시	1-3-2 PR Strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3407	2019-08-08 12시	14시	2-3-2 SPM 4-1-1 SC2 4-1-2 DHF	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3408	2019-08-09 10시	14시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3409	2019-08-09 16시	17시	나노선 열전소자 제작(Cleaning_DHF)	주식회사 싸이츠	기업부설연구소	백창기	0원
3410	2019-08-12 15시	17시	0-2-3 0 fab-in pre cleaning sc1 0-2-4 0 fab-in pre cleaning dhf 0-2-5 0 fab-in pre cleaning tmah	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	495,000원
3411	2019-08-13 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3412	2019-08-13 13시	14시	1-3-2 akey pr remove pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
3413	2019-08-13 14시	15시	11-2-2 gc metal depo. 전세정 boe clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
3414	2019-08-14 10시	12시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3415	2019-08-14 14시	15시	1-3-2 akey pr remove pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
3416	2019-08-14 15시	16시	11-2-2 gc metal depo. 전세정 H3PO4	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
3417	2019-08-16 14시	17시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3418	2019-08-19 13시	14시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	476,500원
3419	2019-08-19 15시	16시	Cleaning	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	120,000원
3420	2019-08-19 9시	10시	차세대 실리콘 나노선 개발	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	0원
3421	2019-08-20 10시	11시	인산 처리 1매(오전 퀵 전달 wafer): 투입 &인산 120도 16min	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	210,000원
3422	2019-08-20 9시	10시	4-4-1 pad metal pre cleaning	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	85,000원
3423	2019-08-22 10시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean 0-1-6 0 fab-in h3po4	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	1,050,000원
3424	2019-08-22 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3425	2019-08-22 14시	15시	SPM APM cleaning을 이용한 파티클 제거	포항공과대학교	기계공학과	김준수	270,000원
3426	2019-08-22 9시	10시	0-1-3 0 fab-in spm clean (oxide removal on pgan)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3427	2019-08-23 13시	14시	3-2-1 pg oxide etch boe (oxide removal on pgan)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	210,000원
3428	2019-08-26 10시	11시	Pre-cleaning	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	120,000원
3429	2019-08-26 14시	15시	3-2-3 pg akey pr remove spm pr strip (oxide removal on pgan)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3430	2019-08-26 15시	16시	1매 TMAH 처리 5min	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	210,000원
3431	2019-08-26 15시	18시	1-3-1 nitride etch si wet etch koh	(주)라디안큐바이오	바이오 R&D센터 정인혜 전문연구원	최정명	765,000원
3432	2019-08-26 15시	17시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3433	2019-08-26 16시	17시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
3434	2019-08-26 16시	17시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3435	2019-08-26 9시	10시	차세대 실리콘 파워반도체 기술사업화 계약	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	800,000원
3436	2019-08-27 15시	16시	1-3-1 akey pr remove pr remove	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	127,500원
3437	2019-08-27 16시	17시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3438	2019-08-27 16시	17시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
3439	2019-08-28 10시	12시	Wafer cleaning	(주)라디안큐바이오	바이오 R&D센터 정인혜 전문연구원	최정명	150,000원
3440	2019-08-28 12시	13시	thermopile 3차 1차 spm	알앤에스랩	센서팀	알앤에스랩	150,000원
3441	2019-08-28 9시	10시	thermopoile 2차 1차 SPM	알앤에스랩	센서팀	알앤에스랩	150,000원
3442	2019-08-29 14시	15시	0-1-3 0 fab-in spm clean (oxide removal on pgan-2)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3443	2019-08-29 16시	17시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3444	2019-08-29 17시	18시	3-2-1 pg oxide etch boe	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	210,000원
3445	2019-08-30 10시	11시	3-2-3 pg akey pr remove spm pr strip (oxide removal on pgan-2)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3446	2019-08-30 14시	15시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3447	2019-08-30 15시	16시	1-4-1 akey oxide remove pe-ox wet strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	85,000원
3448	2019-09-02 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3449	2019-09-02 13시	14시	11-2-2 gc metal depo. 전세정 boe clean 6ea	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	450,000원
3450	2019-09-02 17시	18시	1-3-2 AKEY PR remove	경남대학교	전자공학과	김성진	150,000원
3451	2019-09-02 9시	10시	0-2-1 SPM 0-2-2 DHF	경남대학교	전자공학과	김성진	250,000원
3452	2019-09-03 10시	11시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3453	2019-09-03 16시	17시	2-3-2 SPM 2-3-3 DHF	경남대학교	전자공학과	김성진	250,000원
3454	2019-09-03 22시	23시	dHF cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	64,000원
3455	2019-09-03 9시	10시	1-4-1 PE-Oxide cleaning	경남대학교	전자공학과	김성진	100,000원
3456	2019-09-04 13시	14시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3457	2019-09-04 16시	17시	3-2-3 pg akey pr remove spm pr strip (oxide removal on pgan-2) #4	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3458	2019-09-04 16시	17시	3-2-1 pg pg oxide tech boe (oxide removal on pgan-2) #4	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	210,000원
3459	2019-09-04 9시	10시	2-5-1	경남대학교	전자공학과	김성진	300,000원
3460	2019-09-05 10시	11시	4-2-3 pc metal depo. 전세정 boe clean(split 4)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	450,000원
3461	2019-09-05 10시	11시	11-2-2 gc metal depo. 전세정 boe clean dhf 4m30sec	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	75,000원
3462	2019-09-05 14시	15시	0-1-3 0 fab-in spm clean (11.0 gc 검증용)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	75,000원
3463	2019-09-06 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3464	2019-09-06 11시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3465	2019-09-06 11시	12시	11-2-2 gc metal depo. 전세정 boe clean (11.0 gc 검증용)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	150,000원
3466	2019-09-06 12시	13시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	440,000원
3467	2019-09-06 16시	17시	SPM cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	96,000원
3468	2019-09-09 10시	11시	4-2-1 SiO wet etch	경남대학교	전자공학과	김성진	300,000원
3469	2019-09-09 11시	12시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3470	2019-09-09 11시	12시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3471	2019-09-09 14시	15시	6-1-1 DHF cleaning	경남대학교	전자공학과	김성진	100,000원
3472	2019-09-09 15시	16시	DHF 100:1 5min BOE(케미탑) 100:1 250sec	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	200,000원
3473	2019-09-09 9시	10시	0-1-2 0 fab-in spm clean	(주)라디안큐바이오	바이오 R&D센터 정인혜 전문연구원	최정명	127,500원
3474	2019-09-09 9시	10시	0-1-3 0 fab-in spm clean (11.0 gc 검증용-2)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	75,000원
3475	2019-09-10 10시	11시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3476	2019-09-10 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3477	2019-09-10 10시	11시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3478	2019-09-10 11시	12시	SPM cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	96,000원
3479	2019-09-10 13시	18시	2 pr strip wet pr strip apm+apm 100ea	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3480	2019-09-10 16시	17시	3 pr strip h2so4 spm+apm 24ea	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3481	2019-09-10 16시	17시	11-2-2 gc metal depo. 전세정 boe clean dhf 100:1 5min (11.0 gc 검증용)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	50,000원
3482	2019-09-10 16시	17시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3483	2019-09-10 9시	10시	0-1-3 0 fab-in spm clean (oxide removal on p gan-3)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3484	2019-09-11 11시	12시	1-3-1 nitride etch si wet etch koh	(주)라디안큐바이오	바이오 R&D센터 정인혜 전문연구원	최정명	255,000원
3485	2019-09-11 14시	15시	3-2-4 pg akey pr remove spm pr strip (oxide removal on pgan-3)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3486	2019-09-16 13시	16시	6 pr strip h2so4 spm+apm 24ea	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3487	2019-09-17 10시	11시	1-3-2 akey pr remove pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3488	2019-09-17 13시	14시	dHF cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	64,000원
3489	2019-09-17 17시	18시	11-- dhf 공정추가 4매 600A etch target	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	75,000원
3490	2019-09-17 17시	18시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3491	2019-09-17 17시	18시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3492	2019-09-17 9시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3493	2019-09-18 14시	15시	dHF 클리닝	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	64,000원
3494	2019-09-18 16시	18시	SPM+APM 24ea	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3495	2019-09-18 17시	18시	1-3-2 akey pr remove spmn pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3496	2019-09-19 10시	15시	안녕하세요. 주)DNF 이삼동입니다. Wet etch 의뢰 드립니다. 상세 의뢰 정보는 메일로 송부 드리겠습니다. Wet etch condition : HF 200 : 1 박막 종류 : SiN/Si sub. Sample 수량 : 30mm*30mm size 5EA 분석 데이터는 하기 메일로 송부 부탁드립니다. sdlee2@dnfsolution.com 당사에서는 공정 진행료 처리를 위해 견적서가 필요합니다. 해당 공정 내용 및 두께 측정료 내역을 상기 메일로 견적서 발급을 부탁드립니다. 문의사항은 010-5828-8051 으로 연락주세요. 감사합니다	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	740,000원
3497	2019-09-19 15시	16시	0-1-3 0 fab-in spm clean (pgan 선택비 평가 ulvac n2)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3498	2019-09-19 16시	17시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3499	2019-09-19 16시	18시	13 pr strip spm+ apm 24ea	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3500	2019-09-19 9시	10시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3501	2019-09-20 10시	11시	SPM + DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	서명해	170,000원
3502	2019-09-23 13시	14시	3-1-1 contact ild depo. pre-cleaning apm 3-1-2 contact ild depo. pre-cleaning dhf 3-1-3 contact ild depo. pre-cleaning sc2	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	467,500원
3503	2019-09-23 15시	16시	3-2-5 pg akey pr remove pr strip 3-2-5 pg akey pr remove pr strip(dhf 후 spm) #3 (oxide removal on pgan-3)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	210,000원
3504	2019-09-23 16시	17시	wafer 1.2번 dhf 5m45s 11-28-8 gc oxide etch	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	50,000원
3505	2019-09-23 17시	18시	17 pr strip spm+apm 24ea	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3506	2019-09-24 11시	12시	11-2-2 gc metal depo. 전세정 boe clean 16m 1ea (11.0 module setip_DHF)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	70,000원
3507	2019-09-24 14시	16시	20 pr strip spm+ apm 24ea	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3508	2019-09-25 13시	18시	전문인력양성사업 실습 Pre-cleaning & native oxide remove	나노융합기술원	사업지원팀	박진우	900,000원
3509	2019-09-25 15시	16시	SPM과 dHF 동시 사용	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	170,000원
3510	2019-09-25 17시	18시	SPM	포항공과대학교	창의IT융합공학과	서명해	102,000원
3511	2019-09-26 10시	12시	24 pr strip spm+apm 24ea	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3512	2019-09-26 13시	14시	3-2-5 pg akey pr remove spm pr strip (oxide removal on pagan 3)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3513	2019-09-26 15시	16시	1-4-2 n+ carbon strip spm pr strip 2-1-1 sac ox sac . oxidation-1 pre cleaning apm + dhf	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	360,000원
3514	2019-09-26 17시	18시	27 pr strip spm + apm	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3515	2019-09-26 9시	10시	3-2-3 pg oxide etch dhf (oxide removal on pgan 3)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	70,000원
3516	2019-09-26 9시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	0원
3517	2019-09-27 10시	11시	3-2-3 pg akey pr remove spm pr strip 3-3-1 pg oxide etch dhf	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	187,500원
3518	2019-09-27 15시	16시	31 pr strip spm+apm 24ea	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3519	2019-09-27 16시	17시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	0원
3520	2019-09-27 16시	17시	2-3-1 sac ox sac. ox-1 strip ox. wet strip boe	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	270,000원
3521	2019-09-30 11시	12시	0-2-1 fab-in clean spm	(주) 센텍코리아	생산기술연구팀	임채현	127,500원
3522	2019-09-30 12시	13시	0-1-3 0 fab-in spm clean 6ea (7.0 v0 aci 세정 평가)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	210,000원
3523	2019-09-30 14시	16시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc 전세정 sc2 clean 4-1-2 pc 전세정 dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	0원
3524	2019-09-30 16시	17시	11.0 dhf 13분 (gc module setup_dhf)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	70,000원
3525	2019-09-30 16시	17시	11-2-6 gc fab-in dhf clean 5m 47sec	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	75,000원
3526	2019-10-01 10시	12시	Wafer cleaning spm cleaning	(주)라디안큐바이오	바이오 R&D센터 정인혜 전문연구원	최정명	0원
3527	2019-10-01 16시	17시	34 pr strip spm+apm 24ea 9월30일 38 pr strip spm+apm 24ea	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3528	2019-10-01 9시	10시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3529	2019-10-02 13시	14시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3530	2019-10-02 15시	16시	Wafer Cleaning 후 Spin Dry (4inch, 6inch) spm cleaning 2 회 진행	(주)예스파워테크닉스	연구소	박현	510,000원
3531	2019-10-02 15시	16시	41 pr strip spm+apm 24ea	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3532	2019-10-04 13시	14시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3533	2019-10-04 13시	14시	0-1-3 0 fab-in spm clean (11.0 gc module setup_DHF 2차)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3534	2019-10-04 13시	14시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3535	2019-10-04 14시	16시	2-3-2 sac ox -1 strip sc2 cleaning spm cleaning dhf cleanig	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	495,000원
3536	2019-10-07 13시	14시	1 mark etch pr strip spm + apm 2 wet etch boe 140m + apm	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3537	2019-10-07 13시	14시	3-2-1 contact etch ox wet etch boe	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	255,000원
3538	2019-10-07 13시	14시	11-2-2 gc metal dpeo. 전세정 dhf	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	75,000원
3539	2019-10-08 10시	11시	3-3-1 contact metal depo. dhf clean	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	85,000원
3540	2019-10-08 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
3541	2019-10-08 15시	16시	45 pr strip spm+apm 24ea 10/7 45 pr strip spm+apm 24ea 10/8	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3542	2019-10-08 16시	17시	dhf 5min	주식회사 아르케	SIC 생산본부	노병훈	100,000원
3543	2019-10-08 16시	17시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3544	2019-10-10 10시	11시	SPM Celaning 2회 사용 10/10, 10/11 KOH Cleaning	(주)라디안큐바이오	바이오 R&D센터 정인혜 전문연구원	최정명	0원
3545	2019-10-10 11시	12시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3546	2019-10-11 10시	11시	SPM + QDR + Spin Dry	(주)예스파워테크닉스	연구소	박현	127,500원
3547	2019-10-11 11시	13시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3548	2019-10-11 9시	10시	11-2-2 gc metal depo. 전세정 dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	70,000원
3549	2019-10-11 9시	10시	11-2-6 gc fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3550	2019-10-14 10시	11시	11-2-6 gc fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	75,000원
3551	2019-10-14 10시	12시	4-4-1 pad metal pre cleaning	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	85,000원
3552	2019-10-14 11시	12시	Bio FET Oxide Etching	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	68,000원
3553	2019-10-14 14시	15시	SPM + QDR + Spin Dry	(주)예스파워테크닉스	연구소	박현	127,500원
3554	2019-10-14 16시	17시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3555	2019-10-15 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3556	2019-10-15 15시	16시	2-3-1 rx pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3557	2019-10-15 17시	18시	3 pr strip h2so4 spm + apm 24ea	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3558	2019-10-16 11시	12시	1-2-2 SPM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	240,000원
3559	2019-10-16 14시	15시	1-3-2 SPM PR strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3560	2019-10-16 15시	17시	2-4-1~2 SC2, DHF	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	300,000원
3561	2019-10-17 13시	14시	2-3-3 rx pr remove SPM	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3562	2019-10-17 14시	15시	0-1-3 SPM Clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3563	2019-10-18 15시	16시	11-2-2 gc metal depo. 전세정 boe clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	70,000원
3564	2019-10-18 15시	16시	6 pr strip h2so4 spm + apm 24ea 10 pr strip h2so4 spm + apm 24ea	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3565	2019-10-21 13시	14시	6 wet etch boe+apm	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3566	2019-10-21 14시	15시	koh 12min/나노인프라 일괄 공정 사업	(주)라디안큐바이오	바이오 R&D센터 정인혜 전문연구원	최정명	0원
3567	2019-10-21 16시	17시	17 pr strip h2so4 apm+apm 24ea	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3568	2019-10-21 17시	18시	2-3-2 F_POE oxide etch oxide wet etch boe 80sec 10/22 추가 20sec	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	480,000원
3569	2019-10-22 13시	14시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	210,000원
3570	2019-10-22 14시	15시	20 pr strip h2so4 spm +apm 24ea	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3571	2019-10-23 15시	16시	11-2-6 gc fab-in dhf clean 600A, 1300A	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	150,000원
3572	2019-10-23 15시	16시	24 pr strip h2so4 spm +apm 24ea	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3573	2019-10-24 11시	12시	Oxide Etching	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	68,000원
3574	2019-10-24 13시	14시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3575	2019-10-24 15시	16시	27 pr strip h2so4 spm +apm 24ea	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3576	2019-10-24 17시	18시	11-2-6 gc fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	75,000원
3577	2019-10-28 10시	11시	0-2-1 fab-in clean spm	(주) 센텍코리아	생산기술연구팀	임채현	75,000원
3578	2019-10-28 11시	12시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3579	2019-10-28 14시	15시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3580	2019-10-28 14시	15시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	385,000원
3581	2019-10-28 15시	16시	31 pr strip h2so4 spm +apm	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3582	2019-10-29 11시	13시	0-1-2 0 fab-in spm clean 0-1-3 0 fab-in sc2 clean 0-1-4 0 fab-in dhf clean 0-1-5 0 fab-in spm clean 0-1-6 0 fab-in sc2 clean 0-1-7 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	770,000원
3583	2019-10-29 11시	12시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3584	2019-10-29 11시	12시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3585	2019-10-29 14시	15시	34 pr strip h2so4 SPM+AMP	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3586	2019-10-29 15시	16시	3-2-1 pg fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	70,000원
3587	2019-10-29 9시	10시	NPTM 표준 공정 확장을 위한 요소공정 개발(4.0018208.01) - Wafer SPM 세정	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	455,000원
3588	2019-10-30 10시	11시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	337,500원
3589	2019-10-30 16시	17시	38 pr strip h2so4 spm+apm	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3590	2019-10-31 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	0원
3591	2019-10-31 11시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
3592	2019-10-31 13시	15시	0-2-1 0 fab-in pre cleaning sc-1 0-2-2 0 fab-in pre cleaning dhf 0-2-3 0 fab-in pre cleaning tmah	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	482,500원
3593	2019-10-31 13시	14시	3 pr strip h2so4 spm+apm	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3594	2019-10-31 15시	16시	41 pr strip h2so4 spm+apm	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3595	2019-10-31 9시	10시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3596	2019-11-01 13시	14시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	385,000원
3597	2019-11-01 14시	15시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	0원
3598	2019-11-01 16시	17시	45 pr strip h2so4 spm+apm	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3599	2019-11-01 9시	10시	2-4-2 rx 전세정 dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	75,000원
3600	2019-11-01 9시	10시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3601	2019-11-04 10시	11시	6 pr strip h2so4 spm+apm	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3602	2019-11-04 11시	12시	열전소자 시험분석_Fab-in : Cleaning	주식회사 싸이츠	기업부설연구소	백창기	250,000원
3603	2019-11-04 13시	14시	열전소자 시험분석_HM Oxide : Cleaning	주식회사 싸이츠	기업부설연구소	백창기	250,000원
3604	2019-11-04 14시	16시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	0원
3605	2019-11-04 15시	16시	48 pr strip h2so4 spm+apm	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3606	2019-11-04 9시	10시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	385,000원
3607	2019-11-04 9시	10시	SiC_Gas sensor 1-3-2 SPM	경남대학교	전자공학과	김성진	150,000원
3608	2019-11-05 10시	11시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3609	2019-11-05 14시	15시	Boe 10:1 20min	파워마스터반도체 주식회사	제품개발팀	김홍기	270,000원
3610	2019-11-05 15시	16시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3611	2019-11-05 15시	16시	spm 10min	파워마스터반도체 주식회사	제품개발팀	김홍기	135,000원
3612	2019-11-05 15시	17시	SIC_gas senosr 6-1-1	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	85,000원
3613	2019-11-05 15시	16시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	135,000원
3614	2019-11-05 16시	17시	52 pr strip h2so4 spm+apm	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3615	2019-11-06 10시	11시	Bio FET Oxide Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	68,000원
3616	2019-11-06 14시	15시	10 pr strip h2so4 spm+apm	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3617	2019-11-06 15시	16시	55 pr strip h2so4 spm+apm	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3618	2019-11-07 10시	11시	0-2-1 akey initial oxide pre cleaning apm 0-2-2- akey initial oxide pre cleaning dhf	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	212,500원
3619	2019-11-07 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	440,000원
3620	2019-11-07 15시	16시	13 PR Strip H2SO4 SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3621	2019-11-08 10시	11시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	385,000원
3622	2019-11-08 15시	16시	17 PR Strip H2SO4 SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3623	2019-11-08 17시	18시	열전소자 시험분석_Pillar Etch : PR remove / Cleaning	주식회사 싸이츠	기업부설연구소	백창기	250,000원
3624	2019-11-08 9시	12시	안녕하세요. 주)DNF 이삼동입니다. Wet etch 의뢰 드립니다. 상세 의뢰 정보는 메일로 송부 드리겠습니다. Wet etch condition : HF 200 : 1 박막 종류 : SiN/Si sub. Sample 수량 : 30mm*30mm size 5EA 분석 데이터는 하기 메일로 송부 부탁드립니다. sdlee2@dnfsolution.com gslee@dnfsolution.com 당사에서는 공정 진행료 처리를 위해 견적서가 필요합니다. 해당 공정 내용 및 두께 측정료 내역을 상기 메일로 견적서 발급을 부탁드립니다. 문의사항은 010-5828-8051 으로 연락주세요. 감사합니다	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	740,000원
3625	2019-11-11 10시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3626	2019-11-11 13시	14시	열전소자 시험분석_VNP Passivation : Cleaning	주식회사 싸이츠	기업부설연구소	백창기	250,000원
3627	2019-11-11 14시	15시	0-2-1 0 initial oxide pre cleaning sc1 0-2-2 0 initial oxide pre cleaning dhf	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	212,500원
3628	2019-11-11 14시	15시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	127,500원
3629	2019-11-11 15시	16시	20 pr strip h2so4 spm+apm	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3630	2019-11-12 10시	11시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3631	2019-11-12 11시	12시	2-3-2 ring pr remove spm pr strip	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	127,500원
3632	2019-11-12 13시	14시	0-1-2 hard mask depo. pre clean spm	(주)니나노	기업부설연구소	박준영	150,000원
3633	2019-11-12 14시	15시	2-4-1 ring oxide remove ox wet strip boe 3-1-1 active field oxidation pre-cleaning apm 3-1-2 active field oxidation pre-cleaning dhf	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	467,500원
3634	2019-11-12 16시	17시	24 pr strip H2SO4 SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3635	2019-11-13 10시	11시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3636	2019-11-13 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3637	2019-11-13 13시	15시	NPTM 표준 공정 공정 개선용 샘플 제작 : Cleaning	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	765,000원
3638	2019-11-14 14시	15시	62 PR Strip SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3639	2019-11-14 15시	16시	27 PR Strip SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3640	2019-11-14 16시	17시	3-5-1 active etching oxide etching boe	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	255,000원
3641	2019-11-14 17시	18시	열전소자 시험분석_P Implant : Cleaning	주식회사 싸이츠	기업부설연구소	백창기	250,000원
3642	2019-11-14 8시	9시	pre-cleaning spm+dhf	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	160,000원
3643	2019-11-14 9시	14시	안녕하세요. 주)DNF 이삼동입니다. Wet etch 의뢰 드립니다. 상세 의뢰 정보는 메일로 송부 드리겠습니다. Wet etch condition : HF 200 : 1 박막 종류 : SiN/Si sub. Sample 수량 : 30mm*30mm size 5EA 분석 데이터는 하기 메일로 송부 부탁드립니다. sdlee2@dnfsolution.com gslee@dnfsolution.com 당사에서는 공정 진행료 처리를 위해 견적서가 필요합니다. 해당 공정 내용 및 두께 측정료 내역을 상기 메일로 견적서 발급을 부탁드립니다. 문의사항은 010-5828-8051 으로 연락주세요. 감사합니다	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	740,000원
3644	2019-11-15 10시	11시	spm, hqdr clean	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
3645	2019-11-15 10시	11시	1-3-1 akey pr remove	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	127,500원
3646	2019-11-15 10시	11시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3647	2019-11-15 17시	19시	열전소자 시험분석_N Implant : Cleaning	주식회사 싸이츠	기업부설연구소	백창기	430,000원
3648	2019-11-15 9시	10시	3-6-2 active pr remove spm pr strip	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	127,500원
3649	2019-11-18 10시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3650	2019-11-18 10시	11시	1-4-1 akey oxide remove pe-ox wet strip dhf	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	85,000원
3651	2019-11-18 11시	12시	3-10-1 active oxide remove oxide etching boe 4-1-1 gate oxide pre-cleaning apm, dhf	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	480,000원
3652	2019-11-18 15시	18시	차세대 실리콘 파워반도체 소자 기술사업화 계약	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	2,400,000원
3653	2019-11-18 16시	17시	열전소자 시험분석_Protective Oxide Etchback : Cleaning	주식회사 싸이츠	기업부설연구소	백창기	0원
3654	2019-11-18 9시	11시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3655	2019-11-19 10시	11시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3656	2019-11-19 10시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3657	2019-11-19 14시	15시	1-3-2 hard masdk pr remove nano pr strip spm 1-5-1 si hard mask oxide etch boe	(주)니나노	기업부설연구소	박준영	450,000원
3658	2019-11-19 14시	19시	차세대 실리콘 파워반도체 소자 기술사업화 계약	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	5,000,000원
3659	2019-11-19 15시	16시	열전소자 시험분석_Silicide Anneal : SC1 + SPM	주식회사 싸이츠	기업부설연구소	백창기	0원
3660	2019-11-19 9시	10시	열전소자 시험분석_Silicide Deposition: Cleaning	주식회사 싸이츠	기업부설연구소	백창기	0원
3661	2019-11-20 14시	15시	.	(주)아이엠헬스케어	바이오센서팀	유재우	80,000원
3662	2019-11-20 15시	16시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
3663	2019-11-20 15시	16시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3664	2019-11-20 17시	18시	4-6-2 gate pr remove spm pr strip spm 4-6-3 gate pr remove polymer strip dhf	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	212,500원
3665	2019-11-21 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	210,000원
3666	2019-11-21 13시	14시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3667	2019-11-21 16시	17시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3668	2019-11-22 15시	16시	1-2-3 f_via gan etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
3669	2019-11-22 16시	18시	2-3-1 bevel pr remove spm	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	127,500원
3670	2019-11-22 9시	10시	67 pr strip H2SO4 SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3671	2019-11-25 13시	14시	0-2-1 0 initial oxide pre cleaning sc1 0-2-2 0 initial oxide pre cleaning dhf	포항공과대학교	신소재공학과	임석재	323,000원
3672	2019-11-25 16시	17시	31 PR Strip H2SO4 SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3673	2019-11-26 11시	12시	3 PR Strip H2SO4 SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3674	2019-11-26 14시	15시	2-3-3 f_poe oxide etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
3675	2019-11-26 14시	15시	2-3-1 f_poe oxide etch wet etch boe	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	240,000원
3676	2019-11-26 15시	16시	3-1-1 contact ild depo. pre-cleaning apm 3-1-2 contact ild depo. pre-cleaning dhf 3-1-3 contact ild depo. pre-cleaning sc2	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	467,500원
3677	2019-11-26 9시	10시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3678	2019-11-27 10시	11시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	0원
3679	2019-11-27 10시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3680	2019-11-27 10시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	275,000원
3681	2019-11-27 17시	18시	3-2-1 contact etch ox wet etch boe	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	255,000원
3682	2019-11-29 10시	11시	나노 인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작 지원사업	(주)아이제스트	연구개발팀	김성지	0원
3683	2019-11-29 13시	14시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3684	2019-11-29 13시	14시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	75,000원
3685	2019-12-02 10시	11시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3686	2019-12-02 10시	11시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3687	2019-12-02 11시	12시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	275,000원
3688	2019-12-02 14시	15시	34 PR Strip SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3689	2019-12-04 10시	11시	3-3-1 contact metal depo. dhf	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	85,000원
3690	2019-12-04 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	300,000원
3691	2019-12-04 13시	14시	0-1-2 0 fab-in spm clean	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
3692	2019-12-04 14시	15시	dHF cleaning (native oxide 제거)	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	64,000원
3693	2019-12-05 10시	11시	5-3-2 n+ pr remove spm pr strip spm	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	127,500원
3694	2019-12-05 10시	11시	2-3-1 imp oxide remove wet dhf 2-3-2 imp oixde remove wet dhf	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	90,000원
3695	2019-12-05 11시	12시	3 PR Strip SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3696	2019-12-05 9시	10시	0-2-1 fi fab-in clean spm	고려대학교	전기전자공학과	한규현	150,000원
3697	2019-12-06 10시	11시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3698	2019-12-06 10시	11시	6-1-1 cont ild depo. pre-cleaning apm	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	127,500원
3699	2019-12-06 16시	17시	1-2-3 GaN Etch PR remove	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
3700	2019-12-06 17시	18시	2-3-2 RX PR Remove SPM PR Strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3701	2019-12-09 10시	11시	4-4-1 pad metal pre cleaning	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	85,000원
3702	2019-12-09 10시	11시	6 SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3703	2019-12-09 9시	10시	4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	187,500원
3704	2019-12-10 11시	12시	나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작 지원사업	(주)아이제스트	연구개발팀	김성지	0원
3705	2019-12-10 14시	15시	0-1-1 fi clean spm	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	127,500원
3706	2019-12-10 16시	17시	2-3-1 oxide etch oxide wet etch boe	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	240,000원
3707	2019-12-10 19시	20시	38 APM+SPM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3708	2019-12-11 10시	11시	10 SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3709	2019-12-11 10시	11시	APM 1min DHF 1min	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	359,500원
3710	2019-12-11 16시	18시	41 SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3711	2019-12-11 16시	17시	2-3-1 f_poe oxide etch oxide wet etch boe 2-3-3 f_poe oxide etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	360,000원
3712	2019-12-12 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3713	2019-12-12 11시	13시	13 SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3714	2019-12-12 17시	18시	11-2-2 gc metal depo. 전세정 boe clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	70,000원
3715	2019-12-12 18시	19시	45 SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3716	2019-12-13 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3717	2019-12-13 14시	15시	1-4-1 upper side cr etch apm	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	127,500원
3718	2019-12-13 14시	15시	48 SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3719	2019-12-13 15시	17시	장비 사용법 교육 부탁드립니다.	포항공과대학교	전자과	김윤식	200,000원
3720	2019-12-13 17시	18시	16 SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3721	2019-12-13 9시	10시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3722	2019-12-16 13시	14시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3723	2019-12-16 15시	17시	20 SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3724	2019-12-16 17시	18시	52 SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3725	2019-12-17 10시	11시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3726	2019-12-17 10시	11시	0-1-2 0 fab-in spm clean	(주)라디안큐바이오	바이오 R&D센터 정인혜 전문연구원	최정명	0원
3727	2019-12-17 10시	11시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3728	2019-12-17 15시	16시	55 PR Strip SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3729	2019-12-17 16시	17시	11-2-2 gc metal depo. 전세정 boe clean dhf	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	70,000원
3730	2019-12-18 10시	11시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3731	2019-12-18 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3732	2019-12-18 11시	14시	차세대 실리콘 파워반도체 소자 기술사업화 계약	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	2,400,000원
3733	2019-12-18 13시	14시	1-2-3 f_via gan etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
3734	2019-12-18 15시	16시	27 SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3735	2019-12-18 9시	10시	6-3-2 cont pr remove spm pr strip	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	127,500원
3736	2019-12-18 9시	10시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3737	2019-12-19 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3738	2019-12-19 10시	11시	2-3-1 f_poe oxide etch oxide wet etch boe	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	240,000원
3739	2019-12-19 14시	15시	1-4-2 sin pr remove spm remove 2-1-1 sige clean spn sc1+dhf	고려대학교	전기전자공학과	한규현	400,000원
3740	2019-12-19 14시	19시	차세대 실리콘 파워반도체 소자 기술사업화 계약	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	5,000,000원
3741	2019-12-20 10시	11시	6-5-1 cont met1 sputter dhf cleaning dhf	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	85,000원
3742	2019-12-20 10시	11시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3743	2019-12-20 15시	16시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3744	2019-12-20 17시	18시	11-2-6 gc fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	75,000원
3745	2019-12-23 14시	15시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3746	2019-12-23 16시	17시	11-2-2 gc metal depo. 전세정 boe clean dhf	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	70,000원
3747	2019-12-24 10시	11시	oxide 500a wet etch / dhf sc1	알앤에스랩	센서팀	알앤에스랩	250,000원
3748	2019-12-24 16시	17시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3749	2019-12-27 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	210,000원
3750	2019-12-27 14시	15시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3751	2020-01-02 11시	12시	[나노 인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작 지원사업] 전자과 최원영 (010-5436-2518) 입니다.	(주)아이제스트	연구개발팀	김성지	0원
3752	2020-01-02 14시	15시	2-3-3 f_poe oxide etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
3753	2020-01-02 14시	15시	8 inch si wafer(prime) clean	포항공과대학교	신소재공학과	김은종	160,000원
3754	2020-01-02 14시	15시	1-3-1 nitride etch si wet etch koh	(주)라디안큐바이오	바이오 R&D센터 정인혜 전문연구원	최정명	0원
3755	2020-01-02 15시	16시	11-2-2 gc metal depo. 전세정 boe clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	70,000원
3756	2020-01-03 10시	11시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3757	2020-01-03 10시	11시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3758	2020-01-03 10시	11시	나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작 지원사업	(주)아이제스트	연구개발팀	김성지	0원
3759	2020-01-03 10시	11시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3760	2020-01-03 14시	15시	31 PR Strip SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3761	2020-01-03 9시	10시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	0원
3762	2020-01-06 10시	11시	59 PR Strip SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3763	2020-01-06 10시	11시	4-5-4 trench etch pre cleaning and oxide remv. sc1. boe	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	405,000원
3764	2020-01-06 13시	14시	0-1-1 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	210,000원
3765	2020-01-06 13시	14시	0-1-1 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3766	2020-01-06 15시	16시	34 SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3767	2020-01-07 10시	11시	62 PR Strip SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3768	2020-01-07 11시	12시	apcvd psg e/r test	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	270,000원
3769	2020-01-07 13시	14시	11-2-2 gc metal depo. 전세정 boe clean dhf wf1 only	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	70,000원
3770	2020-01-07 17시	18시	Cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	102,000원
3771	2020-01-08 10시	11시	4-4-2 imp oxide and psg etch oxide remv.	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	270,000원
3772	2020-01-08 11시	12시	38 PR Strip SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3773	2020-01-08 9시	10시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3774	2020-01-09 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	210,000원
3775	2020-01-09 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	210,000원
3776	2020-01-09 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	210,000원
3777	2020-01-09 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	210,000원
3778	2020-01-09 11시	12시	67 PR Strip SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3779	2020-01-09 11시	12시	6-2-2 imp oxide and psg etch oxide remv.	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	270,000원
3780	2020-01-09 13시	14시	41 SPM + APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3781	2020-01-09 14시	15시	[나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업] 전자과 최원영입니다. SPM 새로 갈아주시기 바랍니다. 감사합니다.	(주)아이제스트	연구개발팀	김성지	0원
3782	2020-01-09 16시	17시	dHF oxide cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	68,000원
3783	2020-01-10 10시	11시	PE-Oxide Etching	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	68,000원
3784	2020-01-10 10시	12시	LC4-Lot 5번 Wafer pr 지움.	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3785	2020-01-10 16시	17시	TMAH wet etching 소량 비커에 담아서 사용, 상온	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	68,000원
3786	2020-01-13 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3787	2020-01-13 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3788	2020-01-13 10시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
3789	2020-01-13 13시	14시	3 PR Strip H2SO4 SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3790	2020-01-13 14시	15시	LC4-Lot 23매 PR 지움.	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3791	2020-01-13 16시	17시	11-2-2 gc metal dpeo. 전세정 boe clean dhf(wf3 only)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	56,000원
3792	2020-01-14 15시	16시	45 SPM + APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3793	2020-01-14 9시	14시	나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업	글로비	글로비	글로비	0원
3794	2020-01-15 10시	11시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
3795	2020-01-15 11시	15시	나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작 지원사업	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
3796	2020-01-15 16시	17시	48 PR Strip H2SO4	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3797	2020-01-15 9시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3798	2020-01-16 13시	14시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3799	2020-01-16 14시	15시	0-2-1 fab-in clean spm	(주) 센텍코리아	생산기술연구팀	임채현	127,500원
3800	2020-01-16 15시	18시	나노 인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작 지원사업	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	4,747,000원
3801	2020-01-16 9시	12시	나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작 지원사업	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
3802	2020-01-17 11시	14시	차세대 실리콘 파워반도체 소자 기술사업화 계약	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	2,400,000원
3803	2020-01-17 14시	15시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3804	2020-01-17 14시	15시	0-1-3- 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	210,000원
3805	2020-01-17 15시	18시	나노 인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작 지원사업	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	4,746,000원
3806	2020-01-17 15시	16시	SPM, dHF 함께 사용	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	170,000원
3807	2020-01-20 10시	11시	4-6-2 imp p+mask etch cleaning+oxide sc-1 5min, boe 2min, spm 10m	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	525,000원
3808	2020-01-20 11시	12시	1-3-2 akey rp remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3809	2020-01-20 14시	19시	차세대 실리콘 파워반도체 소자 기술사업화 계약	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	5,000,000원
3810	2020-01-20 15시	16시	PE-Oxide Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	68,000원
3811	2020-01-20 16시	17시	52 PR Strip H2SO4 SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3812	2020-01-21 14시	15시	55 PR Strip SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3813	2020-01-21 15시	18시	나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업	글로비	글로비	글로비	0원
3814	2020-01-22 10시	12시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3815	2020-01-22 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3816	2020-01-22 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3817	2020-01-22 10시	11시	나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작 지원사업	(주)아이제스트	연구개발팀	김성지	0원
3818	2020-01-22 10시	11시	Oxide Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	68,000원
3819	2020-01-22 11시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3820	2020-01-22 13시	14시	4-6-2 imp p+ mask etch cleaning+oxide+PSG Remv. apm+boe	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	397,500원
3821	2020-01-22 13시	14시	0-1-2 0 fab-in spm clean	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
3822	2020-01-23 10시	11시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3823	2020-01-23 10시	11시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3824	2020-01-23 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3825	2020-01-23 13시	16시	나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작 지원사업	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
3826	2020-01-28 14시	15시	1-2-3 f_via gan etch pr remove	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
3827	2020-01-28 14시	16시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3828	2020-01-28 16시	18시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3829	2020-01-28 16시	18시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3830	2020-01-28 16시	17시	4-6-2 imp p+ mask etch cleaning+oxide+psg remv. spm+boe(rework)	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	397,500원
3831	2020-01-28 16시	18시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3832	2020-01-29 11시	12시	나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작 지원사업	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
3833	2020-01-29 11시	12시	26min dhf only wf1,2	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	70,000원
3834	2020-01-29 11시	12시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3835	2020-01-29 13시	14시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3836	2020-01-29 15시	16시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3837	2020-01-29 17시	18시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3838	2020-01-29 17시	18시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3839	2020-01-30 14시	15시	SPM 새것으로 갈아주세요 나노인프라 활용 사업	(주)아이제스트	연구개발팀	김성지	0원
3840	2020-01-30 15시	16시	PR, Metal Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	102,000원
3841	2020-01-30 16시	17시	2-3-2 f_poe oxide etch oxide wet etch	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	240,000원
3842	2020-01-30 21시	22시	2-3-4 f_poe oxide etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
3843	2020-01-30 22시	23시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3844	2020-01-30 22시	23시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3845	2020-01-30 22시	23시	5-0-1 act cleaning pre cleaning tmah	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	270,000원
3846	2020-02-01 16시	17시	3 PR Strip H2SO4 SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3847	2020-02-01 16시	17시	3 PR Strip SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3848	2020-02-02 14시	15시	6 PR Strip SPM + APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3849	2020-02-02 14시	15시	6 PR Strip SPM + APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3850	2020-02-03 10시	11시	.	(주)아이제스트	연구개발팀	김성지	0원
3851	2020-02-03 11시	13시	나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원 사업	글로비	글로비	글로비	0원
3852	2020-02-03 14시	15시	10 PR Strip SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3853	2020-02-03 15시	16시	10 PR Strip SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3854	2020-02-03 18시	19시	투입 및 전세정 SPM cleanning	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
3855	2020-02-04 13시	14시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3856	2020-02-04 14시	15시	13 PR Strip SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3857	2020-02-04 15시	16시	13 PR Strip SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3858	2020-02-04 17시	18시	dhf claenning	포항공과대학교	물리분석팀	김성규	139,000원
3859	2020-02-05 12시	13시	0-1-2 0 fab-in spm clean	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
3860	2020-02-05 13시	14시	11-2-2 gc metal depo. 전세정 27min	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	70,000원
3861	2020-02-05 14시	16시	17 PR Strip SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3862	2020-02-05 14시	15시	17 PR Strip spm+apm	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3863	2020-02-05 16시	17시	3. oxide etch 5000a boe 10:1 200sec	알앤에스랩	센서팀	알앤에스랩	300,000원
3864	2020-02-05 17시	18시	나노인프라 활용사업	(주)아이제스트	연구개발팀	김성지	0원
3865	2020-02-05 9시	10시	나노인프라 활용 나노기술 응용제품 제작 지원사업	이코루미	연구소	김석근	0원
3866	2020-02-06 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	305,000원
3867	2020-02-06 11시	13시	나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원 사업	글로비	글로비	글로비	0원
3868	2020-02-06 15시	16시	20 PR Strip SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3869	2020-02-06 19시	22시	BOE + SPM 진행 합니다 15매 ------------ boe YPT 케미칼 사용	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	204,000원
3870	2020-02-06 9시	10시	나노인프라 활용 사업	(주)아이제스트	연구개발팀	김성지	0원
3871	2020-02-07 14시	15시	5-2-2 act carbon strip spm pr strip	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	135,000원
3872	2020-02-07 15시	16시	6-0-1 gate sac. oxid pre cleaning spm ---------------- boe / tmah	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	540,000원
3873	2020-02-07 15시	16시	LC5 Lot PR Strip	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3874	2020-02-08 7시	8시	1-2-3 f_via gan etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
3875	2020-02-09 14시	15시	20 PR Strip SPM + APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3876	2020-02-09 15시	16시	27 PR Strip SPM + APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3877	2020-02-10 10시	13시	나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원 사업	글로비	글로비	글로비	0원
3878	2020-02-10 14시	15시	24 PR Strip SPM + APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3879	2020-02-10 16시	17시	31 SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3880	2020-02-10 9시	10시	[나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작 지원사업] 20.02.05 박일몽 연구원 메일로 공정 요청서 첨부 사항	(주)라디안큐바이오	바이오 R&D센터 정인혜 전문연구원	최정명	0원
3881	2020-02-11 10시	11시	2-3-2 f_poe oxide etch oxide wet etch boe	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	240,000원
3882	2020-02-11 14시	15시	Oxide Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	68,000원
3883	2020-02-11 21시	22시	6-0-5 gate sac.oxide ox wet strip boe	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	270,000원
3884	2020-02-12 11시	12시	2-3-4 f_poe oxide etch pr remove	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
3885	2020-02-12 11시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3886	2020-02-12 9시	11시	[나노 인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작 지원사업] 20.02.06 공정 요청서 박일몽연구원 메일, 유선 논의 사항	(주)라디안큐바이오	바이오 R&D센터 정인혜 전문연구원	최정명	0원
3887	2020-02-13 10시	11시	[나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업] 으로 신청합니다. 전자과 최원영 (010.5436.2518) 입니다. SPM 새로 갈아주시길 바랍니다.	(주)아이제스트	연구개발팀	김성지	0원
3888	2020-02-13 11시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3889	2020-02-13 14시	16시	2월 10일에 Quartz wafer 의 1.2um dry 식각을 위한 Positive patterning 진행을 요청드렸으며, 2월 11일에 Quartz wafer의 Dry etching을 요청드렸으며, 2월 12일에 Quartz wafer의 BOE처리 요청드렸습니다. 공정이 끝난 Quartz wafer의 Piranha cleaning(SPM)을 요청드립니다. [나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작 지원사업]으로 금액 처리 진행 부탁드립니다.	(주)제이티에스인더스트리	연구개발부	류세훈	0원
3890	2020-02-14 13시	15시	Silicon Deep Etching, PR Remove	리노공업	리노공업	곽영대	150,000원
3891	2020-02-14 15시	21시	Silicon Wet Etching : 4매 Process & Time Split - HM Only - Wet Etch Time Split	리노공업	리노공업	곽영대	300,000원
3892	2020-02-14 16시	18시	34 PR Strip	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3893	2020-02-14 17시	18시	0-2-1 0 fab-in pre cleaning spm 0-2-1 0 fab-in pre cleaning sc1	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	240,000원
3894	2020-02-15 13시	14시	0-1-2 0 fab-in spm clean	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
3895	2020-02-16 12시	13시	2-3-1 pad1 oxide etch oxide wet etch 17min	포항공과대학교	화학과	신승구	90,000원
3896	2020-02-16 13시	14시	2-1-1 sige clean dhf	고려대학교	전기전자공학과	한규현	100,000원
3897	2020-02-17 11시	14시	차세대 실리콘 파워반도체 소자 기술사업화 계약	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	2,400,000원
3898	2020-02-17 14시	16시	38 PR Strip	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3899	2020-02-17 15시	16시	38 PR Strip SPM + APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3900	2020-02-17 15시	16시	11-2-2 gc metal depo. 전세정 boe clean dhf	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	70,000원
3901	2020-02-18 10시	11시	나노 인프라 활용 사업 SPM 새로 갈아주세요. --------------------------------------------------- [나노 인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업] 관련하여 참여기업인 ㈜아이제스트에서 사용할 수 있는 장비 이용료가 소진되었으므로 금일 진행건은 [나노 인프라 활용 사업]으로 신청이 불가합니다.	(주)아이제스트	연구개발팀	김성지	102,000원
3902	2020-02-18 14시	15시	27 PR Strip SPM + APM	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3903	2020-02-18 14시	15시	41 PR Strip	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3904	2020-02-18 19시	20시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3905	2020-02-18 19시	20시	1-2-3 f_via gan etch pr remove	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
3906	2020-02-18 20시	21시	1-2-3 active act etch spm pr strip spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
3907	2020-02-19 10시	11시	1-2-3 active act etch spm pr strip	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
3908	2020-02-19 14시	15시	SPM 1회 20분 사용	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	102,000원
3909	2020-02-20 10시	11시	2-3-2 f_poe oxide etch oxide wet etch boe	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	240,000원
3910	2020-02-20 10시	17시	Silicon Wet Etching	리노공업	리노공업	곽영대	300,000원
3911	2020-02-20 10시	11시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3912	2020-02-20 11시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3913	2020-02-20 11시	12시	45 PR Strip	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3914	2020-02-20 14시	19시	차세대 실리콘 파워반도체 소자 기술사업화 계약	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	5,000,000원
3915	2020-02-20 15시	16시	2-3-4 f_poe oxide etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
3916	2020-02-20 17시	18시	6매 진행 입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	102,000원
3917	2020-02-21 11시	13시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3918	2020-02-21 11시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3919	2020-02-21 13시	14시	52 PR Strip	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3920	2020-02-21 16시	17시	SPM, dHF 동시 사용	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	170,000원
3921	2020-02-24 9시	10시	bare Si wafer cleaning (500um 두께 14장, 625um 두께 6장 진행) --------------- spm cleaning	포항공과대학교	기계공학과	이훈택	135,000원
3922	2020-02-25 13시	14시	[나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작 지원사업] 20.02.18 박일몽연구원 메일, 전화 조율 사항 Etching Time : 30min	(주)라디안큐바이오	바이오 R&D센터 정인혜 전문연구원	최정명	0원
3923	2020-02-25 17시	18시	[나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작 지원사업] 20.02.18 박일몽연구원 메일, 전화 조율 사항 전단계까지는 2장 진행, 인산 에칭은 1장만 진행	(주)라디안큐바이오	바이오 R&D센터 정인혜 전문연구원	최정명	0원
3924	2020-02-25 9시	10시	[나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작 지원사업] 20.02.18 박일몽연구원 메일, 전화 조율 사항	(주)라디안큐바이오	바이오 R&D센터 정인혜 전문연구원	최정명	0원
3925	2020-02-26 14시	15시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3926	2020-02-26 15시	17시	31 PR Strip	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3927	2020-02-26 8시	9시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3928	2020-02-26 8시	9시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3929	2020-02-27 10시	11시	0-1-1 0 Fab-in SPM Clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	210,000원
3930	2020-02-27 11시	13시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3931	2020-02-27 11시	12시	1-3-2 AKEY AKEY PR Remove SPM PR Strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3932	2020-02-27 14시	15시	2-3-2 RX RX PR Remove SPM PR STRIP	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3933	2020-02-27 14시	15시	Oxide Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	68,000원
3934	2020-02-27 16시	17시	34 PR Strip	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3935	2020-03-02 15시	16시	38 PR Strip	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3936	2020-03-02 16시	17시	spm cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	108,000원
3937	2020-03-02 7시	8시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3938	2020-03-03 11시	12시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3939	2020-03-03 14시	15시	SPM 새로 갈아주시길 바랍니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	최원영	170,000원
3940	2020-03-03 17시	18시	2-3-4 p+ imp spm pr strip	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
3941	2020-03-03 17시	18시	NH4OH(30%) dipping 1ea	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3942	2020-03-03 17시	18시	polymer remove	포항공과대학교	전자전기공학과	이승호	108,000원
3943	2020-03-04 14시	15시	41 PR Strip	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3944	2020-03-05 14시	15시	45 PR Strip	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3945	2020-03-06 10시	11시	BOE 10:1 oxide 1um remove ------------------------ 조각 진행 당담자 협의 50%	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	150,000원
3946	2020-03-06 14시	15시	48 PR Strip	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3947	2020-03-06 9시	10시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3948	2020-03-09 10시	11시	-	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	108,000원
3949	2020-03-09 11시	15시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3950	2020-03-09 15시	17시	SPM 세정	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3951	2020-03-09 16시	17시	52 SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	PMS	박재호	0원
3952	2020-03-09 18시	20시	SPM 세정	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3953	2020-03-10 10시	11시	BOE 10:1 oxide remove 30min ------------------------ 조각 진행 당담자 협의 50%	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	150,000원
3954	2020-03-10 13시	14시	55 SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	PMS	박재호	0원
3955	2020-03-10 9시	10시	WET CLEANING	리노공업	리노공업	곽영대	150,000원
3956	2020-03-11 10시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3957	2020-03-11 10시	11시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3958	2020-03-11 10시	15시	TMAH WET ETCHING	리노공업	리노공업	곽영대	300,000원
3959	2020-03-11 11시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
3960	2020-03-11 15시	17시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 4-1-1 pc gate tin depo. sc2 clean 4-1-2 pc gate tin depo. dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3961	2020-03-11 17시	18시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3962	2020-03-11 9시	10시	전처리 세정	리노공업	리노공업	곽영대	100,000원
3963	2020-03-12 13시	14시	1-2-3 f_via gan etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
3964	2020-03-13 10시	11시	2-3-2 f_poe oxide wet etch boe	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	240,000원
3965	2020-03-13 11시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3966	2020-03-13 13시	14시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 2-4-1 rx 전세정 sc2 clean 2-4-2 rx 전세정 dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3967	2020-03-13 13시	14시	2-3-4 f_poe oxide etch pr remove	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
3968	2020-03-16 13시	14시	SPM 갈아주세요. dHF 사용합니다.	(주)아이제스트	연구개발팀	김성지	102,000원
3969	2020-03-16 14시	15시	59 PR Strip	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3970	2020-03-17 10시	13시	차세대 실리콘 파워반도체 소자 기술사업화 계약	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	2,400,000원
3971	2020-03-17 14시	15시	62 PR Strip	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3972	2020-03-18 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
3973	2020-03-18 10시	11시	0-1-2 0 fab-in pre cleaning	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	127,500원
3974	2020-03-18 13시	14시	67 SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	PMS	박재호	0원
3975	2020-03-18 14시	15시	13 PR Strip	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3976	2020-03-19 11시	12시	-	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	108,000원
3977	2020-03-19 14시	15시	17 PR Strip	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3978	2020-03-19 9시	10시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3979	2020-03-20 11시	12시	3 SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	PMS	박재호	0원
3980	2020-03-20 13시	14시	SPM	리노공업	리노공업	곽영대	150,000원
3981	2020-03-20 14시	19시	차세대 실리콘 파워반도체 소자 기술사업화 계약	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	5,000,000원
3982	2020-03-20 15시	16시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
3983	2020-03-20 15시	16시	4-2-3 iso-1 gan etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
3984	2020-03-20 16시	17시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
3985	2020-03-22 10시	13시	백공정 클린링	파워마스터반도체 주식회사	PMS	박재호	0원
3986	2020-03-23 12시	13시	BOE etch(pe-oxide, a-si e/r 평가)	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	255,000원
3987	2020-03-23 13시	14시	SPM 새로 갈아주시길 바랍니다.	(주)아이제스트	연구개발팀	김성지	102,000원
3988	2020-03-23 15시	16시	2-3-6 rx pr remove spm pr strip 2-4-1 rx 전세정 sc2 clean 2-4-2 rx 전세정 dhf clean 2-4-3 rx 전세정 nh4oh	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	637,500원
3989	2020-03-23 16시	17시	0-2-1 0 fab-in pre cleaning spm 0-2-2 0 fab-in pre cleaning sc1	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	240,000원
3990	2020-03-24 11시	12시	24 PR Strip	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3991	2020-03-24 14시	15시	SPM 새로 갈아주세요. dHF 사용합니다.	(주)아이제스트	연구개발팀	김성지	170,000원
3992	2020-03-24 15시	16시	1-2-3 active act etch spm pr strip	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
3993	2020-03-24 18시	19시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	127,500원
3994	2020-03-24 9시	10시	dHF cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	68,000원
3995	2020-03-26 10시	11시	31 PR Strip	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
3996	2020-03-26 13시	14시	SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	PMS	박재호	0원
3997	2020-03-26 14시	15시	spm 10min + apm 10min	고려대학교	전기전자공학과	안순성	300,000원
3998	2020-03-26 15시	16시	SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	PMS	박재호	0원
3999	2020-03-26 16시	17시	SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	PMS	박재호	0원
4000	2020-03-26 17시	18시	SPM+APM	파워마스터반도체 주식회사	PMS	박재호	0원
4001	2020-03-26 18시	19시	boe 10:1 140sec	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	255,000원
4002	2020-03-26 9시	12시	SPM, SC2, DHF	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
4003	2020-03-27 14시	15시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
4004	2020-03-27 14시	15시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
4005	2020-03-27 15시	16시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean 총 8매 진행(4매씩 2회 진행)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
4006	2020-03-27 15시	16시	1-2-3 f_via gan etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4007	2020-03-27 15시	16시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	210,000원
4008	2020-03-30 11시	12시	SPM x 4매	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
4009	2020-03-30 13시	14시	SPM x 8매	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
4010	2020-03-30 14시	15시	SPM 새로 갈아주세요	(주)아이제스트	연구개발팀	김성지	102,000원
4011	2020-03-30 16시	17시	SPM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4012	2020-03-30 9시	11시	SPM, SC2, DHF x 4매	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
4013	2020-03-31 14시	15시	4-1-1 silici ni depo. dhf cleaning	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	85,000원
4014	2020-04-01 10시	11시	SPM 세정	아모센스	개발팀	박종원	300,000원
4015	2020-04-01 13시	14시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
4016	2020-04-01 13시	14시	4-2-3 iso-1 gan etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4017	2020-04-01 15시	17시	SPM	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
4018	2020-04-01 9시	12시	SPM, SC2, DHF	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
4019	2020-04-02 13시	14시	1-2-4 SPM cleaning	아모센스	개발팀	박종원	150,000원
4020	2020-04-02 14시	15시	Si 8inch Jig 9매 SPM 및 Spin Dryer 사용 신청합니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
4021	2020-04-02 15시	16시	SPM 새로 갈아주세요.	(주)아이제스트	연구개발팀	김성지	102,000원
4022	2020-04-02 16시	17시	11-2-1 gc metal depo. 전세정 dhf clen	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	280,000원
4023	2020-04-02 9시	10시	Oxide wet etch	아모센스	개발팀	박종원	300,000원
4024	2020-04-03 10시	11시	2-3-1BOE Oxide 8000A etch	아모센스	개발팀	박종원	300,000원
4025	2020-04-03 14시	15시	2-3-3 SPM cleaning	아모센스	개발팀	박종원	150,000원
4026	2020-04-03 14시	15시	59 PR Strip	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
4027	2020-04-03 14시	15시	0-1-1 sin 3000A 인산 제거	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	255,000원
4028	2020-04-06 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
4029	2020-04-06 10시	11시	4-2-3 iso-2 gan etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4030	2020-04-06 11시	12시	3-3-3 DHF 100:1 Cleaning	아모센스	개발팀	박종원	100,000원
4031	2020-04-06 16시	17시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
4032	2020-04-07 15시	16시	62 PR Strip	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	0원
4033	2020-04-07 9시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
4034	2020-04-07 9시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
4035	2020-04-08 10시	11시	0-1-2 0 fab-in spm clean	(주)라디안큐바이오	바이오 R&D센터 정인혜 전문연구원	최정명	150,000원
4036	2020-04-08 10시	11시	SPM 새로 갈아주세요.	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	박지원	102,000원
4037	2020-04-08 10시	11시	1-2-4 akey pr remove spm pr strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	127,500원
4038	2020-04-08 11시	12시	SPM, dHF 동시 사용	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	180,000원
4039	2020-04-08 13시	14시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
4040	2020-04-08 14시	15시	DHF Pre Cleaning	리노공업	리노공업	곽영대	100,000원
4041	2020-04-08 14시	15시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
4042	2020-04-08 15시	16시	SPM 사용 하겠습니다	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
4043	2020-04-08 15시	18시	Si Wet Etching : TMAH	리노공업	리노공업	곽영대	300,000원
4044	2020-04-08 16시	17시	0-2-1 0 fab-in pre cleaning spm 0-2-2 0 fab-in pre cleaning sc1	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	240,000원
4045	2020-04-08 17시	18시	5-3-1 BOE Oxide Etch	아모센스	개발팀	박종원	300,000원
4046	2020-04-08 20시	21시	-	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	108,000원
4047	2020-04-09 12시	15시	SPM, SC2, DHF x 2회	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
4048	2020-04-09 15시	17시	SPM, SC2, DHF	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
4049	2020-04-09 17시	18시	SPM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4050	2020-04-09 9시	11시	[나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작 지원사업] SPM Wafer cleaning	(주)라디안큐바이오	바이오 R&D센터 정인혜 전문연구원	최정명	150,000원
4051	2020-04-13 10시	11시	Si wafer 3장 클리닝 부탁드립니다. 클리닝이 완료된 후에는 pyrofurnace에서 oxidation 공정 진행이 예약되어있습니다. 공정 완료 후 황현주 연구원님께 웨이퍼 전달 부탁드립니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	박성민	212,500원
4052	2020-04-13 14시	15시	나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작 지원사업 20.04.07 공정요청서 박일몽 연구원 조율사항 ---------- H3PO3 bath 사용	(주)라디안큐바이오	바이오 R&D센터 정인혜 전문연구원	최정명	300,000원
4053	2020-04-13 16시	17시	나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작 지원사업 20.04.07 공정요청서 박일몽 연구원 조율사항 -------------- KOH Bath 사용	(주)라디안큐바이오	바이오 R&D센터 정인혜 전문연구원	최정명	300,000원
4054	2020-04-13 16시	17시	SPM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4055	2020-04-14 13시	14시	SPM 새로 갈아주세요.	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	박지원	102,000원
4056	2020-04-14 14시	15시	initial spm + sc1 cleaning	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	240,000원
4057	2020-04-14 20시	21시	11-2-1 gc metal dpeo. 전세정 dhf clean split 4회 진행	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	300,000원
4058	2020-04-16 10시	11시	0-1-2 0 fab-in spm clean	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4059	2020-04-16 17시	18시	SPM, dHF 함께 사용	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	180,000원
4060	2020-04-16 18시	19시	1-2-3 active act etch spm pr strip	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4061	2020-04-16 18시	19시	1-2-3 f_via gan etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4062	2020-04-17 10시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
4063	2020-04-20 10시	11시	2-2-3 n+ pr remove spm pr strip spm	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	127,500원
4064	2020-04-20 14시	15시	14매 진행 입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
4065	2020-04-20 14시	15시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
4066	2020-04-20 14시	19시	차세대 실리콘 파워반도체 소자 기술사업화 계약	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	5,000,000원
4067	2020-04-20 15시	17시	APM	리노공업	리노공업	곽영대	150,000원
4068	2020-04-21 10시	11시	Spm 새로 갈아주세요 dHF도 사용합니다	포항공과대학교	전자전기공학과	최원영	170,000원
4069	2020-04-21 11시	12시	2-3-2 F_POE Oxide Etch 90sec	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	240,000원
4070	2020-04-21 15시	16시	2-2-7 N+I mask remove ox. wet strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	255,000원
4071	2020-04-21 15시	16시	2-3-4 f_poe oxide etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4072	2020-04-21 17시	18시	SPM, SC2, DHF	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
4073	2020-04-23 10시	11시	3-2-3 iso-1 gan etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4074	2020-04-23 10시	11시	DHF Pre Cleaning	리노공업	리노공업	곽영대	100,000원
4075	2020-04-23 11시	18시	Si Wet Etching : TMAH	리노공업	리노공업	곽영대	300,000원
4076	2020-04-23 14시	15시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 2-4-1 rx 전세정 sc2 clean 2-4-2 rx 전세정 dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
4077	2020-04-23 8시	9시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
4078	2020-04-24 10시	11시	Metal Dep 전 세정	리노공업	리노공업	곽영대	150,000원
4079	2020-04-24 15시	16시	6-3-4 gate backside etch wet etch gate oxide boe	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	270,000원
4080	2020-04-24 15시	16시	6-3-6 gate backside etch spm pr strip	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	135,000원
4081	2020-04-27 10시	11시	DHF	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	85,000원
4082	2020-04-27 10시	11시	1-2-4 akey pr remove spm pr strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	127,500원
4083	2020-04-27 13시	14시	SPM, DHF	리노공업	리노공업	곽영대	150,000원
4084	2020-04-27 15시	16시	SPM, DHF, SC2	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
4085	2020-04-27 17시	18시	dHF Oxide Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	72,000원
4086	2020-04-27 18시	19시	SPM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4087	2020-04-28 11시	12시	2-2-1 n+ hard mask etching oxide etching boe	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	255,000원
4088	2020-04-28 15시	16시	Oxide Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	72,000원
4089	2020-04-29 11시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
4090	2020-05-04 17시	18시	2-2-1 N+ pr remove spm pr strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	127,500원
4091	2020-05-06 11시	12시	0-1-2 0 fab-in spm clean	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4092	2020-05-06 13시	14시	Oxide 5000A etch	포항공과대학교	기계공학과	이훈택	270,000원
4093	2020-05-06 16시	17시	SPM Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	108,000원
4094	2020-05-06 17시	18시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
4095	2020-05-07 10시	11시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
4096	2020-05-07 11시	12시	3-2-3 iso-2 gan etch pr remove	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4097	2020-05-07 11시	12시	0-1-2 0 fab-in spm clean	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4098	2020-05-07 16시	18시	안녕하세요. 주)DNF 임행돈입니다. Wet etch 의뢰 드립니다. 상세 의뢰 정보는 메일로 송부 드리겠습니다. Wet etch condition : HF 200 : 1 박막 종류 : SiO2/Si sub. Sample 수량 : 30mm*30mm size 6EA 분석 데이터는 하기 메일로 송부 부탁드립니다. hdlim@dnfsolution.com 당사에서는 공정 진행료 처리를 위해 견적서가 필요합니다. 해당 공정 내용 및 두께 측정료 내역을 상기 메일로 견적서 발급을 부탁드립니다. 문의사항은 010-4714-4759 으로 연락주세요. 감사합니다	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	240,000원
4099	2020-05-07 18시	19시	Native Oxide Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	72,000원
4100	2020-05-08 10시	11시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 2-4-1 rx 전세정 sc2 clean 2-4-2 rx 전세정 dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
4101	2020-05-08 10시	11시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
4102	2020-05-08 11시	12시	1-3-2 f_via oxide wet etch boe	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	240,000원
4103	2020-05-08 14시	15시	rework 1-3-2 f_via oxide wet etch spm-boe	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	360,000원
4104	2020-05-08 14시	15시	1-2-3 f_via gan etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4105	2020-05-08 15시	16시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 2-4-1 rx 전세정 sc2 clean 2-4-2 rx 전세정 dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
4106	2020-05-11 14시	15시	2-3-2 f_poe oxide etch oxide wet etch boe	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	240,000원
4107	2020-05-11 16시	17시	2-3-4 f_boe oxide etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4108	2020-05-12 9시	10시	15매 진행 입니다.	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
4109	2020-05-13 11시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
4110	2020-05-13 14시	15시	HF cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	68,000원
4111	2020-05-13 15시	16시	1-3-2 f_via oxide etch oxide wet etch boe rework	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	240,000원
4112	2020-05-13 16시	17시	4매 진행 입니다	powertechnix	powertechnix	파워테크닉스	0원
4113	2020-05-13 16시	17시	3-2-3 iso-1 gan etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4114	2020-05-13 16시	17시	6-5-6 gate polysi etch spm pr strip	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	135,000원
4115	2020-05-13 17시	18시	spm + dhf	나노융합기술원	프라운호퍼 실용화연구센터	김상조	180,000원
4116	2020-05-14 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
4117	2020-05-14 14시	15시	0-1-2 0 fab-in spm clean	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4118	2020-05-14 9시	10시	2-3-2 f_poe oxide wet etch boe	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	240,000원
4119	2020-05-15 13시	14시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
4120	2020-05-15 17시	18시	SPM, dHF Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	180,000원
4121	2020-05-15 9시	10시	0-1-2 0 fab-in spm clean	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4122	2020-05-18 17시	18시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 2-4-1 rx 전세정 sc2 clean 2-4-2 rx 전세정 dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
4123	2020-05-18 17시	18시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip 2-4-1 rx 전세정 sc2 clean 2-4-2 rx 전세정 dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
4124	2020-05-18 17시	18시	1-3-5 f_via oxide etch pr remove	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4125	2020-05-19 11시	12시	2-3-2 f_poe oxide wet etch boe	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	240,000원
4126	2020-05-19 11시	12시	2-2-7 n+ mask remove ox wet strip boe	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	255,000원
4127	2020-05-19 11시	12시	SPM, BOE	리노공업	리노공업	곽영대	150,000원
4128	2020-05-20 10시	11시	3-2-3 iso-2 gan etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4129	2020-05-21 10시	11시	1-3-2 f_via gan etch oxide wet etch boe	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	240,000원
4130	2020-05-21 10시	11시	2-3-2 f_poe oxide etch oxide wet etch boe	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	240,000원
4131	2020-05-21 16시	17시	2-3-4 f_poe oxide etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4132	2020-05-21 8시	9시	boe bath 사용	나노융합기술원	프라운호퍼 실용화연구센터	김상조	72,000원
4133	2020-05-22 10시	11시	0-1-2 0 fab-in spm clean	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4134	2020-05-22 11시	12시	DHF 같이 사용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	최민근	180,000원
4135	2020-05-22 17시	18시	6-7-4 gate polyplug etch pr strip spm	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	135,000원
4136	2020-05-22 20시	21시	Oxide Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	72,000원
4137	2020-05-22 9시	10시	SPM 새로 갈아주세요.	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	박지원	102,000원
4138	2020-05-25 15시	16시	3-2-3 iso-1 gan etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4139	2020-05-26 14시	15시	2-3-2 f_poe oxide etch oxide wet etch boe	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	240,000원
4140	2020-05-26 15시	16시	Oxide Wet etch	(주)센텍코리아	기술연구소	강진현	255,000원
4141	2020-05-27 10시	11시	0-2-1 0 fab-in pre cleaning spm 0-2-2 0 fab-in pre cleaning sc1	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	240,000원
4142	2020-05-27 11시	12시	3-2-3 iso-2 gan etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4143	2020-05-27 14시	16시	안녕하세요. 주)DNF 박건주 입니다. Wet etch 의뢰 드립니다. 상세 의뢰 정보는 메일로 송부 드리겠습니다. Wet etch condition : HF 200 : 1 박막 종류 : SiO2/Si sub. Sample 수량 : 30mm30mm size 8EA 분석 데이터는 하기 메일로 송부 부탁드립니다. gjpark@dnfsolution.com 당사에서는 공정 진행료 처리를 위해 견적서가 필요합니다. 해당 공정 내용 및 두께 측정료 내역을 상기 메일로 견적서 발급을 부탁드립니다. 문의사항은 010-5580-6952 으로 연락주세요. 감사합니다 ------------------------ dhf 1m - 1m - 1m - 5m 4회진행 thickness measurement 8ea 5pp * 5회 / 12 = 16회 진행	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	700,000원
4144	2020-05-27 17시	18시	7-2-3 field oxide pe-oxide dry etch oxide & sic boe 7-2-4 field oxide front pr strip spm	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	405,000원
4145	2020-05-27 17시	18시	spm bath 사용	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4146	2020-05-27 9시	10시	4-2-1 silici ni depo. dhf cleaning	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	85,000원
4147	2020-05-28 13시	14시	0-2-1 0 initial oxide pre cleaning spm 0-2-2 0 initial oxide pre cleaning dhf	충남대학교	전자공학과	송형섭	250,000원
4148	2020-05-28 16시	17시	1-2-3 active act etch spm pr strip spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4149	2020-05-29 14시	15시	0-2-3 0 fab-in pre cleaning sc1	포항공과대학교	나노융합기술원	노한솔	135,000원
4150	2020-05-29 14시	15시	0-2-3 0 fab-in pre cleaning sc1 1-1-1 sac ox sac. oxidation-1 pre-cleaning boe	포항공과대학교	나노융합기술원	노한솔	405,000원
4151	2020-05-29 14시	15시	0-2-3 0 fab-in pre cleaning sc1/boe	나노융합기술원	프라운호퍼 실용화연구센터	김상조	405,000원
4152	2020-05-29 16시	17시	Oxide Etching	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	72,000원
4153	2020-05-29 8시	12시	4/1~5/6 케미칼 사용비용	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	4,193,000원
4154	2020-06-01 13시	14시	2-2-4 p+ imp spm pr strip	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4155	2020-06-01 14시	15시	SPM, dHF 동시 사용	한국과학기술원	전기및전자공학부 김상현교수님연구실	국송현	108,000원
4156	2020-06-01 17시	18시	dhf bath 사용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	72,000원
4157	2020-06-02 10시	11시	BOE, SPM, DHF	리노공업	리노공업	곽영대	450,000원
4158	2020-06-02 17시	18시	SPM, dHF 동시 사용	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	180,000원
4159	2020-06-03 13시	14시	0-2-1 0 fab-in pre cleaning spm 0-2-2 0 fab-in pre cleaning apm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	240,000원
4160	2020-06-03 17시	18시	2-1-2 sac ox -1 strip ox. wet strip boe	포항공과대학교	나노융합기술원	노한솔	270,000원
4161	2020-06-04 15시	16시	1-2-3 active act etch spm pr strip	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4162	2020-06-04 9시	10시	0-1-2 0 fab-in spm clean	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4163	2020-06-05 11시	12시	8-2-1 spm cleaning(rework)	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	135,000원
4164	2020-06-08 16시	17시	8-2-2 cont pe-oxide etch wet etch oxide boe	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	270,000원
4165	2020-06-09 10시	11시	2-2-6 p+ imp spm pr strip spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4166	2020-06-09 15시	16시	2-3-2 f_poe oxide etch oxide wet etch boe	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	240,000원
4167	2020-06-10 10시	11시	8-4-3 cont backside cont wet etch oxide dhf	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	90,000원
4168	2020-06-10 9시	10시	SPM 새로 갈아주세요.	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	박지원	102,000원
4169	2020-06-11 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
4170	2020-06-11 10시	11시	0-1-2 0 fab-in spm clean	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4171	2020-06-11 11시	12시	initial cleanin spm + dhf	포항공과대학교	IBB	정민규	295,000원
4172	2020-06-11 9시	10시	전세정(SPM+DHF)	포항공과대학교	IBB	정민규	260,000원
4173	2020-06-12 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean -------------- 6ea 진행	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
4174	2020-06-12 10시	11시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
4175	2020-06-12 13시	14시	1-2-3 f_via gan etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4176	2020-06-15 10시	11시	1-3-2 Akey PR Remove SPM PR Strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
4177	2020-06-16 10시	11시	SPM, DHF ------------- spm만 청구 협의됨.	리노공업	리노공업	곽영대	150,000원
4178	2020-06-16 15시	16시	9-2-2 gate cont spm pr remove	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	135,000원
4179	2020-06-16 15시	16시	2-3-2 POE Oxide Etch Boe10:1 90sec	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	240,000원
4180	2020-06-16 16시	17시	2-3-4 POE PR remove SPM HQDR	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4181	2020-06-17 15시	17시	2-3-2 RX PR Remove SPM 2-4-1 RX 전세정 SC2	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	675,000원
4182	2020-06-17 15시	16시	0-1-2 SPM Clean	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4183	2020-06-17 15시	16시	3-2-4 ISO-1 PR Remove	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4184	2020-06-17 15시	17시	2-3-2 RX PR Remove SPM 2-4-1 RX 전세정 SC2	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	337,500원
4185	2020-06-17 16시	17시	Oxide Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	72,000원
4186	2020-06-18 10시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean -------------- 6ea 진행	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
4187	2020-06-18 10시	11시	0-1-2 Fab in SPM Clean	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4188	2020-06-18 11시	12시	2-4-2 rx 전세정 dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	75,000원
4189	2020-06-18 11시	12시	2-4-2 rx 전세정 dhf clean 6ea	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	150,000원
4190	2020-06-18 14시	15시	3-4-3 ISO-2 GaN Etch Pr Remove	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4191	2020-06-18 15시	16시	1-2-3 n_open gan etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4192	2020-06-18 15시	16시	1-2-4 Active Etch SPM PR Strip	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4193	2020-06-18 8시	9시	0-2-1 0 fab-in pre cleaning spm 0-2-2 0 fab-in pre cleaning sc1	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	240,000원
4194	2020-06-19 14시	15시	2-3-2 POE Oxide Etch Wet Etch BOE 10 : 1 90sec	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	240,000원
4195	2020-06-19 15시	16시	2-3-4 POE Oxide Etch PR Remove	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4196	2020-06-19 9시	10시	1-3-2 AKEY PR Remove SPM Strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
4197	2020-06-22 10시	12시	2-3-2 RX PR Remove SPM PR Strip 2-4-1 RX 전세정 SC2 Clean 2-4-2 RX 전세정 DHF Clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
4198	2020-06-22 14시	15시	2-3-2 F_POE Oxide Wet Etch BOE 10:1 130sec	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	240,000원
4199	2020-06-22 20시	21시	dHF cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	68,000원
4200	2020-06-23 11시	12시	3-2-4 ISO-1 GaN Etch PR remove	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4201	2020-06-24 12시	13시	SPM, DHF ------------- spm만 청구 협의됨.	리노공업	리노공업	곽영대	150,000원
4202	2020-06-24 15시	16시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
4203	2020-06-24 15시	16시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
4204	2020-06-24 15시	16시	3-4-3 iso-2 gan etch pr remove	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4205	2020-06-24 16시	17시	SPM claening	한국기계연구원	인쇄전자연구실	우규희	150,000원
4206	2020-06-24 16시	17시	2-2-6 p+ imp spm pr strip	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4207	2020-06-25 10시	11시	SPM cleaning	한국기계연구원	인쇄전자연구실	우규희	250,000원
4208	2020-06-25 10시	12시	2-3-2 RX PR Remove SPM PR Strip 2-4-1 RX 전세정 SC2 Clean 2-4-2 RX 전세정 DHF Clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
4209	2020-06-26 9시	10시	Si etch	한국기계연구원	인쇄전자연구실	우규희	300,000원
4210	2020-06-29 14시	15시	Spm 새로 갈아주세요 Pr cleaning 용입니다	포항공과대학교	전자전기공학과	최원영	102,000원
4211	2020-06-30 10시	11시	Oxide Etching	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	72,000원
4212	2020-07-01 11시	12시	initial cleaning spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4213	2020-07-01 11시	12시	-	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	72,000원
4214	2020-07-01 13시	14시	1-2-3 SPM+DHF	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	455,000원
4215	2020-07-02 13시	14시	2-3-2 SPM cleaning	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	455,000원
4216	2020-07-02 15시	16시	2-3-2 POE Oxide Wet Etch	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	240,000원
4217	2020-07-02 9시	10시	1-2-3 n_open gan etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4218	2020-07-02 9시	10시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
4219	2020-07-03 10시	11시	RIST과제처리 SPM 새로 갈아주세요.	포항공과대학교	전자전기공학부	신성환	102,000원
4220	2020-07-03 10시	11시	2-3-4 poe oxide etch pr remove	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4221	2020-07-03 10시	11시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
4222	2020-07-03 11시	12시	RIST과제처리	포항공과대학교	전자전기공학부	신성환	68,000원
4223	2020-07-03 13시	14시	DHF 100:1 3min / 20min SC1 3min thickness measurement 15ea * 5pp * 2회 / 12 = 12회 진행	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	490,000원
4224	2020-07-03 14시	15시	1-1-2 deposition cleaning spm 1-1-3 deposition cleaning sc1	에스앤에스텍	선행기술팀	박철균	300,000원
4225	2020-07-03 17시	18시	2-3-2 RX PR Remove SPM PR Strip 2-4-1 RX 전세정 SC2 Clean 2-4-2 RX 전세정 DHF Clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
4226	2020-07-06 10시	11시	3-2-3 ISO_1 GaN Etch PR Remove SPM10min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4227	2020-07-06 14시	15시	SPM 새로 갈아주시면 감사하겠습니다	포항공과대학교	전자전기공학과	최원영	102,000원
4228	2020-07-06 15시	16시	0-2-1 Initial Oxide Pre Cleaning SC1 70c 1min 0-2-2 Initial Oxide Pre Cleaning 100:1 DHF 1min	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	425,000원
4229	2020-07-06 16시	17시	3-2-3 Poly-Si etching_SPM	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	455,000원
4230	2020-07-07 10시	11시	0-2-1 0 fab-in pre cleaning spm 0-2-2 0 fab-in pre cleaning sc1	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	240,000원
4231	2020-07-07 10시	11시	0-1-2 0 fab-in spm clean	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4232	2020-07-07 10시	11시	dHF Oxide Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	72,000원
4233	2020-07-07 10시	11시	0-1-2 0 fab-in spm clean	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4234	2020-07-07 17시	18시	1-2-2 AKEY PR Remove SPM 10min	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	255,000원
4235	2020-07-08 10시	11시	3-4-3 ISO2 GaN Etch PR Remove	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4236	2020-07-08 14시	15시	RIST과제처리 새걸로 갈아주시면 감사하겠습니다.	포항공과대학교	전자전기공학부	신성환	102,000원
4237	2020-07-08 15시	16시	RIST과제처리	포항공과대학교	전자전기공학부	신성환	68,000원
4238	2020-07-08 16시	17시	1-2-3 N-Open GaN Etch Pr remove	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4239	2020-07-08 9시	10시	1-2-4 Active SPM PR Strip	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4240	2020-07-09 10시	11시	SPM 새로 갈아주세요.	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	박지원	102,000원
4241	2020-07-09 11시	12시	2-2-6 P+ IMP SPM PR Strip	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4242	2020-07-09 13시	14시	-	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	72,000원
4243	2020-07-09 14시	15시	2-3-2 POE Oxide Etch 90sec	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	240,000원
4244	2020-07-09 14시	15시	2-3-2 F_POE Oxide Etch 130Sec	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	240,000원
4245	2020-07-09 15시	17시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
4246	2020-07-09 15시	17시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
4247	2020-07-09 16시	17시	2-3-4 poe oxide etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4248	2020-07-09 16시	17시	SPM Cleaning	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	135,000원
4249	2020-07-09 16시	17시	2-3-1 bevel pr remove spm (6inch + 조각)	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	255,000원
4250	2020-07-10 10시	11시	SPM 새로 갈아주세요	포항공과대학교	전자전기공학과	최원영	102,000원
4251	2020-07-10 11시	12시	1-2-2 deposition cleaning spm 1-2-3 deposition cleaning sc1	에스앤에스텍	선행기술팀	박철균	300,000원
4252	2020-07-10 17시	18시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
4253	2020-07-10 17시	18시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
4254	2020-07-13 10시	11시	3-2-3 iso-1 gan etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4255	2020-07-13 13시	14시	pr cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	최원영	102,000원
4256	2020-07-13 15시	16시	-	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	108,000원
4257	2020-07-14 10시	11시	SPM 새로 갈아주세요 pr cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	최원영	102,000원
4258	2020-07-14 11시	15시	DHF도 같이 이용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	최민근	180,000원
4259	2020-07-14 15시	16시	SC1 Cleaning	포항공과대학교	나노융합기술원	노한솔	108,000원
4260	2020-07-14 16시	17시	DHF 100:1 3min thickness measurement 4ea * 5pp * 2회 / 12 = 3회 진행	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	160,000원
4261	2020-07-14 7시	8시	2-3-2 RX PR Remove SPM PR Strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
4262	2020-07-14 7시	8시	2-3-2 RX PR Remove SPM PR Strip 2-4-1 RX 전세정 SC2 Clean 2-4-2 RX 전세정 DHF Clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
4263	2020-07-15 10시	11시	RIST과제처리 새걸로 교체 부탁드리겠습니다.	포항공과대학교	전자전기공학부	신성환	102,000원
4264	2020-07-15 17시	18시	-	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	108,000원
4265	2020-07-16 15시	16시	3-4-3 iso-2 gan etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4266	2020-07-17 1시	10시	2-4-1 RX 전세정 SC2 Clean 2-4-2 RX 전세정 DHF Clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	300,000원
4267	2020-07-17 10시	11시	황산 3min thickness measurement 6ea * 5pp * 2회 / 12 = 5회 진행	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	250,000원
4268	2020-07-17 12시	13시	dHF 1:100	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	72,000원
4269	2020-07-17 14시	15시	SPM + DHF Cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	225,000원
4270	2020-07-20 11시	12시	2-3-1 bevel pr remove spm	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	127,500원
4271	2020-07-20 13시	14시	SPM, DHF ------------- spm만 청구 협의됨.	리노공업	리노공업	곽영대	150,000원
4272	2020-07-20 13시	14시	0-1-2 0 initial cleaning pre cleaning spm 0-1-3 0 initial cleaning pre cleaning sc1 NPTM 공정 보완을 통한 개선 유량센서제작 SPM + APM	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	255,000원
4273	2020-07-20 16시	17시	RIST 과제 처리 새걸로 갈아주시면 감사하겠습니다.	포항공과대학교	전자전기공학부	신성환	102,000원
4274	2020-07-21 10시	11시	spm cleaning #5	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	135,000원
4275	2020-07-21 11시	12시	0-1-2 FAB In SPM Clean	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4276	2020-07-21 17시	18시	1-2-3 backside p_si poly si etch pr strip spm	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	127,500원
4277	2020-07-22 11시	12시	1-2-3 n_open gan etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4278	2020-07-22 13시	14시	RIST과제진행 SPM 새걸로 갈아주시면 감사하겠습니다.	포항공과대학교	전자전기공학부	신성환	102,000원
4279	2020-07-22 14시	15시	RIST과제처리	포항공과대학교	전자전기공학부	신성환	68,000원
4280	2020-07-22 19시	23시	DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	최민근	72,000원
4281	2020-07-23 10시	11시	2-3-2 poe oxide etch oxide wet etch	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	240,000원
4282	2020-07-23 11시	12시	2-3-4 poe oxide etch p remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4283	2020-07-23 11시	12시	DHF 100:1 3min thickness measurement 6ea * 5pp * 2회 / 12 = 5회 진행	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	200,000원
4284	2020-07-24 16시	17시	dHF 3min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	72,000원
4285	2020-07-24 9시	10시	RIST과제처리	포항공과대학교	전자전기공학부	신성환	102,000원
4286	2020-07-27 10시	11시	dHF 3 min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	72,000원
4287	2020-07-27 11시	12시	SPM 10 min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	108,000원
4288	2020-07-27 14시	15시	3-2-3 Iso-1 PR Remove SPM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4289	2020-07-28 11시	12시	initial cleaning spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4290	2020-07-28 11시	12시	initial cleaning spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4291	2020-07-28 14시	15시	2-3-1 insulator oxide etch oxide wet etch boe	(주)더바이오	연구소	이원영	300,000원
4292	2020-07-28 9시	11시	0-1-3 Fab in SPM Clean 0-1-4 전세정 SC2 Clean 0-1-5 전세정 DHF Clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
4293	2020-07-29 1시	1시	[나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작 지원사업] wafer 정보 #1 : Bare wafer #5 : Porous Si wafer 공정 SPM	더숨	연구소	허진석	150,000원
4294	2020-07-29 1시	1시	[나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작 지원사업] wafer 정보 #1 : Bare wafer #5 : Porous Si wafer 공정 DHF cleaning a. native oxide 제거를 위해 DHF bath 1분 dipping 합니다.	더숨	연구소	허진석	100,000원
4295	2020-07-29 10시	11시	RIST과제처리	포항공과대학교	전자전기공학부	신성환	68,000원
4296	2020-07-29 11시	12시	RIST과제처리	포항공과대학교	전자전기공학부	신성환	102,000원
4297	2020-07-29 12시	14시	1-3-2 Akey PR Remove SPM+HQDR	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
4298	2020-07-29 20시	23시	dhf	포항공과대학교	창의IT융합공학과	최민근	72,000원
4299	2020-07-30 10시	11시	0-1-3 0 fab in SPM Clean 0-1-4 0 fab in SC2 Clean 0-1-5 0 fab in DHF Clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
4300	2020-07-30 11시	12시	RIST과제처리 SPM 새로 갈아주시면 감사하겠습니다.	포항공과대학교	전자전기공학부	신성환	102,000원
4301	2020-07-30 14시	15시	RIST과제처리	포항공과대학교	전자전기공학부	신성환	68,000원
4302	2020-07-30 15시	17시	2-3-2 F-POE Oxide Etch 2000a 2-3-4 F_POE PR Remove SPM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	360,000원
4303	2020-07-30 15시	16시	3-4-3 ISO-2 PR Remove SPM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4304	2020-07-30 16시	17시	2-3-2 RX PR Remove SPM Hqdr	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
4305	2020-07-30 18시	19시	SPM, dHF 동시 사용	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	180,000원
4306	2020-07-30 7시	8시	1-2-3 f_via gan etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4307	2020-07-31 10시	11시	2-3-2 f_poe oxide etch oxide wet etch boe	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	240,000원
4308	2020-07-31 11시	12시	[나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작 지원사업] wafer 정보 #1 Porous Si wafer 공정 SPM	더숨	연구소	허진석	150,000원
4309	2020-07-31 11시	11시	[나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작 지원사업] wafer 정보 #1 Porous Si wafer 공정 DHF (1min)	더숨	연구소	허진석	100,000원
4310	2020-07-31 11시	12시	RIST과제처리 SPM새로 갈아주세요.	포항공과대학교	전자전기공학부	신성환	102,000원
4311	2020-07-31 13시	14시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip apm	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
4312	2020-07-31 15시	16시	SPM, dHF 동시 사용	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	180,000원
4313	2020-07-31 16시	17시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip spm	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
4314	2020-08-03 16시	17시	BOE Etch test	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	225,000원
4315	2020-08-04 10시	11시	SPM + DHF, H2SO4 희석 cleaning 2회 사용 ------------- SPM만 청구	리노공업	리노공업	곽영대	300,000원
4316	2020-08-05 11시	12시	8" Wafer 전세정(SPM+APM) 2매	에스앤에스텍	신기술팀	박철균	248,000원
4317	2020-08-06 10시	11시	RIST과제처리 SPM새로갈아주시면 감사하겠습니다.	포항공과대학교	전자전기공학부	신성환	102,000원
4318	2020-08-06 11시	12시	RIST과제처리	포항공과대학교	전자전기공학부	신성환	68,000원
4319	2020-08-06 14시	15시	3-2-3 poly si poly etching pr strip spm	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	127,500원
4320	2020-08-06 16시	17시	3-2-3 iso-1 gan etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4321	2020-08-06 16시	17시	1-3-1 oxide etch oxide remv. boe	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	270,000원
4322	2020-08-06 9시	11시	나노인프라장비활용사업 SPM cleaning	(주)지아이에스	지아이에스 부설연구소	이민재	150,000원
4323	2020-08-07 10시	11시	[나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응요제품 제작 지원사업] wafer 정보 수량 : 3매 #1, 2 Bare wafer #3 Porous Si wafer 공정 DHF (1min)	더숨	연구소	허진석	100,000원
4324	2020-08-07 15시	16시	0-2-1 0 fab-in pre cleaning spm 0-2-2 0 fab-in pre cleaning dhf	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	212,500원
4325	2020-08-07 9시	10시	[나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작 지원사업] wafer 정보 수량 : 3매 #1 , 2 Bare wafer #3 Porous Si wafer 공정 SPM	더숨	연구소	허진석	150,000원
4326	2020-08-10 15시	16시	SPM, dHF 함께 사용	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	198,000원
4327	2020-08-10 9시	10시	SPM+APM	에스앤에스텍	신기술팀	박철균	297,000원
4328	2020-08-11 11시	12시	3-4-3 ISO2 PR Remove SPM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4329	2020-08-11 13시	16시	SiC Gate Oxide 평가_Cleaning	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	1,020,000원
4330	2020-08-12 13시	15시	3-1-(1~3) Contact ILD Depo Pre-Cleaning APM,DHF,SC2	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	935,000원
4331	2020-08-12 22시	23시	RIST과제처리	포항공과대학교	전자전기공학부	신성환	102,000원
4332	2020-08-13 10시	11시	0-1-2 Fab in SPM Clean	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4333	2020-08-13 13시	14시	RIST과제처리	포항공과대학교	전자전기공학부	신성환	68,000원
4334	2020-08-13 15시	16시	1-3-1 Akey SPM	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	127,500원
4335	2020-08-13 22시	23시	RIST 과제처리	포항공과대학교	전자전기공학부	신성환	102,000원
4336	2020-08-14 13시	13시	Wet etch 의뢰 요청 드립니다 상세내용은 PPT 첨부하였습니다 -------------------------------------- DHF 200:1 1min / 1min / 1min / 5min thickness measurement 9ea * 5pp * 4회 + 20pp / 12 = 15회 진행	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	400,000원
4337	2020-08-18 14시	15시	0-2-1 0 fab-in pre cleaning spm 0-2-2 0 fab-in pre cleaning sc1	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	240,000원
4338	2020-08-18 15시	16시	Native Oxide Etching	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	72,000원
4339	2020-08-19 10시	11시	0-1-3 0 fab in SPM Clean 0-1-4 0 fab in SC2 Clean 0-1-5 0 fab in DHF Clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
4340	2020-08-19 11시	12시	0-1-3 Fab in SPM Clean 0-1-4 Fab in SC2 Clean 0-1-5 Fab in DHF Clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
4341	2020-08-19 14시	15시	Oxide Etching	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	72,000원
4342	2020-08-19 14시	15시	0-1-2 0 initial cleaning spm 0-1-3 0 initial cleaning sc1 0-1-4 0 initial cleaning dhf	에스앤에스텍	선행기술팀	박철균	396,000원
4343	2020-08-19 15시	16시	Fab in Cleaning SC1	포항공과대학교	나노융합기술원	노한솔	108,000원
4344	2020-08-19 16시	17시	1-1-1 Sac Ox 10:1 BOE 1min	포항공과대학교	나노융합기술원	노한솔	270,000원
4345	2020-08-19 19시	20시	dHF cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	68,000원
4346	2020-08-20 11시	12시	1-2-3 Cleaning	에스앤에스텍	선행기술팀	박철균	50,000원
4347	2020-08-20 11시	12시	1-2-3 F_Via GaN Etch PR remove	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4348	2020-08-20 9시	10시	1-2-1 deposition Initial Cleaning SPM APM	에스앤에스텍	선행기술팀	박철균	150,000원
4349	2020-08-21 11시	12시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
4350	2020-08-21 11시	12시	2-3-2 poe oxide etch	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	240,000원
4351	2020-08-21 11시	12시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
4352	2020-08-24 10시	11시	2-3-4 POE Oxide Etch PR Remove	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4353	2020-08-24 11시	12시	2-3-2 RX PR Remove SPM	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
4354	2020-08-24 11시	12시	2-3-2 RX PR Remove SPM	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
4355	2020-08-24 11시	12시	1-2-4 Active Etch SPM PR Remove	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4356	2020-08-24 16시	17시	dhf bath 사용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	72,000원
4357	2020-08-24 9시	10시	[나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작 지원사업] Wafer 정보 수량 : 2매 #1 : Bare wafer #10 : Porous Si wafer	더숨	연구소	허진석	300,000원
4358	2020-08-25 18시	19시	3-2-3 iso-1 gan etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4359	2020-08-26 15시	16시	RIST과제처리	포항공과대학교	전자전기공학부	신성환	102,000원
4360	2020-08-26 16시	17시	RIST과제처리	포항공과대학교	전자전기공학부	신성환	68,000원
4361	2020-08-26 17시	18시	2-4-4 P+ IMP SPM PR Strip	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4362	2020-08-27 10시	11시	SPM + DHF SPM 청구	리노공업	리노공업	곽영대	150,000원
4363	2020-08-31 15시	16시	0-1-3 Fab In SPM Clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
4364	2020-08-31 15시	16시	0-1-2 Fab In SPM Clean	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4365	2020-09-01 9시	10시	APM 5min + DHF 2min	(주)칩스케이	연구개발팀	임진홍	250,000원
4366	2020-09-01 9시	10시	APM 5min + DHF 2min	나노융합기술원	프라운호퍼 실용화연구센터	김상조	235,000원
4367	2020-09-02 13시	14시	PE-CVD 사용하기 전에 세정하려고 합니다. 해당 장비의 사용이 다소 미숙하기 때문에 옆에서 관리 감독을 해주셨으면 합니다.	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	윤철현	108,000원
4368	2020-09-02 14시	15시	3 Trench -> 1 Trench, 2Planar로 공정 변경 Photo Rework을 위한 SPM	나노융합기술원	프라운호퍼 실용화연구센터	김상조	135,000원
4369	2020-09-02 14시	15시	2-3-1 PAD Oxide 2000A wet etch	포항공과대학교	화학과	신승구	270,000원
4370	2020-09-02 15시	16시	0-1-2 0 Fab In SPM Clean	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4371	2020-09-03 15시	16시	1-3-1 Buffer PR Strip SPM	나노융합기술원	프라운호퍼 실용화연구센터	김상조	135,000원
4372	2020-09-03 9시	10시	3 Trench -> 1 Trench, 2Planar로 공정 변경 Photo Rework을 위한 SPM	(주)칩스케이	연구개발팀	임진홍	150,000원
4373	2020-09-04 14시	15시	1-2-3 n_open gan etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4374	2020-09-07 16시	17시	1-3-1 Buffer PR Strip SPM	(주)칩스케이	연구개발팀	임진홍	150,000원
4375	2020-09-08 14시	15시	2-3-2 f_poe oxide etch wet etch boe	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4376	2020-09-08 14시	15시	3-2-1 contact etch ox wet etch boe	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	510,000원
4377	2020-09-08 14시	15시	2-3-2 poe oxide etch wet etch boe 6ea	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	450,000원
4378	2020-09-08 9시	10시	1-3-1 Buffer PR Strip APM 5min + DHF 2min	(주)칩스케이	연구개발팀	임진홍	250,000원
4379	2020-09-09 15시	16시	1-4-9 IMP Pattern PR Strip	(주)칩스케이	연구개발팀	임진홍	150,000원
4380	2020-09-09 17시	18시	DHF 100:1 1min SC1 1min	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	250,000원
4381	2020-09-09 17시	18시	2-3-4 poe oxide etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4382	2020-09-09 17시	18시	0-2-4 Align Key SPM PR Strip	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4383	2020-09-09 9시	12시	1-3-1 Buffer PR Strip APM 5min + DHF 2min	나노융합기술원	프라운호퍼 실용화연구센터	김상조	235,000원
4384	2020-09-10 9시	12시	2-1-1 Buffer Oxide depo 전 표면 Cleaning SC1 5min + DHF 2min	(주)칩스케이	연구개발팀	임진홍	250,000원
4385	2020-09-11 10시	11시	1-4-9 IMP Pattern PR Strip	나노융합기술원	프라운호퍼 실용화연구센터	김상조	135,000원
4386	2020-09-11 9시	10시	2-1-1 Buffer Oxide depo 전 표면 Cleaning SC1 5min + DHF 2min	나노융합기술원	프라운호퍼 실용화연구센터	김상조	235,000원
4387	2020-09-11 9시	10시	APM cleaning	에스앤에스텍	신기술팀	박철균	418,000원
4388	2020-09-14 10시	11시	Fab In Cleaning	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4389	2020-09-14 11시	12시	4-4-1 Pad Metal Pre Cleaning DHF 100:1	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	170,000원
4390	2020-09-14 11시	12시	DHF 100:1 1min SC1 1min	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	250,000원
4391	2020-09-14 17시	18시	1-2-4 active act etch spm pr strip	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4392	2020-09-15 17시	19시	1-3-2 Akey Spm PR Strip 2-0-1 IMP PRE Cleaning BOE 10:1	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	382,500원
4393	2020-09-16 10시	12시	0-1-3 Fab In SPM 0-1-4 Fab in SC2 0-1-5 Fab In DHF	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	0원
4394	2020-09-16 10시	11시	0-2-1 0 Fab in Pre Cleaning SPM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4395	2020-09-17 13시	13시	SPM + DHF SPM 청구	리노공업	리노공업	곽영대	150,000원
4396	2020-09-18 15시	16시	2-3-2 poe oxide etch oxide wet etch boe	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4397	2020-09-21 16시	18시	SPM+DHF Cleaning	고려대학교	전기전자공학과	안순성	250,000원
4398	2020-09-22 10시	11시	2-2-5 IMP Cleaning SPM	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	127,500원
4399	2020-09-22 13시	15시	0-1-3 0-1-4 0-1-5 Fab in SPM SC2 DHF 6ea	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	0원
4400	2020-09-22 13시	15시	0-1-3 Fab In SPM 0-1-4 Fab In SC2 0-1-5 Fab In DHF	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
4401	2020-09-23 14시	15시	Akey PR Strip SPM	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	0원
4402	2020-09-23 14시	15시	2-3-2 POE Oxide etch	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4403	2020-09-23 14시	15시	Akey PR Strip SPM	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
4404	2020-09-23 16시	17시	3-2-3 ISO-2 GaN Etch PR remove SPM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4405	2020-09-23 21시	22시	-	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	72,000원
4406	2020-09-28 16시	17시	3-4-3 ISO-2 GaN Etch PR remove SPM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4407	2020-09-29 10시	12시	0-1-3 Fab In SPM 0-1-4 Fab In SC2 0-1-5 Fab In DHF	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
4408	2020-10-01 10시	11시	4-1-1 APM 5min + DHF 2min Cleaning	나노융합기술원	프라운호퍼 실용화연구센터	김상조	235,000원
4409	2020-10-01 10시	11시	APM 5min + DHF 2min Cleaning	(주)칩스케이	연구개발팀	임진홍	250,000원
4410	2020-10-01 11시	12시	4-1-2 Field Oxide BOE Etch	(주)칩스케이	연구개발팀	임진홍	300,000원
4411	2020-10-01 11시	12시	4-1-2 Field Oxide BOE Etch	나노융합기술원	프라운호퍼 실용화연구센터	김상조	270,000원
4412	2020-10-01 13시	14시	4-2-1 Activation Clean APM 5min+DHF 2min	(주)칩스케이	연구개발팀	임진홍	250,000원
4413	2020-10-01 15시	16시	4-2-1 Activation Clean APM 5min+DHF 2min	나노융합기술원	프라운호퍼 실용화연구센터	김상조	235,000원
4414	2020-10-05 10시	11시	4-4-3 Activation Anneal PR SPM 120C/10min	(주)칩스케이	연구개발팀	임진홍	150,000원
4415	2020-10-05 15시	16시	2-4-1 IMP N+ Mask remv BOE 8min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	255,000원
4416	2020-10-05 15시	16시	0-2-1 Pre Cleaning SC1 DHF	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	212,500원
4417	2020-10-06 10시	11시	5-1-1 Surface Cleaning APM5min + DHF2min	(주)칩스케이	연구개발팀	임진홍	250,000원
4418	2020-10-06 10시	11시	4-5-2 Sacrificil Oxide Wet etech BOE 200A	나노융합기술원	프라운호퍼 실용화연구센터	김상조	270,000원
4419	2020-10-06 15시	15시	1-3-2 Akey PR Remove SPM	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
4420	2020-10-06 15시	15시	0-1-2 Fab In SPM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4421	2020-10-06 17시	18시	0-2-3 0 fab-in pre cleaning sc1, boe	나노융합기술원	프라운호퍼 실용화연구센터	김상조	270,000원
4422	2020-10-06 17시	18시	SPM+DHF	나노융합기술원	프라운호퍼 실용화연구센터	김상조	225,000원
4423	2020-10-06 9시	10시	4-4-3 Activation Anneal PR SPM 120C/10min	나노융합기술원	프라운호퍼 실용화연구센터	김상조	135,000원
4424	2020-10-06 9시	10시	4-5-2 Sacrificil Oxide Wet etech BOE 200A	(주)칩스케이	연구개발팀	임진홍	300,000원
4425	2020-10-07 13시	15시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean 8ea 진행	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
4426	2020-10-07 16시	17시	1-2-3 f_via gan etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4427	2020-10-07 17시	18시	1-2-2 aeky pr remove spm	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	127,500원
4428	2020-10-07 9시	10시	5-1-1 Surface Cleaning APM5min + DHF2min	나노융합기술원	프라운호퍼 실용화연구센터	김상조	135,000원
4429	2020-10-08 10시	11시	6-2-1 Backside Oxide Wet Etch BOE 1000A	(주)칩스케이	연구개발팀	임진홍	300,000원
4430	2020-10-08 10시	11시	SPM Cleaning	리노공업	리노공업	곽영대	150,000원
4431	2020-10-08 11시	12시	6-2-2 Frontside PR Strip	(주)칩스케이	연구개발팀	임진홍	150,000원
4432	2020-10-08 13시	14시	6-2-1 Backside Oxide Wet Etch BOE 1000A	나노융합기술원	프라운호퍼 실용화연구센터	김상조	270,000원
4433	2020-10-08 13시	14시	APM 5min + DHF 2min Cleaning	(주)칩스케이	연구개발팀	임진홍	250,000원
4434	2020-10-08 14시	15시	6-2-2 Frontside PR Strip SPM 10min	나노융합기술원	프라운호퍼 실용화연구센터	김상조	135,000원
4435	2020-10-08 15시	17시	APM 5min + DHF 2min Cleaning	나노융합기술원	프라운호퍼 실용화연구센터	김상조	235,000원
4436	2020-10-08 18시	19시	2-7-2 imp pwell mask etch wet etch boe	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	255,000원
4437	2020-10-12 10시	11시	2-7-5 imp pewll mask etch cleaning spm	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	127,500원
4438	2020-10-12 14시	15시	0-1-2 hard mask pre clean Bath_SPM 10 min	(주)니나노	기업부설연구소	박준영	297,000원
4439	2020-10-12 15시	16시	2-3-2 F_POE Oxide wet etch 2000A	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4440	2020-10-13 10시	11시	1-3-2 akey pr remove spm	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
4441	2020-10-13 11시	12시	2-3-4 f_poe oxide etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4442	2020-10-13 14시	15시	2-3-1 bevel pr remove spm	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	127,500원
4443	2020-10-13 16시	18시	7-2-3 Contact Oxide 2000A BOE Wet Etch	(주)칩스케이	연구개발팀	임진홍	300,000원
4444	2020-10-13 17시	18시	7-2-3 Contact Oxide 2000A BOE Wet Etch	나노융합기술원	프라운호퍼 실용화연구센터	김상조	270,000원
4445	2020-10-14 10시	11시	3-1-1 Pre Cleaning APM 10 min	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	127,500원
4446	2020-10-14 10시	11시	8-1-1 Schottky Metal Depo Step DHF Cleaning	나노융합기술원	프라운호퍼 실용화연구센터	김상조	90,000원
4447	2020-10-14 10시	11시	0-2-1 Pre Cleaning SPM 10 min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4448	2020-10-14 11시	12시	3-1-2 Pre Cleaning DHF 30 sec	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	85,000원
4449	2020-10-14 11시	12시	3-1-3 Pre Cleaning SC2 10 min	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	255,000원
4450	2020-10-14 9시	10시	8-1-1 Schottky Metal Depo Step DHF Cleaning	(주)칩스케이	연구개발팀	임진홍	100,000원
4451	2020-10-15 11시	12시	Oxide Wet Etch(BOE)	포항공과대학교	화학과	신승구	270,000원
4452	2020-10-15 15시	16시	.	포항공과대학교	창의IT융합공학과	최민근	72,000원
4453	2020-10-15 9시	10시	PR Cleaning	(주)칩스케이	연구개발팀	임진홍	150,000원
4454	2020-10-16 14시	15시	3-2-1 ox wet etch 10:1 BOE 1000sec	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	255,000원
4455	2020-10-16 16시	17시	1-1-1	(주)유우일렉트로닉스	TIS생산사업부	김도현	405,000원
4456	2020-10-16 20시	21시	SPM, dHF 동시 사용	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	198,000원
4457	2020-10-19 10시	11시	2-9-1 PWELL Mask Remv. BOE 30 min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	255,000원
4458	2020-10-19 15시	16시	1-5-1 Hard Mask Oxide Etch SPM 10 min	(주)니나노	기업부설연구소	박준영	150,000원
4459	2020-10-19 15시	16시	1-5-1 Hard Mask Oxide Etch BOE 15 min	(주)니나노	기업부설연구소	박준영	300,000원
4460	2020-10-19 16시	17시	SPM, dHF 동시 사용	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	198,000원
4461	2020-10-19 16시	17시	SiC Trench MOSFET 단위공정평가 PR Strip 목적 SPM Cleaning	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	127,500원
4462	2020-10-20 15시	16시	2-3-2 Oxide Wet Etch BOE 130 sec	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4463	2020-10-20 9시	10시	4-4-1 Pre Cleaning DHF 15 sec	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	85,000원
4464	2020-10-21 13시	14시	0-2-1 Pre Cleaning SPM 10 min SC1 10 min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4465	2020-10-21 13시	14시	0-2-2 Pre Cleaning SC1 10 min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4466	2020-10-22 14시	15시	3-2-3 GaN Etch SPM 10 min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4467	2020-10-22 16시	17시	dHF Oxide Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	72,000원
4468	2020-10-23 14시	15시	2-2-2 SPM PR Strip 10 min	(주)유우일렉트로닉스	TIS생산사업부	김도현	270,000원
4469	2020-10-23 15시	16시	0-2-4 SPM PR Strip 10 min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4470	2020-10-26 16시	17시	SPM PR Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	108,000원
4471	2020-10-26 17시	18시	2-2-3 ACID Clean DHF 5min	(주)유우일렉트로닉스	TIS생산사업부	김도현	180,000원
4472	2020-10-26 17시	18시	2-2-3 Si Wet Etch TMAH 100 min	(주)유우일렉트로닉스	TIS생산사업부	김도현	540,000원
4473	2020-10-27 10시	11시	0-1-3 Pre Cleaning SC1 10 min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4474	2020-10-27 10시	11시	2-2-3 Hard Mask Remove BOE 5 min	(주)유우일렉트로닉스	TIS생산사업부	김도현	540,000원
4475	2020-10-27 10시	11시	0-1-2 Pre Cleaning SPM 10 min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4476	2020-10-27 17시	18시	1-2-4 SPM PR Strip 10 min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4477	2020-10-27 18시	19시	* DHF 이용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	최민근	108,000원
4478	2020-10-28 14시	15시	3-2-4 PR Remove SPM 10 min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4479	2020-10-28 15시	16시	DHF 40 sec	충남대학교	전자공학과	송형섭	100,000원
4480	2020-10-29 10시	11시	0-1-2 SPM Clean 10 min	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
4481	2020-10-29 18시	19시	2-2-6 SPM PR Strip 10 min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4482	2020-10-29 18시	19시	APM Cleaning	calient Technologies ,Inc	MEMS Technology	장호연	300,000원
4483	2020-10-30 11시	12시	SC1 (10min) Cleaning	나노융합기술원	프라운호퍼 실용화연구센터	김상조	135,000원
4484	2020-10-30 11시	12시	SPM(10min) Cleaning	나노융합기술원	프라운호퍼 실용화연구센터	김상조	135,000원
4485	2020-10-30 14시	15시	3-3-3 Cleaning + Oxide Remove SPM 10min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	127,500원
4486	2020-10-30 14시	15시	3-3-3 Cleaning+Oxide Remove BOE 1 min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	255,000원
4487	2020-10-30 14시	15시	3-3-3 Cleaning + Oxide Remove SPM 10 min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	127,500원
4488	2020-10-30 14시	15시	3-3-3 Cleaning + Oxide Remove BOE 20 min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	255,000원
4489	2020-11-02 10시	11시	0-1-2 0 fab-in marking spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4490	2020-11-02 11시	12시	BOE Bath 사용	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	225,000원
4491	2020-11-02 17시	18시	dHF Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	72,000원
4492	2020-11-02 18시	19시	1-2-3 f_via gan etch pr remove	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4493	2020-11-02 9시	11시	SIMS 표준시편 제작 Pre-Cleaning	포항공과대학교	물리분석팀	김성규	470,000원
4494	2020-11-03 14시	15시	2-3-2 f_poe oxide etch oxide wet etch boe	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4495	2020-11-03 14시	15시	2-3-4 PR Remove SPM 10 min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4496	2020-11-04 15시	16시	Oxide Wet Etch 1um BOE	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	255,000원
4497	2020-11-04 15시	16시	PR Strip SPM 10 min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	127,500원
4498	2020-11-05 10시	11시	0-2-1 Pre Cleaning SPM 10 min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4499	2020-11-06 10시	11시	1-2-4 SPM PR Strip 10 min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4500	2020-11-06 11시	12시		포항공과대학교	창의IT융합공학과	최민근	216,000원
4501	2020-11-06 14시	15시	SPM Cleaning	리노공업	리노공업	곽영대	150,000원
4502	2020-11-09 17시	18시	SPM 10 min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	127,500원
4503	2020-11-10 10시	11시	2-2-6 SPM PR Strip 10 min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4504	2020-11-11 16시	17시	DHF 10min sio2 30nm remove	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	85,000원
4505	2020-11-12 10시	11시	0-2-2 Pre Cleaning DHF 1 min	충남대학교	전자공학과	송형섭	100,000원
4506	2020-11-12 14시	15시	0-1-2 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
4507	2020-11-13 14시	15시	3-2-3 PR Remove SPM 10 min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4508	2020-11-16 20시	21시	dhf	포항공과대학교	창의IT융합공학과	최민근	72,000원
4509	2020-11-17 15시	16시	3-2-4 PR Remove SPM 10 min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4510	2020-11-17 17시	18시		포항공과대학교	창의IT융합공학과	최민근	72,000원
4511	2020-11-18 14시	15시	나노인프라활용사업 SC2 Cleaning	(주) 이너센서	이너센서	강문식	270,000원
4512	2020-11-18 14시	15시	나노인프라활용사업 APM(SC1) Cleaning	(주) 이너센서	이너센서	강문식	135,000원
4513	2020-11-18 15시	16시	dHF Oxide Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	72,000원
4514	2020-11-24 11시	12시	SPM Cleaning 10 min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	127,500원
4515	2020-11-25 10시	11시	[나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업] 전자과 최원영 Pr 제거 및 pre cleaning 목적입니다 Spm 새로 갈아주세요 dHF도 사용합니다	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	200,000원
4516	2020-11-25 9시	10시	dHF	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	80,000원
4517	2020-11-26 21시	22시		포항공과대학교	창의IT융합공학과	최민근	108,000원
4518	2020-11-30 11시	12시	SPM Cleaning 10 min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	127,500원
4519	2020-11-30 11시	12시	DHF Cleaning 1 min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	85,000원
4520	2020-11-30 11시	12시	SC-1 Cleaning 10 min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	127,500원
4521	2020-12-01 10시	11시	[나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업] 전자과 최원영 Pre cleaning 목적입니다 Spm 새로 갈아주세요 dHF도 사용합니다	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	200,000원
4522	2020-12-01 14시	15시		포항공과대학교	창의IT융합공학과	최민근	72,000원
4523	2020-12-01 15시	16시	-	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	108,000원
4524	2020-12-01 16시	17시	0-1-2 Pre Cleaning SPM 10 min HQDR 7 min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4525	2020-12-02 10시	11시	DHF Cleaning	충남대학교	전자공학과	송형섭	100,000원
4526	2020-12-02 12시	13시	DHF사용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	최민근	108,000원
4527	2020-12-02 16시	17시	SC-2 10min, BOE 3min Cleaning	파워마스터반도체 주식회사	제조 공정기술팀장	손춘배	540,000원
4528	2020-12-02 16시	17시	SPM 10min + BOE 3min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	382,500원
4529	2020-12-02 18시	19시	1-2-3 PR Remove	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4530	2020-12-04 16시	18시	PR Strip	SK 주식회사 머티리얼즈 CIC	Color&Dispersion팀	임유빈	450,000원
4531	2020-12-07 11시	12시	SPM Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	108,000원
4532	2020-12-07 14시	15시	2-3-4 f_poe oxide etch pr remove spm 6ea	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4533	2020-12-07 14시	15시	2-3-2 f_poe oxide etch oxide wet etch boe 6ea	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	450,000원
4534	2020-12-08 10시	11시	나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업 전자과 최원영 (010 5436 2518) SPM 새로 갈아주세요 dHF도 사용합니다	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	200,000원
4535	2020-12-09 13시	14시	나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업 전자과 최원영 (010 5436 2518) PR 제거 용입니다 spm 새로 갈아주세요	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	120,000원
4536	2020-12-09 14시	15시	3-2-3 PR remove SPM 10 min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4537	2020-12-09 14시	15시	1-3-2 SPM PR Strip 10 min	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
4538	2020-12-10 14시	15시	나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업 전자과 최원영 (010 5436 2518) PR 제거 용입니다	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	120,000원
4539	2020-12-11 13시	14시	3-2-4 PR Remove SPM 10 min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4540	2020-12-11 15시	16시	SPM Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	108,000원
4541	2020-12-15 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
4542	2020-12-15 10시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	385,000원
4543	2020-12-15 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
4544	2020-12-15 13시	14시	나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업 전자과 최원영 (010 5436 2518) pr 제거용도입니다 SPM 새로 갈아주세요 dHF도 사용합니다	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	200,000원
4545	2020-12-15 17시	18시	0-2-1 0 fab-in pre cleaning spm 0-2-2 0 fab-in pre cleaning sc1	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4546	2020-12-16 16시	17시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
4547	2020-12-16 16시	17시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
4548	2020-12-16 16시	17시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
4549	2020-12-16 17시	18시	0-2-4 align key photo spm pr strip	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4550	2020-12-17 13시	14시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
4551	2020-12-17 13시	14시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
4552	2020-12-17 13시	14시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
4553	2020-12-17 14시	15시	1-2-4 active act etch spm pr strip	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4554	2020-12-17 15시	16시	SPM, dHF 동시 사용	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	180,000원
4555	2020-12-18 16시	17시	SPM, dHF 동시 이용	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	180,000원
4556	2020-12-18 17시	18시	SPM /DHF (SPM만 청구, 미청구건)	리노공업	리노공업	곽영대	150,000원
4557	2020-12-21 11시	11시	2-2-6 황산:과수=4:1, 120도, 10분	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4558	2020-12-21 13시	14시	Spm 새로 갈아주세요	포항공과대학교	전자전기공학과	최원영	102,000원
4559	2020-12-22 14시	14시	dHF cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	68,000원
4560	2020-12-22 14시	15시	.	포항공과대학교	창의IT융합공학과	최민근	108,000원
4561	2020-12-22 15시	16시	dhf 같이 사용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	최민근	180,000원
4562	2020-12-22 16시	17시	SPM, dHF 동시 사용	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	180,000원
4563	2020-12-24 13시	14시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
4564	2020-12-28 15시	16시	PR Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	108,000원
4565	2020-12-29 10시	11시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
4566	2020-12-29 12시	19시	Si Wet Etch : TMAH	리노공업	리노공업	곽영대	300,000원
4567	2020-12-29 13시	15시	PR cleaning 용도 SPM 새로 갈아주세요	포항공과대학교	전자전기공학과	최원영	102,000원
4568	2020-12-30 9시	10시	4. hm remove boe 5. spm + dhf	리노공업	리노공업	곽영대	250,000원
4569	2020-12-31 10시	11시	Wet etch 의뢰 요청 드립니다 상세내용은 PPT 첨부하였습니다 -------------------------------------- DHF 200:1 20sec 2회(선행 포함) thickness measurement 12ea * 5pp * 2회 / 12 = 10회 진행	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	400,000원
4570	2021-01-04 10시	11시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
4571	2021-01-04 16시	17시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
4572	2021-01-05 10시	11시	dHF cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	68,000원
4573	2021-01-05 15시	16시	Wafer Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	108,000원
4574	2021-01-05 15시	18시	DHF 같이 사용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	최민근	180,000원
4575	2021-01-06 13시	14시	SPM 새로 갈아주세요	포항공과대학교	전자전기공학과	최원영	102,000원
4576	2021-01-06 14시	16시	dhf	포항공과대학교	창의IT융합공학과	최민근	72,000원
4577	2021-01-07 11시	12시	-	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	108,000원
4578	2021-01-08 13시	14시	0-1-3 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	210,000원
4579	2021-01-11 13시	14시	SPM 새로 갈아주세요	포항공과대학교	전자전기공학과	최원영	102,000원
4580	2021-01-14 15시	17시	전문인력 양성교육 심화실습 교육	나노융합기술원	사업지원팀	전문인력2조	0원
4581	2021-01-14 17시	18시	전문인력양성교육 - 심화실습교육 잔여 PR, 잔여부산물 제거	나노융합기술원	사업지원팀	전문인력 1조	0원
4582	2021-01-18 15시	16시	SPM Cleaning	메타포어	디바이스개발	이재혁	150,000원
4583	2021-01-18 16시	17시	전문인력양성교육-심화실습교육 SPM, QDR과정으로 Wafer 클리닝 진행부탁드립니다.	나노융합기술원	사업지원팀	전문인력 1조	0원
4584	2021-01-19 16시	18시	전문인력양성교육-심화실습교육 PR Asher이후, 남은 PR 제거를 위해 SPM 이후, QDR 진행을 위해 장비를 사용하려 합니다.	나노융합기술원	사업지원팀	전문인력 1조	0원
4585	2021-01-20 15시	15시	0-1-2 fab-in spm clean 0-1-3 fab-in sc1 clean	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4586	2021-01-20 15시	15시	0-1-2 fab-in spm clean	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4587	2021-01-20 15시	15시	0-2-1 fab-in spm clean 0-2-2 fab-in sc1 clean	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4588	2021-01-21 14시	15시	/.	포항공과대학교	창의IT융합공학과	최민근	72,000원
4589	2021-01-21 15시	16시	SPM Wafer 초기 Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	108,000원
4590	2021-01-21 15시	17시	1-2-3 f_via gan etch pr remove	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4591	2021-01-22 11시	12시	1-2-4 active act etch spm pr strip spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4592	2021-01-22 11시	12시	boe cleaning	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	황현준	310,000원
4593	2021-01-25 10시	11시	2-2-6 p+ imp spm pr strip	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4594	2021-01-25 10시	11시	1-2-4 active act etch spm pr strip	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4595	2021-01-25 10시	11시	2-3-2 f_poe oxide etch oxide wet etch boe	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4596	2021-01-25 14시	15시	dHF Oxide Removal	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	72,000원
4597	2021-01-26 10시	12시	전문인력양성 심화실습 교육 si위에 oxide를 제거하고 싶습니다.	나노융합기술원	사업지원팀	전문인력5조	0원
4598	2021-01-26 11시	12시	.	포항공과대학교	창의IT융합공학과	최민근	72,000원
4599	2021-01-26 15시	16시	0-1-1 0 spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
4600	2021-01-26 8시	9시	2-3-4 f_poe oxide etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4601	2021-01-27 15시	16시	3-2-3 iso-1 gan etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4602	2021-01-27 17시	18시	2-2-6 p+ imp spm pr strip	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4603	2021-01-29 9시	10시	W4,5,6 SPM(Photo Rework) 3-2-3 iso-1 gan etch pr remove	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4604	2021-02-01 16시	17시	-	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	108,000원
4605	2021-02-02 15시	16시	6-0-3 gate sac. oxid ox wet strip spm 6-1-1 gate gate oxid nitric acid treatment sc1	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	255,000원
4606	2021-02-02 15시	16시	0-1-2 0 fab-in pre cleaning spm 0-1-3 0 fab-in pre cleaning dhf	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	212,500원
4607	2021-02-03 11시	12시	sample: low doped Ge 4\" wafer 공정내용: dHF cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	68,000원
4608	2021-02-03 15시	16시	3-2-4 ISO-2 GaN etch PR remove	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4609	2021-02-03 9시	10시	SPM	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	127,500원
4610	2021-02-05 16시	17시	1-2-4 AKEY AKEY etch SPM PR strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	127,500원
4611	2021-02-08 16시	17시	2-2-4 P+ P+ IMP SPM PR Strip Bath_SPM	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	127,500원
4612	2021-02-08 17시	18시	SPM / DHF	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	180,000원
4613	2021-02-10 11시	12시	3-3-1 P+ Sheet Off Oxide etch Wet etch Wet Station_Acid BOE 10:1 Oxide 2,100A etch(Over 20%)	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	255,000원
4614	2021-02-10 14시	15시	3-4-1 junc. metal oxide etch wet etch dhf	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	85,000원
4615	2021-02-15 10시	11시	Si wafer 25장, SPM 처리 후 DHF 처리 신청드립니다. -전자과 성수원(010-6786-0469)	포항공과대학교	전자전기공학과	전길수	85,000원
4616	2021-02-15 11시	12시	BOE etch Split 1. 20s 300A 2. 40s 600A 3. 60s 900A 4. 80s 1200A 5. 100s 1500A	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	황현준	270,000원
4617	2021-02-15 18시	19시	-	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	108,000원
4618	2021-02-15 9시	10시	Si wafer 25장, SPM 처리 후 DHF 처리 신청합니다. -전자과 성수원 (010-6786-0469)	포항공과대학교	전자전기공학과	전길수	127,500원
4619	2021-02-16 10시	11시	0-1-2 Fab-in Marking SPM > HQDR	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4620	2021-02-16 11시	12시	sample: Si 6\" wf. (Ti/TiO2/n-Si test) + Si 6\" wf. (Ti/n-Si test) 내용: SPM cleaning and dHF cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	170,000원
4621	2021-02-16 13시	14시	Oxide Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	72,000원
4622	2021-02-17 10시	12시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-5 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
4623	2021-02-17 10시	11시	1-2-2 f_via gan etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4624	2021-02-17 10시	11시	spm rework	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4625	2021-02-17 14시	15시	-	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	108,000원
4626	2021-02-17 15시	16시	-	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	72,000원
4627	2021-02-17 19시	20시	Si 기판 SPM 클리닝	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	102,000원
4628	2021-02-17 19시	21시	.	포항공과대학교	창의IT융합공학과	최민근	108,000원
4629	2021-02-18 10시	11시	SC-1 (APM) 진행	calient Technologies ,Inc	MEMS Technology	장호연	300,000원
4630	2021-02-18 11시	12시	2-3-2 F-POE Oxide Wet Etch Wet Station BOE 10:1, Oxide, 3000A etch, 195sec	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	450,000원
4631	2021-02-18 14시	15시	2-3-2 f_poe oxide pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4632	2021-02-18 14시	15시	spm(rework)	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4633	2021-02-18 17시	18시	-	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	108,000원
4634	2021-02-19 10시	11시	Oxide Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	72,000원
4635	2021-02-19 11시	12시	dHF 클리닝	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	68,000원
4636	2021-02-19 13시	14시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
4637	2021-02-19 14시	15시	-	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	108,000원
4638	2021-02-22 10시	11시	0-2-1 Fab-In Pre Cleaning W/S_Acid SPM(120C/10min)	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4639	2021-02-22 14시	15시	-	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	108,000원
4640	2021-02-23 10시	11시	Oxide Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	72,000원
4641	2021-02-24 11시	12시	3-2-2 iso-1 gan etch pr remove	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4642	2021-02-25 13시	14시	2-3-2 poe oxide etch oxide wet etch	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4643	2021-02-25 14시	15시	dHF 클리닝	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	이동훈	68,000원
4644	2021-02-25 20시	21시	PR Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	108,000원
4645	2021-02-26 10시	13시	자세한 내용은 메일 요청드림 ---------------------- 1차 DHF 200:1 20sec 2회(선행 포함) thickness measurement 8ea * 5pp * 2회 / 12 = 7회 진행 2차 DHF 200:1 20sec 2회(선행 포함) thickness measurement 6ea * 5pp * 2회 / 12 = 5회 진행	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	640,000원
4646	2021-02-26 16시	17시	산화알루미늄을 피라냐세정하려고 합니다. SPM	포항공과대학교 대학원	QCQN	홍정수	135,000원
4647	2021-03-02 19시	20시	dHF cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	64,000원
4648	2021-03-03 19시	20시	SPM cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	96,000원
4649	2021-03-03 19시	20시	GaN Etch 후 Cleaning	한국전자통신연구원	ICT창의연구소	유성욱	150,000원
4650	2021-03-04 16시	17시	6-3-5 Run Sheet Change Wet Station SC1 10min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	120,000원
4651	2021-03-04 16시	17시	6-3-5 Run Sheet Change Wet Station DHF 1min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	80,000원
4652	2021-03-05 10시	11시	Oxide Removing	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	68,000원
4653	2021-03-08 11시	12시	7-2-2 poly plug polysi etch Oxide etch W/S_BOE (1:100) 160sec	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	240,000원
4654	2021-03-08 17시	18시	7-2-5 Poly plug PolySi Wet etch W/S_Acid TMAH(25%) Bath	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	240,000원
4655	2021-03-09 11시	11시	0-1-2 Fab-In Pre Cleaning W/S_Acid SPM (120/10min) 0-1-3 Fab-In Pre Cleaning W/S_Acid SC1(APM) 70도 10분	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4656	2021-03-09 16시	17시	3-2-3 ISO-2 GaN Etch PR remove Wet Station_Acid SPM (120C 20min)	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4657	2021-03-11 16시	17시	GaN Etch PR Remove	한국전자통신연구원	ICT창의연구소	유성욱	150,000원
4658	2021-03-11 17시	18시	1-2-4 Active ACT Etch SPM PR Strip Bath_SPM 120도, 10분	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4659	2021-03-16 10시	11시	6-5-3 Gate poly Cleaning Wet station SPM120C 10min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	120,000원
4660	2021-03-16 10시	10시	6-5-3 Gate Poly cleaning Wet station DHF 3min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	80,000원
4661	2021-03-16 14시	15시	2-2-6 P+ IMP SPM PR Strip Bath_SPM 120C 10min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4662	2021-03-16 9시	10시	SPM+DHF	한양대학교	신소재공학과	한훈희	250,000원
4663	2021-03-17 14시	15시	wet station 교육 및 사용	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	권민규	90,000원
4664	2021-03-22 10시	11시	0-1-2 Fab-In Marking SPM(120C, 10min) > HQDR(7min)	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4665	2021-03-22 11시	12시	BOE 100:1 E/R test Oxide 2000A Etch	템퍼스	생산기술팀	서영민	285,000원
4666	2021-03-22 15시	16시	GaN Etch PR Remove	한국전자통신연구원	ICT창의연구소	유성욱	150,000원
4667	2021-03-22 16시	18시	PR Strip	SK 주식회사 머티리얼즈 CIC	Color&Dispersion팀	임유빈	450,000원
4668	2021-03-22 16시	17시	1-2-2 F-Via GaN Etch PR remove Wet Station_Acid SPM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4669	2021-03-23 11시	13시	PECVD oxide wet etching	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	이동훈	64,000원
4670	2021-03-23 20시	21시	SPM 1min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	102,000원
4671	2021-03-24 12시	13시	pre cleaning SPM	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	96,000원
4672	2021-03-24 14시	15시	BOE 사용	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	권민규	225,000원
4673	2021-03-24 15시	16시	2-3-2 F_POE Oxide Wet Etch Wet Station BOE 10:1 195sec	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	450,000원
4674	2021-03-24 15시	16시	2-3-4 F_POE Oxide Etch PR remove Wet Station SPM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4675	2021-03-25 11시	12시	0-1-4 Fab-In SC2 Clean Wet Station_SC2 10min	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
4676	2021-03-25 11시	12시	0-1-3 Fab-In SPM Clean Wet Station_Acid SPM (120C 10min > Hot QDR 7min)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
4677	2021-03-25 13시	14시	총 8개 (n+-Si 4개 / p+-Si 4개) 시편에 대해 DHF 처리 부탁드립니다.	고려대학교	반도체시스템공학과	김종현	100,000원
4678	2021-03-25 14시	15시	0-1-5 Fab-In DHF Clean Wet Station_Acid 100:1 DHF 1min	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	75,000원
4679	2021-03-25 15시	16시	1차 DHF 100:1 60sec 1회 thickness measurement 5ea * 5pp * 2회 / 12 = 4회 진행	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	180,000원
4680	2021-03-25 15시	16시	6-5-3 Gate poly Cleaning Wet station SPM 120C 10min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	120,000원
4681	2021-03-25 15시	16시	6-5-3 Gate poly Cleaning Wet Station DHF 3min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	80,000원
4682	2021-03-25 15시	16시	1-2-4 Active ACT Etch SPM PR Strip 10min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4683	2021-03-26 10시	11시	1-3-2 AKEY PR Remove SPM PR Strip Wet Station_Acid 10min	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
4684	2021-03-26 14시	15시	-	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	102,000원
4685	2021-03-26 15시	16시	-	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	68,000원
4686	2021-03-29 14시	15시	SPM and dHF cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	160,000원
4687	2021-03-29 16시	17시	SPM + dHF Cleaning	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	이동훈	160,000원
4688	2021-03-30 10시	11시	7-2-7 Poly plug PolySi Etch Oxide etch W/S_BOE SPM 10min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	120,000원
4689	2021-03-30 11시	12시	7-2-7 Poly plug PolySi Etch Oxide etch W/S_BOE BOE 4min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	240,000원
4690	2021-03-30 15시	16시	3-2-2 ISO-1 GaN Etch PR remove Wet station_Acid SPM (120C 20min)	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4691	2021-03-30 16시	16시	2-2-6 P+ IMP SPM PR strip Bath_SPM 120C 10min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4692	2021-03-30 17시	17시	SiC_T02 BOE 10:1 200sec / TMAH 60sec 각 1회	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	480,000원
4693	2021-03-30 19시	20시	SPM cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	96,000원
4694	2021-03-31 10시	11시	2-3-2 RX PR Remove SPM PR Strip Wet Station_Acid 120C 10min > HQDR>QDR>Spin Dry	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
4695	2021-03-31 14시	15시	SPM for PR Strip	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	이동훈	384,000원
4696	2021-03-31 15시	16시	BOE 100:1 2000A etching	템퍼스	생산기술팀	서영민	285,000원
4697	2021-03-31 20시	21시	SPM cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	96,000원
4698	2021-04-01 13시	14시	장비 교육 요청드립니다	포항공과대학교	전기전자공학부	김소영	72,000원
4699	2021-04-01 14시	15시	4\" si wafer 4ea SPM Cleaning	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	이동훈	96,000원
4700	2021-04-01 16시	16시	8-1-3 Field Oxide PE-oxide etch BOE 1min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	240,000원
4701	2021-04-01 16시	17시	0-2-1 0 Fab-In Pre Cleaning W/S_Acid SPM 120C 10min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4702	2021-04-01 17시	18시	SPM cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	96,000원
4703	2021-04-02 10시	10시	3-2-3 ISO-2 GaN Etch PR Remove Wet Station_Acid SPM 120C 20min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4704	2021-04-02 15시	16시	1차 DHF 100:1 60sec 1회 thickness measurement 2ea * 5pp * 2회 / 12 = 2회 진행	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	140,000원
4705	2021-04-02 16시	16시	0-1-2 0 Fab-In Pre Cleaning W/S_Acid SPM(120C / 10min) 0-1-3 0 Fab-In Pre Cleaning W/S_Acid SC1 70C 10min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4706	2021-04-05 10시	12시	박막증착 전처리 과정입니다.	경희대학교	원자력공학과	한지훈	150,000원
4707	2021-04-05 14시	15시	8-1-5 field oxide pe-oxide strip spm	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	120,000원
4708	2021-04-06 17시	18시	1-2-4 active act etch spm pr strip	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4709	2021-04-07 11시	12시	4\" si wafer cleaning 4ea	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	이동훈	384,000원
4710	2021-04-07 15시	15시	0-2-1 0 Fab in Pre Cleaning W/S Acid SC1 10min	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	120,000원
4711	2021-04-07 15시	15시	0-2-2 0 Fab_In Pre Cleaning W/S Acid 100:1 DHF 1min	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	80,000원
4712	2021-04-07 15시	15시	0-2-3 0 Fab-In Pre Cleaning W/S Acid TMAH 25% 70C 1min	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	240,000원
4713	2021-04-08 15시	16시	-	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	102,000원
4714	2021-04-09 10시	10시	1-3-2 AKEY PR Remove SPM PR Strip Bath_SPM 120C 10min	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	120,000원
4715	2021-04-09 14시	14시	2-2-6 P+ IMP SPM PR Strip 120C 10min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4716	2021-04-09 16시	17시	GaN Etch PR Remove	한국전자통신연구원	ICT창의연구소	유성욱	150,000원
4717	2021-04-12 10시	11시	DHF Cleaning	(주)칩스케이	연구개발팀	임진홍	80,000원
4718	2021-04-12 15시	16시	dHF 5 min	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	68,000원
4719	2021-04-12 9시	10시	APM Cleaning	(주)칩스케이	연구개발팀	임진홍	169,000원
4720	2021-04-14 11시	11시	0-1-2 0 Fab-In Marking SPM(120C 10min) > HQDR 7min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4721	2021-04-16 13시	14시	1-2-2 f_via gan etch pr remove	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4722	2021-04-19 10시	11시	DHF Cleaning	(주)칩스케이	연구개발팀	임진홍	80,000원
4723	2021-04-19 11시	11시	2-3-2 F_POE Oxide Wet Etch Wet Station BOE 10:1 Oxide 3000A etch 195sec	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	450,000원
4724	2021-04-19 14시	14시	2-3-4 F_POE Oxide Etch PR Remove Wet Station_Acid SPM(120C 10min > HQDR 7min)	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4725	2021-04-19 9시	10시	APM Cleaning	(주)칩스케이	연구개발팀	임진홍	169,000원
4726	2021-04-20 17시	17시	조각 웨이퍼 DHF	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	80,000원
4727	2021-04-20 17시	17시	조각 웨이퍼 SPM	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	120,000원
4728	2021-04-20 17시	17시	조각 웨이퍼 BOE	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	240,000원
4729	2021-04-20 9시	18시	Cleaning	(주)유우일렉트로닉스	TIS생산사업부	김도현	3,500,000원
4730	2021-04-21 17시	17시	1-2-2 F_Via GaN Etch PR Remove Wet station_Acid SPM 120C 10min > HQDR 7min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4731	2021-04-21 8시	10시	3-2-2 iso-1 gan etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4732	2021-04-21 9시	10시	0-1-2 0 fab-in spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4733	2021-04-22 11시	11시	3-2-3 ISO-2 GaN Etch PR Remove WET Station_Acid SPM 120C 20min new chemical	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4734	2021-04-22 14시	15시	SPM cleaning	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	이동훈	96,000원
4735	2021-04-22 16시	16시	2-3-4 F_POE Oxide ETch PR Remove Wet Station_Acid SPM(120C 10min > HQDR 7min)	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4736	2021-04-22 16시	16시	2-3-2 F_POE Oxide Wet Etch Wet Station BOE 10:1 Oxide 3000a etch 195sec	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4737	2021-04-26 14시	15시	PR Remove	한국전자통신연구원	ICT창의연구소	유성욱	150,000원
4738	2021-04-27 14시	14시	0-1-5 0 Fab_in DHF Clean WEt Station _Acid 100:1 DHF 1min	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	150,000원
4739	2021-04-27 14시	14시	0-1-4 0 Fab-In SC2 Clean Wet Station_SC2 10min > QDR	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	450,000원
4740	2021-04-27 14시	14시	0-1-3 0 Fab-In SPM Clean Wet Station_Acid SPM(120C 10min HQDR 7min)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
4741	2021-04-28 16시	16시	1-3-2 AKEY PR Remove SPM PR Strip Wet Station_Acid SPM	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
4742	2021-04-28 16시	16시	W01 SPM 1ea	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4743	2021-04-30 16시	17시	BOE 이용한 SiO2 etching	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	권민규	225,000원
4744	2021-05-03 11시	11시	0-2-1 0 Fab-In Pre Cleaning W/S_Acid SPM(120C/10min)	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4745	2021-05-04 1시	1시	WF01 SPM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4746	2021-05-04 11시	11시	1-1-4 Pillar Si Oxide Etch Wet Station BOE 10:1 3min	전북대학교	전자공학부	김기현	300,000원
4747	2021-05-04 17시	17시	0-2-1 0 Fab-In Pre Cleaning W/S_Acid SPM 120C / 10min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4748	2021-05-04 17시	17시	2-1-1 Doped p_si depo PR remove Wet Station_Acid SPM 120C 10min	전북대학교	전자공학부	김기현	150,000원
4749	2021-05-06 10시	11시	BOE 이용한 SiO2 etching	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	권민규	225,000원
4750	2021-05-06 14시	15시	DHF Cleaning	한양대학교	신소재공학과	한훈희	100,000원
4751	2021-05-07 11시	11시	0-1-2 0 Fab-In Marking SPM 120C 10min HQDR 7min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4752	2021-05-07 15시	15시	SPM All wafer	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	120,000원
4753	2021-05-07 15시	15시	BOE W3/W5 3min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	240,000원
4754	2021-05-07 15시	15시	2-1-1 DHF 1min	전북대학교	전자공학부	김기현	100,000원
4755	2021-05-10 10시	10시	3-1-1 Active Formation Cleaning SPM 120C 10min	전북대학교	전자공학부	김기현	150,000원
4756	2021-05-10 10시	18시	Cleaning	(주)유우일렉트로닉스	TIS생산사업부	김도현	3,500,000원
4757	2021-05-10 15시	15시	3-1-2 Active Formation Oxide Etch BOE 6000A	전북대학교	전자공학부	김기현	300,000원
4758	2021-05-11 10시	11시	2.0 Hardmask layer Oxide Remove	LG 전자 소재/생산기술원 소재기술원	ML Task	조영제	300,000원
4759	2021-05-11 11시	11시	1-2-2 F_Via GaN Etch PR remove Wet Station_Acid SPM 120C HQDR 7min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4760	2021-05-11 17시	17시	2-4-2 IMP PWELL Mask Remv Oxide Remove W/S BOE 10:1 BOE 2min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	240,000원
4761	2021-05-11 17시	17시	2-4-1 IMP PWELL Mask Remv PR Cleaning W/S SPM 120C 10min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	120,000원
4762	2021-05-11 17시	17시	2-1-1 POE Insulator Oxide Depo 4000A New Wafer BOE 선행	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4763	2021-05-11 17시	17시	2-1-1 F_POE Insulation PEoxide Depo 3000A OXLED BOE 선행	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4764	2021-05-12 14시	14시	2-3-2 POE Oxide Wet Etch Wet Station_Acid BOE 10:1 Oxide 4000A 255sec	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4765	2021-05-12 16시	17시	GaN Etch Test PR Remove	한국전자통신연구원	ICT창의연구소	유성욱	150,000원
4766	2021-05-12 18시	18시	2-3-2 F_POE Oxide Wet ETch Wet Station BOE 10:1 160s	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	450,000원
4767	2021-05-12 18시	18시	2-3-4 F_POE Oxide ETch PR Remove Station_Acid SPM 120C 10min HQDR 7min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4768	2021-05-12 20시	21시	-	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	102,000원
4769	2021-05-13 11시	12시	2.0 poe layer rework 1. boe oxide 전면 제거 5min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4770	2021-05-13 14시	15시	Spm	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	120,000원
4771	2021-05-13 15시	16시	조각 시편 Si 식각 실험	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	255,000원
4772	2021-05-14 10시	10시	3-3-3 Active Formation PR Remove Wet Station_Acid SPM 120C 10min	전북대학교	전자공학부	김기현	150,000원
4773	2021-05-14 10시	11시	APM 10min + DHF 1min	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	645,000원
4774	2021-05-14 10시	10시	9-4-3 CONT Backside Cont Wet etch Oxide W/S_BOE DHF 1:100 3min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	80,000원
4775	2021-05-14 13시	14시	없음	포항공과대학교 대학원	기계공학과	백종현	72,000원
4776	2021-05-14 17시	17시	frontside electrode native oxide remove Wet Station DHF 1min	전북대학교	전자공학부	김기현	100,000원
4777	2021-05-18 11시	11시	3-2-2 ISO-1 GaN Etch PR remove Wet Station_Acid	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4778	2021-05-18 15시	15시	3-2-2 ISO-1 GaN Etch PR Remove WET STation_Acid SPM 120C 20min HQDR	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4779	2021-05-20 15시	16시	HCl 소량 사용 (ZnO etch)	포항공과대학교	전기전자공학부	김소영	72,000원
4780	2021-05-20 17시	17시	5-1-2 Backside Elctrode Native Oxide Remove Wet Station DHF 1min	전북대학교	전자공학부	김기현	100,000원
4781	2021-05-21 13시	13시	3-2-3 ISO-2 GaN Etch PR Remove Wet Station_Acid SPM 120C 20min New Chemical	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4782	2021-05-25 10시	21시	Si Wet Etch #01-05 / #06-10 2회 진행 --> 1회로 청구함	리노공업	리노공업	곽영대	300,000원
4783	2021-05-25 14시	14시	1-6-4 Hard Mask ETch Native Oxidce Remove WEt STation_Acid DHF 100:1 2min	리노공업	리노공업	곽영대	100,000원
4784	2021-05-25 14시	14시	1-5-3 Hard Mask PR Strip Set Sation_Acid SPM	리노공업	리노공업	곽영대	150,000원
4785	2021-05-25 20시	21시	SPM Cleaning	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	이동훈	120,000원
4786	2021-05-26 11시	11시	2-2-1 Si Etch Hard Mask Remove Oxide REmove Wet Station_Acid BOE 10:1 5min	리노공업	리노공업	곽영대	300,000원
4787	2021-05-26 14시	15시	Si wafer 25장 SPM 및 HF 처리 부탁드립니다 [SPM, DHF 별도 신청]. -전자과 성수원 (010-6786-0469)	포항공과대학교	전자전기공학과	전길수	150,000원
4788	2021-05-26 15시	16시	Si wafer 25장 SPM 및 HF 처리 부탁드립니다 [SPM, DHF 별도 신청]. -전자과 성수원 (010-6786-0469)	포항공과대학교	전자전기공학과	전길수	100,000원
4789	2021-05-27 13시	13시	1-1-1 Pillar Etch Si Etch Pre_Cleaning Wet STation_Acid SPM(120C, 10min)	전북대학교	전자공학부	김기현	150,000원
4790	2021-05-28 10시	11시	0-2-1 o fab-in pre cleaning spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4791	2021-05-28 11시	11시	0-1-5 0 Fab-In DHF Clean Wet STation_Acid 100:1 DHF 1min	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	75,000원
4792	2021-05-28 11시	11시	0-1-4 0 Fab-In SC2 Clean Wet Station_SC2 10min QDR 7min	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
4793	2021-05-28 11시	11시	0-1-3 0 Fab-In SPM Clean Wet Station_Acid SPM 120C 10min HQDR 7min	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
4794	2021-05-28 16시	17시	spm + dhf	한양대학교	신소재공학과	한훈희	250,000원
4795	2021-05-31 11시	11시	1-3-2 AKEY PR Remove Wet Station_Acid SPM 120C 10min > HQDR 7mn > QDR 7min > Spin Dry 30min	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
4796	2021-05-31 14시	15시	SPM 클리닝	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	이동훈	120,000원
4797	2021-05-31 16시	18시	알루미나가 깨지기 쉬워서 조심스러운 작업이 필요합니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	이원찬	135,000원
4798	2021-06-01 10시	10시	0-1-2 0 Fab-In Marking SPM(120C 10min) > HQDR > 7min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4799	2021-06-01 10시	10시	0-1-2 0 Fab-In Marking SPM 120C 10min HQDR 7min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4800	2021-06-01 14시	15시	없음	포항공과대학교 대학원	기계공학과	백종현	72,000원
4801	2021-06-01 18시	19시	dHF cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	박익수	64,000원
4802	2021-06-02 11시	12시	1-2-2 F-Via GaN Etch PR Remove Wet Station_Acid SPM 120C 10min HQDR 7min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4803	2021-06-02 12시	13시	1-2-2 F_Via GaN Etch PR Remove Wet station_Acid SPM 120C 10min HQDR 7min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4804	2021-06-02 17시	18시	2-3-2 poe oxide etch oxide wet etch boe	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4805	2021-06-02 17시	18시	2-3-2 f_poe oxide etch oxide wet etch boe 2-3-4 f_poe oxide pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	675,000원
4806	2021-06-03 15시	16시	x	포항공과대학교 대학원	기계공학과	백종현	72,000원
4807	2021-06-03 16시	17시	0-1-3 0 Fab-In SPM Clean Wet STation_Acid SPM 120C 10min HQDR 7min	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
4808	2021-06-03 17시	18시	0-1-4 0 Fab-In SC2 Clean Wet Station_SC2 10min QDR 7min	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	450,000원
4809	2021-06-03 18시	19시	3-2-2 ISO-1 Gan Etch PR remove Wet Station_Acid SPM 120C 20min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4810	2021-06-03 19시	20시	0-1-5 0 Fab-In DHF Clean Wet Station_Acid 100:1 DHF 1min QDR 8min spin dry 30min	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	150,000원
4811	2021-06-03 20시	21시	3-2-2 ISO-1 GaN Etch PR remove Wet Station_Acid SPM 120C 20min New chemical	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4812	2021-06-04 16시	17시	1-3-2 AKEY PR Remove SPM PR Strip Wet Station_Acid 120C 10min > HQDR 7min	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
4813	2021-06-07 9시	11시	나노융합기반도도화 사업	(주)에스제이컴퍼니	기술영업부	손호창	150,000원
4814	2021-06-08 12시	13시	3-2-3 ISO-2 GaN ETch PR remove Wet Station_Acid SPM 120C 20min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4815	2021-06-08 13시	14시	3-2-3 ISO-2 GaN Etch PR remove Wet Station_Acid SPM 120C 20min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4816	2021-06-08 14시	15시	DHF 같이 이용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	최민근	187,000원
4817	2021-06-10 13시	14시	SPM cleaning	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	이동훈	96,000원
4818	2021-06-10 14시	15시	0-2-1 0 fab-in pre cleaning SPM 120C 10min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4819	2021-06-11 11시	11시	spm cleaning	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	이동훈	96,000원
4820	2021-06-14 10시	11시	0-1-2 0 fab-in marking spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4821	2021-06-14 15시	17시	piranha cleaning 직접이용하려고 합니다. cleaning사용 교육을 간단히 받을 수 있을까요?	포항공과대학교 대학원	QCQN	홍정수	198,000원
4822	2021-06-15 10시	11시	BOE 이용한 SiO2 etching	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	권민규	225,000원
4823	2021-06-15 14시	15시	BOE 이용한 SiO2 etching	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	권민규	225,000원
4824	2021-06-15 15시	16시	2-3-2 poe oxide etch oxide wet etch boe	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4825	2021-06-15 8시	14시	Cleaning	(주)유우일렉트로닉스	TIS생산사업부	김도현	3,500,000원
4826	2021-06-16 10시	11시	1-2-2 F_Via GaN Etch PR remove Wet Station_Acid SPM 120C 10min , HQDR 7min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4827	2021-06-16 15시	17시	.	포항공과대학교 대학원	QCQN	홍정수	135,000원
4828	2021-06-16 18시	19시	SPM cleaning	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	이동훈	96,000원
4829	2021-06-18 10시	11시	2-2-2 Guide GaN Etch PR remove Wet Station_Acid SPM 120C 10min HQDR 7min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4830	2021-06-18 14시	16시	Lot ID: NDC21Y24W #1~#20 목적: DC공정 cleaning(SPM,APM) 총 20장(계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	서준영	0원
4831	2021-06-18 17시	18시	0-1-2 0 Fab-in SPM Clean Wet Station_Acid SPM 120C 10min	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
4832	2021-06-21 10시	11시	Lot ID: NDC21Y24W #1~#10 목적 : CA 공정 APM 처리 총10장 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	서준영	0원
4833	2021-06-21 11시	12시	Lot ID: NDC21Y24W #12~#20 목적: CA 공정 APM 처리 총 9장(계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	서준영	0원
4834	2021-06-21 12시	13시	SPM Cleaning	ETRI	RF/전력부품연구그룹	문재경	150,000원
4835	2021-06-21 13시	14시	2-3-3 TMAH Poly Si wet etch	(주)유우일렉트로닉스	(주)유우일렉트로닉스	박일몽	240,000원
4836	2021-06-21 15시	16시	2-3-2 BOE Oxide wet etch	(주)유우일렉트로닉스	(주)유우일렉트로닉스	박일몽	240,000원
4837	2021-06-22 16시	17시	Lot ID: NDC21Y24W #11 목적: DC공정 SPM, APM cleaning 총 1장(계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	서준영	0원
4838	2021-06-22 20시	21시	BOE 이용한 SiO2 etching	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	권민규	225,000원
4839	2021-06-23 13시	14시	0-1-2 0 fab-in spm clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
4840	2021-06-23 14시	15시	SPM Clean	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4841	2021-06-23 14시	16시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-3 0 fab-in sc2 clean 0-1-3 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
4842	2021-06-23 16시	18시	Lot ID: NDC21Y24W #1~#20 목적: CA Depo 전 Native oxide 막 제거 총 20장(계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	서준영	0원
4843	2021-06-23 17시	18시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
4844	2021-06-23 17시	18시	2-3-2 f_poe oxide etch boe	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4845	2021-06-24 10시	11시	4-2-2 ISO-1 GaN Etch PR remove Wet Station_Acid SPM 120C 20min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4846	2021-06-24 19시	20시	Cleaning	포항공과대학교	창의IT융합공학과	조현수	68,000원
4847	2021-06-25 15시	16시	2-8-1 IMP N+ Mask Remv. PR Cleaning W/S_SPM 120C 10min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	120,000원
4848	2021-06-25 16시	17시	2-8-2 IMP N+ Mask Remv. OXide REmove W/S_BOE 10:1, 2min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	240,000원
4849	2021-06-28 10시	12시	4-2-3 ISO-2 GaN Etch PR Remove Wet Station_Acid	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4850	2021-06-29 14시	15시	2-3-2 POE Oxide Wet Etch BOE 10:1 Oxide 4000A 255s	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4851	2021-07-01 10시	11시	0-1-2 0 Fab-In Pre Cleaning W/S_Acid SPM 120C 10min 나노융합기반고도화사업	주식회사 엔포마레	사업총괄	성재석	150,000원
4852	2021-07-05 14시	15시	[나노융합기술고도화사업] LOT ID: CATEST01 (Module) 목적: Si 식각 (test wafer)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	최준석	250,000원
4853	2021-07-06 15시	16시	LOT ID: NDC21Y23W #1 (CAP wafer) 목적: SiO2 2300 A 식각, Si 20 um 식각 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	최준석	0원
4854	2021-07-07 10시	11시	LOT ID: NDC21Y23W #1 (CAP wafer) 목적: SiO2 2300 A 식각, Si 20 um 식각 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	최준석	0원
4855	2021-07-07 9시	10시	LOT ID: NDC21Y23W #1 (CAP wafer) 목적: SiO2 2300 A 식각, Si 20 um 식각 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	최준석	0원
4856	2021-07-08 13시	15시	spm 사용	포항공과대학교	전자전기공학과	이원찬	225,000원
4857	2021-07-12 10시	11시	LOT ID: NDC21Y24W (CAP wafer) 목적: CA 공정을 위한 Si 식각 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	최준석	0원
4858	2021-07-12 11시	12시	0-1-2 0 Fab-In SPM Clean Wet STation_Acid 120C 10min	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
4859	2021-07-12 14시	15시	장비 이용 교육을 위해 신청합니다. HF와 KOH를 사용합니다.	포항공과대학교	기계공학과	이상엽	90,000원
4860	2021-07-12 9시	13시	Cleaning	(주)유우일렉트로닉스	TIS생산사업부	김도현	3,500,000원
4861	2021-07-13 11시	12시	BOE 이용한 SiO2 etching	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	권민규	225,000원
4862	2021-07-13 15시	16시	산화알루미늄에 Ti/Au 15/100 nm sputtering후 3 um 금전해도금 한 시료입니다. 도금과정에서 생긴 오염물질을 제거하려합니다	포항공과대학교 대학원	QCQN	홍정수	108,000원
4863	2021-07-13 9시	10시	LOT ID: NDC21Y23W (CAP Wafer) 목적: Si 식각 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	최준석	0원
4864	2021-07-14 11시	12시	LOT ID: NDC21Y24W (Cap wafer) 목적: Si 식각 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	최준석	0원
4865	2021-07-14 11시	12시	0-1-2 0 Fab-In Marking SPM 120C 10min HQDR 7min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4866	2021-07-14 16시	17시	1-2-2 F_Via GaN Etch PR remove WEt STation_Acid SPM 120C 10min HQDR 7min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4867	2021-07-15 10시	16시	전북대학교 교육 진행	나노융합기술원	교육홍보팀	김동기	800,000원
4868	2021-07-15 9시	10시	PR strip	(주)지아이에스	지아이에스 부설연구소	이민재	150,000원
4869	2021-07-16 1시	2시	2-12-1 IMP P+ MAsk Remv. PR Cleaning W/S_SPM 120C 10min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	120,000원
4870	2021-07-16 10시	11시	직접 사용으로 신청하여 이용하겠습니다. BOE + KOH + HF	포항공과대학교	기계공학과	이상엽	225,000원
4871	2021-07-16 15시	16시	Hcl 이용	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	권민규	225,000원
4872	2021-07-16 2시	3시	2-12-2 IMP P+ Mask Remv. Oxide Remove W/S_BOE 10:1 5min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	240,000원
4873	2021-07-16 3시	4시	3-3-2 F_POE Oxide Wet Etch Wet Station BOE 10:1 Oxide 3000A 160s	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4874	2021-07-16 4시	5시	3-3-4 F_POE Oxide Etch PR remove Wet Station_Acid SPM 120C 10min > HQDR 7min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4875	2021-07-19 10시	11시	LOT ID: NDC21Y24W (CAP wafer) 목적: CA공정/ SiO2 제거 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	최준석	0원
4876	2021-07-19 11시	12시	1-2-4 Active ACT Etch SPM PR Strip Bath_SPM 120C 10min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4877	2021-07-19 11시	12시	LOT ID: NDC21Y24W (CAP wafer) 목적: CA공정/ SiO2 제거 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	최준석	0원
4878	2021-07-20 13시	15시	Lot ID: NDC21Y29W #11~#20 목적: CA공정 PR cleaning 총 10장(계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	서준영	0원
4879	2021-07-20 9시	11시	Lot ID: NDC21Y29W #1~#10, #21~#23 목적: CA공정 PR cleaning 총 13장(계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	서준영	0원
4880	2021-07-21 10시	12시	Lot ID: NDC21Y29W 목적: CA 공정 DHF 처리 총 23장(계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	서준영	0원
4881	2021-07-21 10시	11시	tmah 25%	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	212,500원
4882	2021-07-21 9시	10시	0-1-2 Fab-In Marking SPM 120C 10min HQDR 7min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4883	2021-07-22 11시	12시	2-2-6 P+ IMP SPM PR Strip Bath_SPM 120C 10min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4884	2021-07-22 14시	15시	이번엔 아무 처리 되지 않은 산화알루미늄 세정입니다. 15~17시로 예약한 이원찬군과 시간이 겹치게 와서 함께 진행해도 괜찮을까요? 감사합니다 홍정수드림(01085779734)	포항공과대학교 대학원	QCQN	홍정수	108,000원
4885	2021-07-22 16시	18시	spm + IPA + 아세톤 사용	포항공과대학교	전자전기공학과	이원찬	208,000원
4886	2021-07-26 10시	11시	0-1-2 0 initial oxide pre cleaning spm	주식회사 바이오소닉스	연구개발부	전호승	150,000원
4887	2021-07-28 10시	11시	0-1-3 0 Fab-In SC2 Clean Wet STation_SC2 10min QDR 7min	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	450,000원
4888	2021-07-28 11시	12시	0-1-4 0 Fab-In DHF Clean Wet Station_Acid 100:1 DHF	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	150,000원
4889	2021-07-28 9시	10시	0-1-2 0 Fab-In SPM Clean Wet Station_Acid SPM 120C HQDR 7min	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
4890	2021-07-29 10시	11시	PR 코팅된 SOI 웨이퍼를 HF로 식각할 예정입니다.	포항공과대학교	기계공학과	이상엽	72,000원
4891	2021-07-29 10시	11시	1-3-2 AKEY PR Remove SPM PR Strip Station_Acid	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
4892	2021-07-29 12시	13시	PR Remove : SPM Cleaing	한국전자통신연구원	ICT창의연구소	유성욱	150,000원
4893	2021-07-29 17시	19시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
4894	2021-08-02 14시	16시	Lot ID: NDC21Y29W #21#22 목적: CA 공정 SPM 처리 총 2장(계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	서준영	0원
4895	2021-08-03 14시	15시	4-2-2 iso-1 gan etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4896	2021-08-03 18시	19시	DHF 같이 사용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	최민근	102,000원
4897	2021-08-03 9시	10시	BOE 9min	(주)이너센서	경영, 연구소	강문식	270,000원
4898	2021-08-04 10시	11시	Lot ID: NDC21Y29W #24#25 목적: CA 공정 SPM 처리 총 2장(계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	서준영	0원
4899	2021-08-04 11시	12시	Lot ID: NDC21Y29W #24#25 목적: CA 공정 DHF 처리 총 2장(계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	서준영	0원
4900	2021-08-04 14시	15시	SiO2 etching(BOE)	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	권민규	225,000원
4901	2021-08-04 16시	17시	4-2-3 iso-2 gan etch pr remove	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4902	2021-08-05 15시	16시	Spm cleaning으로 Ti etching 진행합니다. Metalic 폐액을 버릴 통이 어디있는지 알려주시기 바랍니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	이원찬	108,000원
4903	2021-08-05 9시	10시	2-3-2 f_poe oxide etch oxide wet etch beo	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4904	2021-08-06 10시	11시	LOT ID: NDC21Y29W (CAP Wafer) 목적: Si 식각 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	최준석	0원
4905	2021-08-06 11시	12시	LOT ID: NDC21Y29W (CAP Wafer) 목적: Si 식각 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	최준석	0원
4906	2021-08-06 14시	15시	0-2-1 0 fab-in pre cleaning spm 0-2-2 0 fab-in pre cleaning sc1	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
4907	2021-08-09 14시	15시	0-2-4 Align Key Align Photo SPM PR Strip 120C 10min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4908	2021-08-10 11시	12시	LOT ID: NDC21Y29W (CAP wafer 5장) 목적: DHF 산화막제거 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	최준석	0원
4909	2021-08-10 13시	14시	LOT ID: NDC21Y29W (CAP wafer 5장) 목적: Si 식각 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	최준석	0원
4910	2021-08-10 15시	16시	1-2-4 Active ACT Etch SPM PR Strip Bath_SPM 120C 10min 1-2-4 Active ACT Etch M Inspect Microscope	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4911	2021-08-10 16시	17시	DRIE 식각 후 HF이용 에칭할 예정입니다.	포항공과대학교	기계공학과	이상엽	72,000원
4912	2021-08-11 13시	14시	[나노융합기술고도화사업] LOT ID: Module (Si wafer 12장) 목적: BOE 자연산화막 제거	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	최준석	250,000원
4913	2021-08-12 13시	14시	2-2-6 p+ spm pr strip	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4914	2021-08-12 15시	16시	-	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	102,000원
4915	2021-08-13 10시	17시	대구카톨릭대학교 반도체 공정실습 교육	나노융합기술원	교육홍보팀	김동기	360,000원
4916	2021-08-13 10시	11시	LOT ID: NDC21Y29W (CAPwafer) 목적: SPM 클리닝 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	최준석	0원
4917	2021-08-13 11시	12시	LOT ID: NDC21Y29W (CAPwafer) 목적: 산화막 식각 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	최준석	0원
4918	2021-08-13 9시	10시	0-1-2 0 Fab-In Marking SPM 120C 10min HQDR 7min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
4919	2021-08-17 16시	18시	1-2-2 F_Via Ga/N Etch PR remove Wet Station_Aicd SPM 120C 10min HQDR 7min 1-2-3 F_Via GaN Etch OM 1-2-4 F_Via GaN Etch 단차 측정 Profiler	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	172,500원
4920	2021-08-18 10시	12시	0-2-1 0 Initial Cleaning SPM Wet_Station_Acid SPM 120C 10min	(주)센텍코리아	기술연구소	강진현	150,000원
4921	2021-08-18 13시	14시	4인치 Si wafer 총 30장 HF/SPM 처리 부탁드립니다. -전자과 전길수(010-5287-9314) -정윤영 교수님 공정 수업 영상 촬영하려합니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	성수원	180,000원
4922	2021-08-18 14시	15시	4인치 Si wafer 총 30장 HF/SPM 처리 부탁드립니다. -전자과 전길수(010-5287-9314) -정윤영 교수님 공정 수업 영상 촬영하려합니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	성수원	270,000원
4923	2021-08-18 9시	11시	3-3-2 f_poe oxide etch oxide wet etch boe 3-3-4 f_poe oxide etch pr remove spm 3-3-5 f_poe gan etch 단차 측정 profiler	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	390,000원
4924	2021-08-18 9시	14시	Cleaning	(주)유우일렉트로닉스	TIS생산사업부	김도현	3,500,000원
4925	2021-08-20 10시	12시	4-2-3 ISO-1 GaN Etch PR Remove Wet Station_Acid SPM 120C 20min 4-2-4 ISO-2 GaN Etch OM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4926	2021-08-20 13시	15시	나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업 전자과 최원영 (010.5436.2518) SPM 새로 갈아주시겠어요? dHF도 사용합니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	200,000원
4927	2021-08-23 10시	11시	LOT ID:NDC21Y37W (CAP wafer) 목적: PR 제거/CA 공정 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	최준석	0원
4928	2021-08-25 10시	11시	LOT ID: NDC21Y29W #8, #9 (CAP wafer) 목적: CA 공정/Si 식각 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	최준석	0원
4929	2021-08-25 11시	12시	0-1-3 0 Fab-In SC2 Clean Wet Station+SC2 10min QDR 7 min	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
4930	2021-08-25 12시	13시	0-1-4 0 Fab-In DHF Clean Wet STation_Acid 100:1 HDF	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	75,000원
4931	2021-08-25 12시	16시	대구카톨릭대학교 반도체 공정실습 교육	나노융합기술원	교육홍보팀	김동기	1,500,000원
4932	2021-08-25 15시	16시	4-2-4 ISO-2 GaN Etch PR remove Wet STation_Acid SPM 120C 20min 4-2-5 ISO-2 GaN Etch OM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
4933	2021-08-25 9시	10시	0-1-2 0 Fab-In SPM Clean Wet Station_Acid SPM 120C 10min HQDR 7 min	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
4934	2021-08-26 10시	12시	1-3-2 AKEY PR Remove SPM PR Strip Wet Station_Acid SPM 10cmin HQDR 7min QDR 7min 1-3-4 AKEY PR Remove M Inspect Microscope	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	120,000원
4935	2021-08-26 16시	17시	티타늄이 있을 수 있으니, 따로 폐기통 준비 부탁드립니다. spm 사용 예정입니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	이원찬	108,000원
4936	2021-08-26 17시	18시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
4937	2021-08-27 11시	12시	없음	포항공과대학교 대학원	기계공학과	백종현	72,000원
4938	2021-08-30 14시	15시	SPM Cleaning	싸니코전자(주)	개발팀	최주헌	150,000원
4939	2021-08-31 11시	12시	LOT ID: NDC21Y29W #10~#19 (CAP wafer) 목적: SPM 사용/ CA 공정 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	최준석	0원
4940	2021-08-31 15시	16시	4인치 Quartz 웨이퍼 2장, SPM처리 부탁드립니다. 전자과 서태원 (010-5009-8015)	포항공과대학교	전자전기공학과	성수원	135,000원
4941	2021-09-01 19시	20시	DHF 같이 사용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	최민근	170,000원
4942	2021-09-02 10시	11시	LOT ID: NDC21Y29W #10~19 (CAP wafer) 목적: CA 공정 산화막 제거 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	최준석	0원
4943	2021-09-03 10시	11시	LOT ID: NDC 21Y29W #10~#19 목적: BOE사용/CA 공정 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	최준석	0원
4944	2021-09-03 13시	15시	Lot ID: NDC21Y29W #15~#16#18 목적: CA공정 SiO2 hardmask remove(BOE) 총 13장 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	서준영	0원
4945	2021-09-03 15시	16시	2-16-1 IMP JFET Mask Remv. PR Cleaning W/S_SPM 120C 10min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	120,000원
4946	2021-09-03 16시	17시	2-16-2 IMP JFET Mask Remv. PR Cleaning W/s BOE 10:1 5min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	240,000원
4947	2021-09-06 12시	13시	2-3-1 F_POE Oxide Etch Descum PR Asher_FEOL 85C 30sec Descum 2-3-2 F_POE Oxide ETch Oxide Wet ETch BOE 10:1	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	320,000원
4948	2021-09-06 13시	14시	3-1-1 ACT Cleaning Pre Cleaning W/S_Acid TMAH(25%) 70C 1min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	240,000원
4949	2021-09-06 14시	15시	3-1-2 ACT Cleaning Pre Cleaning W/S_BOE 100:1 DHF 1min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	80,000원
4950	2021-09-08 11시	13시	3-4-2 ACT carbon strip SPM PR Strip W/S SPM 120C 10min 3-5-1 ACT sac. oxid Pre Cleaning W/S_Aicd 100:1 DHF 1min / TMAH 25% 70C	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	440,000원
4951	2021-09-08 8시	11시	DHF 200:1 10sec 3회 thickness measurement 19ea * 1pp * 4회 / 12 = 7회 진행	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	440,000원
4952	2021-09-09 10시	11시	[나노융합기술고도화사업] LOT ID: SKD0691A (Module)/ 6매 목적: AS 공정/ DHF 클리닝	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	최준석	80,000원
4953	2021-09-10 10시	11시	1-3-3 Trench Mask Etch Cleaning W/S_SPM 120C 10min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	120,000원
4954	2021-09-10 11시	15시	3-5-3 ACT Sac.oxid Ox. Wet Strip W/S_BOE 1:10 5min 4-1-1 ACT. AREA Active Oxid Pre Cleaning W/S_SPM 120C 10min 4-1-2 ACT. AREA Active Oxid Pre Cleaning W/S_BOE 100:1 DHF 1min 4-1-3 ACT. AREA Active Oxide Pre Cleaning W/S_Acid TMAH 25% 70C 1min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	680,000원
4955	2021-09-13 13시	14시	나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원 사업 전자과 이동훈(010-6763-7749)	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	80,000원
4956	2021-09-13 14시	15시	4-3-1 ACT AREA Backside Etch Oxid Wet Etch W/S_BOE 3min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	240,000원
4957	2021-09-13 16시	17시	4-3-3 ACT AREA Backside Etch SPM PR Strip W/S_SPM 120C	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	120,000원
4958	2021-09-14 14시	16시	1-4-3 Trench Etch Cleaning+Oxide Remv. W/S_Aicd SPM 5m BOE 10:1 20m	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	360,000원
4959	2021-09-15 12시	15시	4-5-1 ACT AREA Acitve Area Oxid Etching Wet etch oxide W/S_BOE 10:1 13min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	240,000원
4960	2021-09-15 16시	17시	Ti/Au가 있으니 spm 사용 후 따로 버릴 폐용기가 필요합니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	이원찬	108,000원
4961	2021-09-15 9시	15시	Cleaning	(주)유우일렉트로닉스	TIS생산사업부	김도현	3,500,000원
4962	2021-09-16 15시	17시	5-1-1 ACT.AREA Oxid Etching SPM PR Strip W/S SPM 120C 5min 4-5-4 ACT.AREA Oxid Etching M Inspect	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	128,000원
4963	2021-09-16 9시	10시	PR Strip-SPM Cleaning 20 min	싸니코전자(주)	개발팀	최주헌	150,000원
4964	2021-09-17 10시	14시	5-1-1 Gate Oxide Pre Cleaning W/S_BOE 100:1 DHF 1min 5-1-2 Gate Oxide Pre Cleaning W/S_Acid TMAH 25% Bath 70C 1min 5-1-3 Gate Oxide Nitiric Acid Treatment W/S_Acid SC1, 1min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	440,000원
4965	2021-09-20 10시	18시	SiC Trench Test 1.5(TT1.5) Lot_Cleaning 공정 All	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	1,200,000원
4966	2021-09-22 10시	18시	SiC Trench Test 1.5(TT1.5) Lot_Cleaning SC2 공정	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	720,000원
4967	2021-09-23 10시	17시	나노융합고도화사업	(주)칩스케이	연구개발팀	임진홍	2,000,000원
4968	2021-09-27 10시	11시	없음	포항공과대학교 대학원	기계공학과	백종현	72,000원
4969	2021-09-27 10시	13시	나노융합기반고도화사업 과제 사용 6inch 50매 E-beam 전 세정	(주)에스제이컴퍼니	개발팀	박상준	450,000원
4970	2021-09-27 17시	19시	x	포항공과대학교 대학원	기계공학과	백종현	72,000원
4971	2021-09-27 9시	10시	PR Strip SPM Cleaning 진행 추가적으로 PR 잔여물 발생시 PR Asher 고려	싸니코전자(주)	개발팀	최주헌	150,000원
4972	2021-09-28 11시	13시	0-1-2 0 fab-in spm clean 0-1-3 0 fab-in sc2 clean 0-1-4 0 fab-in dhf clean 6매 진행	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
4973	2021-09-28 9시	11시	없음	포항공과대학교 대학원	기계공학과	백종현	72,000원
4974	2021-09-29 10시	12시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip 6매 진행	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
4975	2021-09-29 13시	14시	Wafer Condition Oxide 2um+Poly-Si 1um(Phos. doped+Annealing) 공정 조건 PECVD Oxide 2um 증착 이전 APM Cleaning 진행	싸니코전자(주)	개발팀	최주헌	240,000원
4976	2021-09-29 14시	15시	나노융합기반고도화사업 과제 사용 spm cleaning	(주)에스제이컴퍼니	개발팀	박상준	150,000원
4977	2021-09-29 17시	18시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
4978	2021-09-29 22시	23시	X	포항공과대학교 대학원	기계공학과	백종현	72,000원
4979	2021-09-30 16시	17시	BOE 10:! 5min	주식회사 엔포마레	사업총괄	성재석	300,000원
4980	2021-10-06 17시	19시	DHF 200:1 10sec 3회 thickness measurement 8ea * 5pp * 4회 / 12 = 13회 진행	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	560,000원
4981	2021-10-06 23시	24시	DHF 같이 사용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	최민근	170,000원
4982	2021-10-06 9시	10시	SC-1 Cleaning	싸니코전자(주)	개발팀	최주헌	150,000원
4983	2021-10-07 10시	12시	0-1-2 0 Fab-In Pre Cleaning W/S_Acid SPM 120C 10min 0-1-3 0 Fab-In Pre Cleaning W/S_Acid DHF 100:1	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	225,000원
4984	2021-10-07 13시	14시	나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업], 전자과 신성환(010.9081.6590)	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	120,000원
4985	2021-10-07 17시	18시	나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업], 전자과 신성환(010.9081.6590)	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	120,000원
4986	2021-10-07 9시	10시	4inch wafer 25장, SPM처리 신청합니다. 전자과 성수원 (010-6786-0469)	포항공과대학교	전자전기공학과	전길수	120,000원
4987	2021-10-12 10시	15시	나노융합고도화사업	(주)칩스케이	연구개발팀	임진홍	2,500,000원
4988	2021-10-12 13시	14시	-	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	102,000원
4989	2021-10-12 14시	15시	나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업], 전자과 신성환(010.9081.6590)	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	120,000원
4990	2021-10-12 16시	17시	나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업], 전자과 신성환(010.9081.6590)	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	80,000원
4991	2021-10-12 17시	18시	SiC 조각 wafer SPM / BOE	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	105,000원
4992	2021-10-13 10시	11시	나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업], 전자과 신성환(010.9081.6590)	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	120,000원
4993	2021-10-13 11시	12시	나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업], 전자과 신성환(010.9081.6590)	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	80,000원
4994	2021-10-13 15시	16시	5-4-2 Gate Backside Etch Wet Etch Oxide W/S_BOE 1:1 2min target 700A 5-4-4 GATE Backside Etch SPM PR Strip W/S_SPM 120C 10min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	360,000원
4995	2021-10-13 16시	17시	X	포항공과대학교 대학원	기계공학과	백종현	72,000원
4996	2021-10-13 18시	19시	DHF 같이 사용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	최민근	187,000원
4997	2021-10-13 9시	10시	1-6-1 Trench Sac. Oxid Pre Cleaning W/S SPM 100:1 BOE 1min TMAH 25% 70C 1min QDR 5min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	480,000원
4998	2021-10-14 11시	12시	DHF 같이 사용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	최민근	102,000원
4999	2021-10-14 13시	13시	BOE Ox 15 nm Etching	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	270,000원
5000	2021-10-14 15시	16시	x	포항공과대학교 대학원	기계공학과	백종현	72,000원
5001	2021-10-15 10시	12시	Lot ID: SH33087 목적: MLS 증착전 DHF cleaning 총 6장(계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	서준영	0원
5002	2021-10-15 10시	17시	Cleaning	(주)유우일렉트로닉스	TIS생산사업부	김도현	3,500,000원
5003	2021-10-15 11시	12시	1-2-4 AKEY Etch SPM PR strip 120C 10min	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	144,000원
5004	2021-10-15 16시	17시	1-6-3 TRENCH Sac_Oxid Ox Wet Strip BOE 5min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	240,000원
5005	2021-10-18 15시	16시	2-2-4 P+ IMP SPM PR Strip 120C 10min 2-2-5 P+ IMP M Inspect Microscope	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	144,000원
5006	2021-10-18 16시	17시	5-6-8 Gate PolySi Etch SPM PR Strip W/S SPM 120C 5min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	120,000원
5007	2021-10-18 19시	20시	-	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	102,000원
5008	2021-10-19 10시	12시	DHF 200:1 10sec/1min/10min 7회 thickness measurement 5ea * 5pp * 9회 / 12 = 18회 진행	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	1,060,000원
5009	2021-10-19 11시	12시	0-1-2 0 Fab-In Cleaning W/S_Acid SPM 120C / 10min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
5010	2021-10-19 11시	12시	0-1-3 0 Fab-In Pre Cleaning W/S Acid SC1 APM 70C 10min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
5011	2021-10-19 14시	15시	SPM + QDR + Spin Dry 진행	(주)예스파워테크닉스	연구소	박현	108,000원
5012	2021-10-19 16시	17시	DHF 1:100 SiO2 etching test (25초, 50초, 75초, 100초) 전자과 윤주영(010-2768-0418), 서태원	포항공과대학교	전자전기공학과	전길수	80,000원
5013	2021-10-19 17시	18시	3-3-1 P+ Sheet off Oxide ETch Wet etch BOE 10:1 168s 3-3-3 P+ Sheet off Oxide Etch M Inspect Microscope	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	279,000원
5014	2021-10-19 9시	10시	x	포항공과대학교 대학원	기계공학과	백종현	72,000원
5015	2021-10-20 13시	14시	SiC 조각 wafer 9ea SPM SC1 PECVD ox 3000A	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	270,000원
5016	2021-10-20 14시	15시	3-4-1 Junc. Metal Oxice Etch Wet Station Acid DHF 100:1 sec	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	90,000원
5017	2021-10-20 16시	17시	나노콘(고도화사업) spm cleaning	나노콘	나노콘연구소	조윤빈	150,000원
5018	2021-10-21 14시	16시	선도연구시설 고도화 지원사업_Thinfilm [4.0021961.01]	나노융합기술원	대외협력팀	한동희	3,000,000원
5019	2021-10-21 16시	17시	6-2-3 Field Oxide Backside ETch Dry etch oxide & SiC wet 3min BOE	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	240,000원
5020	2021-10-22 14시	15시	x	포항공과대학교 대학원	기계공학과	백종현	72,000원
5021	2021-10-22 17시	18시	6-2-5 Field Oxide Backside Etch SPM PR Strip W/S_SPM 120C 10min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	120,000원
5022	2021-10-25 10시	12시	SPM + DHF	경북대학교	기계공학부	곽문규	250,000원
5023	2021-10-26 10시	12시	0-1-2 0 fab-in spm clean 0-1-3 0 fab-in sc2 clean 0-1-4 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
5024	2021-10-27 11시	12시	1-3-2- AKEY PR Remove SPM PR Strip Wet STation_Aicd SPM 120C HQDR 7min QDR 7min	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
5025	2021-10-27 16시	17시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	112,500원
5026	2021-10-28 10시	11시	나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업], 전자과 신성환(010.9081.6590)	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	120,000원
5027	2021-10-28 11시	12시	나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업], 전자과 신성환(010.9081.6590)	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	80,000원
5028	2021-11-01 9시	10시	나노융합기반고도화사업 과제 사용 SPM Cleaning	(주)에스제이컴퍼니	개발팀	박상준	150,000원
5029	2021-11-02 17시	18시	0-1-2 0 fab-in spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
5030	2021-11-02 8시	10시	DHF 200:1 10sec 3회 thickness measurement 8ea * 5pp * 4회 / 12 = 14회 진행	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	580,000원
5031	2021-11-03 10시	11시	0-1-2 0 Fab-In Marking SPM 120C 10min HQDR 7min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
5032	2021-11-03 11시	12시	0-1-5 0 Fab-In Poly Si Remove TMAH WET Bath 90C 5min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
5033	2021-11-04 11시	12시	DHF 1:100 처리 진행하겠습니다. 전자과 윤주영(010-2768-0418), 서태원	포항공과대학교	전자전기공학과	성수원	108,000원
5034	2021-11-04 14시	15시	7-2-2 CONT PE_oxide etch Bath_BOE 1/2/3 wafer 15s 4 wafer 1m	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	240,000원
5035	2021-11-04 15시	16시	1-2-2 N_Open Etch PR remove Wet Station 120C 10min > HQDR 7min 1-2-3 N_Open Etch OM 확인 1-2-4 N_Open Etch Profiler	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	165,000원
5036	2021-11-04 16시	17시	1-2-2 F_Via GaN Etch PR Remove Set STation_Acid SPM 120C 10min HQDR 7min 1-2-3 F_Via GaN Etch OM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
5037	2021-11-04 17시	18시	나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업], 전자과 신성환(010.9081.6590)	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	120,000원
5038	2021-11-05 10시	11시	HF 사용할 예정이며 직접 이용으로 신청합니다.	포항공과대학교	기계공학과	이상엽	72,000원
5039	2021-11-05 13시	16시	3-3-1 F_POE Oxide Etch Descum PR Ahser_FEOL 85C 30s Descum 3-3-2 F_POE Oxide ETch Oxide Wet Etch BOE 10:1 160s 3-3-4 F_POE Oxide Etch PR remove Wet Station_Acid SPM 120C 10min HQDR 7min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	442,500원
5040	2021-11-05 17시	18시	BOE 10s 100A target / 4ea	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	240,000원
5041	2021-11-08 11시	12시	SPM 10 min	나노콘	나노콘연구소	조윤빈	135,000원
5042	2021-11-08 11시	12시	SPM / DHF	경북대학교	기계공학부	곽문규	250,000원
5043	2021-11-08 14시	15시	SPM dHF 동시 사용	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	170,000원
5044	2021-11-09 15시	16시	4-2-3 ISO-1 GaN Etch PR remove Wet station_Acid SPM 120C 20min 4-2-4 ISO-2 GaN ETch OM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
5045	2021-11-09 9시	18시	나노융합고도화사업	(주)칩스케이	연구개발팀	임진홍	4,000,000원
5046	2021-11-10 10시	11시	DHF 200:1 10sec 3회 thickness measurement 5ea * 5pp * 4회 / 12 = 9회 진행	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	480,000원
5047	2021-11-10 11시	12시	나노융합기반고도화사업 과제 사용 APM Cleaning	(주)에스제이컴퍼니	개발팀	박상준	150,000원
5048	2021-11-10 14시	18시	2-3-2 F_POE Etch Oxide Wet Etch Wet Station BOE 10:1 140s 2-3-4 F_POE Etch PR remove Wet Station_Aicd SPM 120c 10min HQDR 7min 2-3-5 F_POE Etch Profiler 2-3-6 F_POE Etch OM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	390,000원
5049	2021-11-10 17시	18시	4-2-4 ISO-2 GaN Etch PR remove Wet Station_Acid SPM 120C 20min 4-2-5 ISO-2 GaN Etch OM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
5050	2021-11-10 17시	18시	SPM	한국전자통신연구원	ICT창의연구소	유성욱	150,000원
5051	2021-11-11 11시	14시	선도연구시설 고도화 지원사업_Thinfilm [4.0021961.01]	나노융합기술원	대외협력팀	한동희	3,000,000원
5052	2021-11-11 20시	21시	-	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	102,000원
5053	2021-11-15 11시	12시	SPM 10 min	나노콘	나노콘연구소	조윤빈	135,000원
5054	2021-11-15 12시	13시	SPM 직접 처리 하겠습니다. 전자과 윤주영, 서태원	포항공과대학교	전자전기공학과	성수원	108,000원
5055	2021-11-15 20시	21시	-	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	102,000원
5056	2021-11-16 10시	18시	Cleaning	(주)유우일렉트로닉스	TIS생산사업부	김도현	3,500,000원
5057	2021-11-19 17시	18시	1-2-2 N_open GaN ETCH PR remove SPM 120C 10min HQDR 7min 1-2-3 N_open GaN Etch OM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
5058	2021-11-19 9시	10시	0-1-2 0 Fab_In Marking SPM 120C 10min HQDR 7min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
5059	2021-11-22 15시	16시	SPM처리 전자과 윤주영, 서태원	포항공과대학교	전자전기공학과	성수원	108,000원
5060	2021-11-23 14시	15시	dHF Oxide Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	68,000원
5061	2021-11-24 16시	17시	나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업], 전자과 신성환(010.9081.6590)	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	120,000원
5062	2021-11-24 21시	22시	DHF 같이 사용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	최민근	170,000원
5063	2021-11-25 14시	15시	spm cleaning	한국전자통신연구원	ICT창의연구소	유성욱	150,000원
5064	2021-11-25 14시	15시	나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업], 전자과 신성환(010.9081.6590)	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	120,000원
5065	2021-11-25 19시	20시	SPM Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	102,000원
5066	2021-11-25 21시	22시	DHF 같이 사용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	최민근	170,000원
5067	2021-11-26 14시	15시	LOT ID: NDC21Y46W #1~#20 (CAP wafer) 목적: CA SPM Cleaning (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	최준석	0원
5068	2021-11-29 14시	15시	x	포항공과대학교 대학원	기계공학과	백종현	72,000원
5069	2021-11-29 15시	16시	LOT ID: NDC21Y46W #1~#5 (CAP wafer) 목적:Si 식각 2000 A/ CA 공정 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	최준석	0원
5070	2021-11-29 9시	10시	PR strip	SK 주식회사 머티리얼즈 CIC	Color&Dispersion팀	임유빈	450,000원
5071	2021-12-01 11시	12시	0-1-2 0 Cleaning Pre Cleaning Wet Station SPM 10min	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	0원
5072	2021-12-01 13시	14시	LOT ID: NDC21Y46W #6~#10 (CAP wafer) 목적: CA공정/ Si 식각 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	최준석	0원
5073	2021-12-02 10시	11시	SPM 10 min	나노콘	나노콘연구소	조윤빈	135,000원
5074	2021-12-02 15시	16시	나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업], 전자과 신성환(010.9081.6590)	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	96,000원
5075	2021-12-02 20시	21시	나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업], 전자과 신성환(010.9081.6590)	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	64,000원
5076	2021-12-06 14시	15시	전자과 윤주영/서태원 quartz/Si wafer 1장씩 SPM 처리 부탁드립니다. E-Beam evaporator 2호 박성민 ni 1000A	포항공과대학교	전자전기공학과	성수원	335,000원
5077	2021-12-07 10시	12시	나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업], 전자과 신성환(010.9081.6590)	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	96,000원
5078	2021-12-07 14시	15시	LOT ID: NDC21Y46W (CAP wafer 10매) 목적: CA 공정 Si 30 um 식각 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	최준석	0원
5079	2021-12-07 15시	16시	나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업], 전자과 신성환(010.9081.6590)	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	64,000원
5080	2021-12-08 13시	14시	LOT ID: NDC21Y46W (CAP wafer) 5매 목적: CA공정/ Si 2000 A 식각 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	최준석	0원
5081	2021-12-08 15시	16시	LOT ID: NDC21Y46W (CAP wafer) 20매 목적: CA공정/ Hardmask (SiO2) 제거 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	최준석	0원
5082	2021-12-08 15시	16시	0-2-1 0 Fab-In Pre Cleaning W/S_Acid 120C 10min	삼성전자	Display Innovation Lab.	이근식	150,000원
5083	2021-12-08 20시	21시	나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업], 전자과 신성환(010.9081.6590)	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	96,000원
5084	2021-12-09 12시	13시	9-2-4 Gate Cont Gate Cont PR remove W/S_Manual DHF 10s	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	80,000원
5085	2021-12-09 16시	17시	3-3-2 poe oxide etch oxide wet etch boe 3-3-3 poe oxide etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	337,500원
5086	2021-12-09 16시	17시	0-1-2 fab-in pre cleaning spm 0-1-3 fab-in pre cleaning dhf	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	220,000원
5087	2021-12-09 20시	21시	SPM Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	102,000원
5088	2021-12-13 13시	14시	spm cleaning	한국전자통신연구원	ICT창의연구소	유성욱	150,000원
5089	2021-12-13 14시	15시	0-1-2 0 Fab-In Pre Cleaning W/S_Acid SPM 10min	주식회사 엔포마레	사업총괄	성재석	150,000원
5090	2021-12-13 15시	16시	나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업], 전자과 신성환(010.9081.6590)	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	64,000원
5091	2021-12-14 17시	18시	4-2-3 ISO-1 GaN Etch PR Remove Wet Station_Acid SPM 120C 20min 4-2-4 OM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
5092	2021-12-14 18시	19시	1-2-4 AKEY Etch SPM PR Strip Bath_SPM 120C 10min 1-2-5 Microscope	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	143,500원
5093	2021-12-14 9시	10시	TMAH 25%, DHF	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	360,000원
5094	2021-12-15 14시	15시	dHF Oxide Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	68,000원
5095	2021-12-15 14시	15시	0-2-1 fab-in cleaning spm	템퍼스	생산기술팀	서영민	142,500원
5096	2021-12-15 18시	19시	-	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	68,000원
5097	2021-12-15 19시	20시	2-3-2 SiO2 Oxide Wet Etch Wet Station_Acid BOE 10:1 255s	삼성전자	Display Innovation Lab.	이근식	300,000원
5098	2021-12-15 9시	18시	나노융합기반고도화사업 과제 사용 spm + apm 총 12회 반복	(주)에스제이컴퍼니	개발팀	박상준	3,600,000원
5099	2021-12-16 10시	17시	Cleaning	(주)유우일렉트로닉스	TIS생산사업부	김도현	3,500,000원
5100	2021-12-16 16시	17시	4-2-4 iso-2 gan etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
5101	2021-12-16 17시	19시	나노융합기반고도화사업 과제 사용 spm + apm 총 6회 반복	(주)에스제이컴퍼니	개발팀	박상준	1,800,000원
5102	2021-12-16 9시	12시	0-1-2 0 fab-in spm clean 0-1-3 0 fab-in sc2 clean 0-1-4 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
5103	2021-12-17 1시	10시	SiN로 마스크가 패터닝된 SOI wafer의 wet etching을 진행하려고 합니다. TMAH 기반으로 triton x-100이라는 계면활성제를 미량 첨가하여 진행했으면 합니다. Wet etching의 recipe는 70도 60 min 입니다. 웨이퍼의 수량은 1/4 조각으로 쪼개진 4 inch SOI 조각 웨이퍼 4개입니다. Triton x-100의 양은 1L bath를 사용할 경우 1mL 정도를 넣으면 되고, 공정의 확인 테스트이므로 어느정도 order만 맞춰서 넣어주시면 됩니다. wet etching시 agitation은 오히려 공정의 결과를 약화시키므로 사용되지 않았으면 합니다. Triton x-100 용액과 조각 웨이퍼는 \\\'KYS\\\'로 표시해놓았으며 맡기는 시편 보관함에 놓았습니다.	포항공과대학교 대학원	기계공학과	김영신	270,000원
5104	2021-12-20 11시	12시	DHF 200:1 10sec 3회 thickness measurement 4ea * 5pp * 4회 / 12 = 7회 진행	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	440,000원
5105	2021-12-20 13시	15시	SPM 10 min	나노콘	나노콘연구소	조윤빈	135,000원
5106	2021-12-20 14시	15시	2-3-1 Passi. Open Etch Descum PR Aher-FEOL_2 85C 30s Descum 2-3-2 Passi. Open Etch Oxide Wet Etch Bath_ACID BOE 10:1 8min (나노융합기반고도화사업)	주식회사 엔포마레	사업총괄	성재석	380,000원
5107	2021-12-22 10시	11시	0-1-2 0 Fab-In SPM Clean Wet STation_Acid SPM 120C 10min HQDR 7min	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	105,000원
5108	2021-12-22 11시	13시	0-1-2 0 Fab-In SPM 0-1-3 0 Fab-In SC2 0-1-4 0 Fab-IN DHF	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	412,500원
5109	2021-12-22 9시	10시	2-2-4 P+ IMP SPM PR Strip Bath_SPM 120C 10min 2-2-5 P+ IMP M Inspect Microscope	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	143,500원
5110	2021-12-23 10시	11시	1-3-2 AKEY PR Remmove SPM PR Strip Wet Station_Aicd SPM 120C HQDR 7min QDR 7min 1-3-4 AKEY M Inspect	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	232,500원
5111	2021-12-23 16시	17시	2-2-1 p+ sheet off oxide detch wet etch 3-3-3 P+ Sheet off Oxide Etch M Inspect microscope	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	287,000원
5112	2021-12-23 16시	17시	SPM+DHF+SPM SPM 만 청구 협의됨.	경북대학교	기계공학부	곽문규	150,000원
5113	2021-12-24 13시	14시	dHF oxide cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	68,000원
5114	2021-12-24 14시	15시	1-3-2 AKEY PR Remove SPM PR Strip Wet Station_Aicd SPM 10min HQDR 7min QDR 7min OM	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	232,500원
5115	2021-12-24 8시	15시	나노융합기반고도화사업 과제 사용 spm + apm 총 12회 반복	(주)에스제이컴퍼니	개발팀	박상준	3,600,000원
5116	2021-12-27 12시	13시	x	포항공과대학교 대학원	기계공학과	백종현	72,000원
5117	2021-12-29 11시	12시	dhf 8min	포항공과대학교	전자전기공학부	신성환	64,000원
5118	2021-12-29 12시	13시	ㅡ	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	68,000원
5119	2021-12-29 14시	15시	초기 공정 없음. 알루미나 샘플. spm cleaning 사용할 예정입니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	이원찬	108,000원
5120	2021-12-29 18시	19시	DHF 같이 사용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	최민근	170,000원
5121	2021-12-31 10시	11시	X	포항공과대학교	저차원 전달 물질 연구소	장준혁	72,000원
5122	2022-01-03 13시	14시	0-2-1 0 Fab-In Pre Cleaning W/S_Acid SPM 120C / 10min 1-1-1 initial Oxide PEoxide Depo 2000A	삼성전자	Display Innovation Lab.	이근식	510,000원
5123	2022-01-03 15시	16시	LOT ID:NDC21Y51W #1~#17 (CAP Wafer) 목적: DC etch 클리닝 APM사용 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	최준석	0원
5124	2022-01-04 11시	12시	acid strip acid spm 10min	한국전자통신연구원	ICT창의연구소	유성욱	150,000원
5125	2022-01-04 16시	17시	1-3-3 PR STRIP(SPM)	리노공업	리노공업	곽영대	150,000원
5126	2022-01-04 17시	18시	1-3-4 Native Oxide Remove	리노공업	리노공업	곽영대	100,000원
5127	2022-01-05 10시	11시	2-1-1 Si etch	리노공업	리노공업	곽영대	300,000원
5128	2022-01-05 11시	12시	2-2-1 Oxide Remove	리노공업	리노공업	곽영대	300,000원
5129	2022-01-05 15시	17시	3-3-2 SIO2 Oxide Etch BOE 10:1 255s 4000A target	삼성전자	Display Innovation Lab.	이근식	300,000원
5130	2022-01-10 14시	15시	[21년도 전문 인력 양성 고급실습 교육] - Pre- Cleaning 2장 진행	나노융합기술원	사업지원팀	21년도 전문인력 5조	0원
5131	2022-01-10 16시	17시	x	포항공과대학교 대학원	기계공학과	백종현	72,000원
5132	2022-01-12 11시	12시	[21년도 전문인력양성 고급실습교육] SPM 120C 10min 진행	나노융합기술원	사업지원팀	21년도_전문인력 6조	0원
5133	2022-01-12 21시	22시	DHF 같이 사용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	최민근	102,000원
5134	2022-01-13 14시	15시	si 식각, asher 후 세정 작업 용도	나노융합기술원	사업지원팀	21년도 전문인력 1조	0원
5135	2022-01-13 15시	17시	[21년도 전문인력양성 고급실습교육] 스트레스 측정전 웨이퍼 세정공정진행	나노융합기술원	사업지원팀	21년도 전문인력 4조	0원
5136	2022-01-13 9시	11시	0-1-2 0 Fab-In Pre Cleaning W/S_Acid SPM 120C 10min 0-1-3 0 Fab-In Pre Cleaning W/S Acid SC1 70C 10min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
5137	2022-01-14 14시	15시	x	포항공과대학교 대학원	기계공학과	백종현	72,000원
5138	2022-01-17 10시	12시	Si 1um wet etch 하고자 합니다.	나노융합기술원	사업지원팀	21년도 전문인력 1조	0원
5139	2022-01-17 14시	15시	X	포항공과대학교	저차원 전달 물질 연구소	장준혁	72,000원
5140	2022-01-18 10시	12시	[21년도 전문인력양성 고급실습교육] SPM + DHF	나노융합기술원	사업지원팀	21년도_전문인력 6조	0원
5141	2022-01-18 14시	15시	[21년도 전문인력양성 1조] 식각 후 클리닝을 위해서 신청합니다.	나노융합기술원	사업지원팀	21년도 전문인력 1조	0원
5142	2022-01-19 11시	12시	1-2-3 Active Etch SPM 10min OM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
5143	2022-01-19 14시	15시	DHF 같이 사용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	최민근	170,000원
5144	2022-01-19 15시	16시	2-1-1 Gate Oxid Nitric Acid Treatment W/S Acid SC1 1min 상온	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	120,000원
5145	2022-01-19 8시	9시	0-1-2 Pre clean	리노공업	리노공업	곽영대	150,000원
5146	2022-01-20 13시	14시	SPM	한국전자통신연구원	ICT창의연구소	유성욱	150,000원
5147	2022-01-20 15시	16시	1-3-3 PR STRIP(SPM)	리노공업	리노공업	곽영대	150,000원
5148	2022-01-20 17시	18시	1-3-4 Native Oxide Remove	리노공업	리노공업	곽영대	100,000원
5149	2022-01-21 10시	11시	2-2-1 Oxide Remove	리노공업	리노공업	곽영대	300,000원
5150	2022-01-21 10시	11시	PR 제거용 SPM 온도 미리 올려주시면 감사하겠습니다	포항공과대학교	전자전기공학과	최원영	96,000원
5151	2022-01-21 11시	12시	2-1-1 Si etch	리노공업	리노공업	곽영대	300,000원
5152	2022-01-21 13시	14시	x	포항공과대학교	저차원 전달 물질 연구소	장준혁	72,000원
5153	2022-01-21 16시	17시	1-4-4 poly si etch pr remove spm	템퍼스	생산기술팀	서영민	142,500원
5154	2022-01-24 16시	17시	X	포항공과대학교	저차원 전달 물질 연구소	장준혁	72,000원
5155	2022-01-26 11시	12시	LOT ID: NDM22Y04W 목적: AS공정 중 DHF 총 6장(계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5156	2022-01-27 11시	12시	2-2-6 P+ SPM PR Strip 2-2-7 P+ IMP M Inspect	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
5157	2022-02-07 15시	16시	BOX layer 제거를 위해 직접사용으로 신청합니다.	포항공과대학교	기계공학과	이상엽	72,000원
5158	2022-02-07 16시	17시	3-2-4- N-GaN Etch SPM PR strip 120C 10min 3-2-5 N-GaN Etch Thick Meas Alpha Step 3-2-6 N_GaN Etch M Inspect	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	172,500원
5159	2022-02-07 18시	20시	DHF 같이 진행	포항공과대학교	창의IT융합공학과	최민근	102,000원
5160	2022-02-08 15시	16시	4-2-2 P-Contact etch Oxide wet etch BOE 10:1 1000A target 70s	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
5161	2022-02-08 17시	18시	4-2-4 P-Contact etch SPM PR strip Bath_SPM 120C 10min 4-2-5 P-Contact etch M inspect	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
5162	2022-02-08 20시	21시	새로 갈아서 쓸 예정이라 저녁시간에 이용하겠습니다. 010 9081 6590 전자과 신성환	포항공과대학교	전자전기공학부	신성환	160,000원
5163	2022-02-09 10시	11시	2-2-4 2nd si etch pr remove spm + dhf	경북대학교	기계공학부	곽문규	260,000원
5164	2022-02-15 11시	12시	X	포항공과대학교	저차원 전달 물질 연구소	장준혁	72,000원
5165	2022-02-15 15시	16시	-	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	102,000원
5166	2022-02-15 19시	20시	cleaning	포항공과대학교	전자전기공학부	신성환	96,000원
5167	2022-02-15 20시	21시	.	포항공과대학교	전자전기공학부	신성환	64,000원
5168	2022-02-16 12시	13시	BOX layer 제거를 위해 직접사용으로 신청합니다.	포항공과대학교	기계공학과	이상엽	72,000원
5169	2022-02-17 10시	11시	dHF Oxide Cleaning	포항공과대학교	전자전기공학과	곽현탁	68,000원
5170	2022-02-17 11시	12시	0-1-2 Fab-In Pre Cleaning W/S_Acid SPM 120C 10min	(주)엘란테크놀러지	기술	(주)엘란테크놀러지	255,000원
5171	2022-02-17 15시	16시	HF사용예정입니다.	포항공과대학교	저차원 전달 물질 연구소	장준혁	72,000원
5172	2022-02-18 15시	17시	.알루미나 칩 3장 세정입니다.	포항공과대학교 대학원	QCQN	홍정수	108,000원
5173	2022-02-18 17시	18시	4-2-2 DRIE PR Strip PR Remove W/S _ Acid SPM 120C 10min 4-2-4 DRIE OM	(주)엘란테크놀러지	기술	(주)엘란테크놀러지	160,000원
5174	2022-02-21 11시	13시	1월10일 진행건 DHF 200:1 10sec 3회 thickness measurement 4ea * 5pp * 4회 / 12 = 7회 진행 1월17일 진행건 DHF 200:1 10sec 3회 thickness measurement 5ea * 5pp * 4회 / 12 = 9회 진행 2월17일 진행건 DHF 200:1 10sec 3회 thickness measurement 4ea * 5pp * 4회 / 12 = 7회 진행	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	1,360,000원
5175	2022-02-21 15시	16시	DHF 같이 사용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	최민근	170,000원
5176	2022-02-21 21시	22시	dHF	포항공과대학교	전자전기공학부	신성환	64,000원
5177	2022-02-22 10시	12시	M01 0-1-3 Fab-In PR Strip W/S Acid SPM 120C 10min M02 0-1-2 Fab-In PR Strip W/s Acid SPM 120C 10min	서강대학교	전자공학과	이장우	150,000원
5178	2022-02-22 10시	12시	0-1-2 0 Fab-in pre cleaning SPM 120C 10min 0-1-3 0 Fab-In Pre cleaning SC1 70C 10min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
5179	2022-02-22 16시	17시	Boe사용합니다.	포항공과대학교	저차원 전달 물질 연구소	장준혁	72,000원
5180	2022-02-23 9시	12시	전문인력양성사업 나노 소자공정 교육 Wet Station_Acid	나노융합기술원	교육홍보팀	김동기	3,000,000원
5181	2022-02-24 9시	10시	1-2-3 Active Etch SPM PR Strip Bath_SPM 120C 10m 1-2-4 Active Etch M INspect Microscope	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	120,000원
5182	2022-02-28 14시	15시	HF받아주시면 감사하겠습니다. 소량(디쉬 반정도 채울 양)만 있으면 됩니다.	포항공과대학교	저차원 전달 물질 연구소	장준혁	72,000원
5183	2022-02-28 17시	18시	2-2-6 p+ imp spm pr strip spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
5184	2022-03-02 10시	11시	Wet Station_DHF	조선대학교	신소재공학과	박진성	100,000원
5185	2022-03-02 10시	11시	DHF 같이 사용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	최민근	102,000원
5186	2022-03-02 16시	17시	HF(50%)사용 예정입니다. (직접사용)	포항공과대학교	저차원 전달 물질 연구소	장준혁	72,000원
5187	2022-03-02 9시	12시	1월10일 진행건 DHF 200:1 10sec 3회 thickness measurement 6ea * 5pp * 4회 / 12 = 10회 진행	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	400,000원
5188	2022-03-03 10시	11시	0-1-2 0 Fab-In Pre-Cleaning SPM 120C HQDR 7 min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
5189	2022-03-03 13시	14시	Wafer Pre-cleaning	삼성디스플레이	선행제품연구팀	박후근	300,000원
5190	2022-03-03 15시	16시	Wet Station_DHF	조선대학교	신소재공학과	박진성	100,000원
5191	2022-03-04 10시	11시	X	포항공과대학교	저차원 전달 물질 연구소	장준혁	72,000원
5192	2022-03-04 11시	12시	Pt Wet Etch, 왕수 60℃, 30분	조선대학교	신소재공학과	박진성	148,182원
5193	2022-03-04 11시	13시	1-2-2 N_Open GaN Etch PR remove Wet Station_Acid SPM 120C 20min HQDR 7min 1-2-3 N_Open GaN Etch OM 1-2-4 N_open GaN Etch Profiler	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	307,500원
5194	2022-03-04 9시	10시	3-2-4 N-GaN Etch SPM PR strip Bath_SPM 120C 10min 3-2-5 Alpha Step(Skip) 3-2-6 OM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	135,000원
5195	2022-03-07 11시	13시	3-2-2 POE Oxide ETch Oxide Wet ETch Wet Station BOE 10:1 3000A 160s 3-2-3 POE Oxide ETch PR Remove SPM 120C 10min HQDR 7min 3-2-4- POE Gan Etch Profiler 1ea 3-2-5 F_POE Oxide Etch OM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	735,000원
5196	2022-03-07 13시	15시	PR Remove	삼성디스플레이	선행제품연구팀	박후근	150,000원
5197	2022-03-07 16시	18시	4-2-2 P-Contact Etch Oxide Wet Etch BOE 10:1 70s 4-2-4 P-contact Etch SPM PR Strip 120C 10m 4-2-5 P-Contact Etch OM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	360,000원
5198	2022-03-07 17시	18시	0-1-2 편성 Fab-In Pre Cleaning W/S_Acid SPM 120C 10min	한국산업기술대학교	나노반도체공학과	김창규	150,000원
5199	2022-03-08 13시	14시	2-4-4 Gate Backside Etch Wet etch gate oxide W/S_BOE	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	240,000원
5200	2022-03-08 13시	15시	SiO2 Remove(BOE)	삼성디스플레이	선행제품연구팀	박후근	150,000원
5201	2022-03-08 15시	18시	0-1-2 0 Fab-In SPM Clean WEt Station_Acid SPM 120C 10min HQDR 7min 8-4-1 M1 2nd IMD Depo PE_Oxide Depo PECVD 5000A N2O/SiH4= 72 선행	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	714,000원
5202	2022-03-10 12시	13시	HF사용예정입니다.	포항공과대학교	저차원 전달 물질 연구소	장준혁	72,000원
5203	2022-03-10 16시	17시	0-1-3 편성 fab-in pre cleaning spm	한국과학기술연구원	스핀융합연구단	김승환	268,000원
5204	2022-03-11 11시	12시	BOX layer 제거를 위해 HF 용액 사용할 예정입니다.	포항공과대학교	기계공학과	이상엽	72,000원
5205	2022-03-11 14시	15시	x	포항공과대학교 대학원	기계공학과	백종현	68,000원
5206	2022-03-11 16시	18시	3-1-1 Etch Oxide Wet Etch W/S_Acid BOE SiO2, 5000A Etch 300s 3-1-2 Etch Oxide OM 3-2-2 Etch PR Strip PR Remove W/S_Acid SPM 120C 10min 3-2-4 M_Etch OM DHF 2회	한국과학기술연구원	스핀융합연구단	김승환	570,000원
5207	2022-03-11 16시	17시	2-4-6 Gate Backside Etch spm pr strip 2-4-7 Gate Backside Etch native oxide etch dhf	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	200,000원
5208	2022-03-14 10시	11시	X	포항공과대학교	저차원 전달 물질 연구소	장준혁	72,000원
5209	2022-03-14 20시	21시	-	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	102,000원
5210	2022-03-15 10시	11시	X	포항공과대학교	저차원 전달 물질 연구소	장준혁	72,000원
5211	2022-03-15 12시	13시	두 건입니다.	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	도정현	136,000원
5212	2022-03-15 18시	19시	DHF 같이 사용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	최민근	102,000원
5213	2022-03-16 15시	16시	X	포항공과대학교	저차원 전달 물질 연구소	장준혁	72,000원
5214	2022-03-17 13시	15시	4-2-3 iso-1 gan etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
5215	2022-03-17 20시	22시	4-2-4 iso-2 gan etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
5216	2022-03-18 15시	16시	-	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	68,000원
5217	2022-03-22 10시	20시	\"나노 반도체 공정 마스터 과정 실습교육_LX세미콘\" Wet Station 교육	나노융합기술원	교육홍보팀	김동기	3,400,000원
5218	2022-03-23 15시	16시	-	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	102,000원
5219	2022-03-23 16시	17시	-	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	68,000원
5220	2022-03-24 14시	18시	3월24일진행건 DHF 200:1 10sec 3회 thickness measurement 4ea * 5pp * 4회 / 12 = 7회 진행	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	440,000원
5221	2022-03-25 14시	15시	LOT ID: NDC21Y51W (CAP wafer) 20매 목적: CA 공정 Si 식각 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	최준석	0원
5222	2022-03-29 11시	12시	X HF사용(본인 소유) 예정입니다.	포항공과대학교	저차원 전달 물질 연구소	장준혁	72,000원
5223	2022-03-29 17시	18시	BOX layer 제거를 위해 HF 용액 사용 예정입니다.	포항공과대학교	기계공학과	이상엽	72,000원
5224	2022-03-31 16시	17시	LOT ID: NDB22Y13W 목적: AS공정 DHF 총 6장(계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5225	2022-04-04 10시	11시	LOT ID: NDC22Y12W 목적: DC Cleaning 공정 중 DHF 총 20장(계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5226	2022-04-04 11시	12시	x	포항공과대학교	저차원 전달 물질 연구소	장준혁	68,000원
5227	2022-04-04 15시	17시	SPM cleaning_Glass wafer 8\\\" 30EA	주식회사 보다	연구개발	김형원	405,000원
5228	2022-04-04 17시	18시	4-2-4 iso-2 gan etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	112,500원
5229	2022-04-05 11시	12시	0-1-2 0 fab-in spm cleaning 6ea	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
5230	2022-04-05 12시	13시	X	포항공과대학교	저차원 전달 물질 연구소	장준혁	68,000원
5231	2022-04-05 18시	19시	1-2-2 n_open gan etch pr remove spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
5232	2022-04-05 20시	21시	-	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	102,000원
5233	2022-04-06 16시	18시	LOT ID: NDC22Y12W 목적: CA공정 중 SPM 총 20장(계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5234	2022-04-06 16시	17시	PR Remove(SPM)	삼성디스플레이	선행제품연구팀	박후근	150,000원
5235	2022-04-06 9시	10시	SPM cleaning	(주)싸이너스	연구개발	홍태권	240,000원
5236	2022-04-07 12시	17시	3-3-2 POE Oxide Wet Etch Wet Station BOE 10:1 160s 3-3-4 POE Oxide Etch PR remove SPM 120C HQDR 3-3-5 POE GaN Etch 단차 측정 3-3-6 F_POE OM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	725,000원
5237	2022-04-08 10시	11시	SPM cleaing	(주)싸이너스	연구개발	홍태권	360,000원
5238	2022-04-11 10시	11시	0-1-2 Fab In Marking SPM 120C 10min HQDR 7min	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
5239	2022-04-11 16시	17시	4-2-3 ISO-1 Gan Etch PR remove Wet Station_Acid SPM 120C 20m 4-2-4 ISO-1 OM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	232,500원
5240	2022-04-12 9시	12시	1-2-2 N_open GaN Etch PR Remove Wet Station_Acid SPM 120C 1m HQDR 7m 1-2-3 N_open GaN Etch OM 1-2-4 N_open GaN Etch Profiler	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	275,000원
5241	2022-04-13 10시	11시	0-2-1 0 Fab-In Pre Cleaning W/S _Acid SPM 120c 10min	한국기계연구원	나노역학장비연구실	김현돈	150,000원
5242	2022-04-13 13시	17시	3-3-1 POE Oxide Etch Descum 3-3-2 POE Oxide Wet ETch BOE 10:1 160s 3-3-4 POE Oxide Etch PR remove SPM 120C 10m HQDR 7m 3-3-5 POE GaN Etch Profiler 3-3-6 F_POE Oxide Etch OM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	920,000원
5243	2022-04-13 14시	15시	PR Remove(SPM)	삼성디스플레이	선행제품연구팀	박후근	150,000원
5244	2022-04-13 9시	10시	0-1-2 0 Fab-In Pre Cleaning W/S _Acid SPM 120c 10min	순천대학교	첨단부품소재공학과	이종수	150,000원
5245	2022-04-14 15시	17시	4-2-4 ISO-GaN Etch PR remove Wet Station_Acid SPM 120C 20m 4-2-5 ISO-2 GaN Etch OM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	232,500원
5246	2022-04-18 10시	11시	0-2-1 0 Fab-In Pre Cleaning W/S_Acid SPM 120C 10m 1-1-1 SiO2 Insulator Oxide Depo PE_Oxide 1.5um	주식회사 이엔아이솔루션	공정	임태산북두	1,830,000원
5247	2022-04-18 11시	12시	0-1-2 0 Fab-In Marking SPM 120C 10m HQDR 7m	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
5248	2022-04-18 15시	17시	4-2-3 ISO-1 GaN Etch PR remove SPM 120C 20m 4-2-4 OM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	232,500원
5249	2022-04-18 17시	18시	3월24일진행건 DHF 200:1 10sec 3회 thickness measurement 7ea * 5pp * 4회 / 12 = 12회 진행	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	540,000원
5250	2022-04-18 9시	10시	1-2-3 1st Si Etch PR remove W/S Acid SPM 120C 10m 1-2-4 1st Si Etch Inspection OM/Profiler	순천대학교	첨단부품소재공학과	이종수	215,000원
5251	2022-04-19 14시	18시	SPM cleaning	(주)싸이너스	연구개발	홍태권	240,000원
5252	2022-04-20 14시	15시	0-2-1 0 Fab-In Pre Cleaning W/S_Acid SPM 120C 10m	(주)에스제이컴퍼니	개발팀	박상준	0원
5253	2022-04-20 15시	16시	0-1-2 0 Fab-In Pre Cleaning W/S_Acid SPM 120C 15m	경북대학교	기계공학부	곽문규	150,000원
5254	2022-04-20 9시	14시	1-2-2 N_open GaN Etch PR Remove Wet Station_Acid SPM 120C 1m HQDR 7m 1-2-3 N_open GaN Etch OM 1-2-4 N_open GaN Etch Profiler	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	285,000원
5255	2022-04-21 14시	16시	3-2-2 POE Oxide Etch Oxide Wet Etch Wet STation BOE 10:1 3000A etch 160s 3-2-4 POE Oxide ETch PR remove WEt STation_Acid SPM 120C 10m HQDR 7m 3-2-5 POE GaN ETch Profiler 3-2-6 F_POE Oxide Etch OM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	735,000원
5256	2022-04-21 9시	11시	4-2-4 ISO-2 GaN Etch PR remove Wet Station_Acid SPM 120C 20m 4-2-5 ISO-2 GaN Etch OM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	232,500원
5257	2022-04-22 11시	12시	0-2-1 0 Fab-In Pre Cleaning W/S Acid SPM 120C 10m	(주)에스제이컴퍼니	개발팀	박상준	0원
5258	2022-04-25 13시	14시	DHF 같이 사용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	최민근	170,000원
5259	2022-04-25 16시	17시	0-1-2 편성 fab-in pre cleaning spm	한국산업기술대학교	나노반도체공학과	김창규	268,000원
5260	2022-04-26 14시	16시	4-2-3 ISO-1 GaN Etch PR remove Wet Station_Acid SPM 120C 20m 4-2-4 ISO-1 GaN ETch om	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	232,500원
5261	2022-04-27 16시	18시	4-4-4 ISO-2 GaN Etch PR remove Wet Station_Acid SPM 120C 20m 4-4-5 ISO-2 GaN Etch OM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	232,500원
5262	2022-04-28 11시	13시	1-2-3 1st Si Etch PR Remove W/S_Acid SPM 120C 10m 1-2-4 1st Si Etch Inspection OM	경북대학교	기계공학부	곽문규	155,000원
5263	2022-04-28 14시	15시	HF로 SiO2식각할 예정입니다.	포항공과대학교	기계공학과	이상엽	72,000원
5264	2022-04-29 14시	16시	SPM + SC1 + DHF	경북대학교	기계공학부	곽문규	400,000원
5265	2022-05-02 10시	12시	2-7-1 Gate Poly Si Etch Descum 2-7-2 BOE 100:1 1m 2-7-3 TMAH 25% 2m	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	394,000원
5266	2022-05-02 12시	13시	2-2-2 DRIE PR Strip PR Remove W/S_Acid SPM 2-2-3 DRIE OM	한국산업기술대학교	나노반도체공학과	김창규	160,000원
5267	2022-05-04 10시	18시	아이큐랩 \"Si 650V 파워반도체 제작 6매\"	(주)칩스케이	연구개발팀	임진홍	3,000,000원
5268	2022-05-06 10시	12시	2-2-4 2nd Si Etch PR remove W/S_Acid SPM 120C 10m APM 70C 10m DHF 1m 2-2-5 OM	경북대학교	기계공학부	곽문규	410,000원
5269	2022-05-06 12시	14시	0-1-2 0 Fab-In Marking SPM 120C 10m HQDR 7m	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
5270	2022-05-06 16시	18시	1-2-2 N_open GaN Etch PR Remove Wet Station_Acid SPM 120C 1m HQDR 7m 1-2-3 N_open GaN Etch OM 1-2-4 N_open GaN Etch Profiler	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	285,000원
5271	2022-05-09 14시	17시	3-2-2 POE Oxide Wet EchWet Station BOE 10:1 160s 3-2-4 POE Oxide Etch PR remove Wet Station_Acid SPM 120C 10m HQDR 7m 3-2-5 POE GaN Etch 단차측정 3-2-6 F_POE Oxide Etch OM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	510,000원
5272	2022-05-10 10시	11시	boe 사용 예정입니다.	포항공과대학교	저차원 전달 물질 연구소	장준혁	68,000원
5273	2022-05-10 11시	12시	HF로 box layer 제거 예정입니다.	포항공과대학교	기계공학과	이상엽	72,000원
5274	2022-05-11 13시	14시	HF 25% 사용예정입니다.	포항공과대학교	저차원 전달 물질 연구소	장준혁	68,000원
5275	2022-05-11 15시	17시	4-2-3 ISO-1 GaN Etch PR remove Wet Station_Acid 120C 20m SPM 4-2-4 ISO-1 GaN Etch OM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	232,500원
5276	2022-05-11 17시	18시	1-3-5 SiO2 Oxide Etch PR remove SPM 120C 10m	주식회사 이엔아이솔루션	공정	임태산북두	150,000원
5277	2022-05-12 10시	11시	LOT ID: NDC22Y19W 목적: Initial Cleaning 총 20장(계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5278	2022-05-12 13시	15시	0-1-2 0 fab-in spm	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
5279	2022-05-12 14시	15시	HF50%사용예정입니다	포항공과대학교	저차원 전달 물질 연구소	장준혁	68,000원
5280	2022-05-13 14시	15시	X	포항공과대학교	저차원 전달 물질 연구소	장준혁	68,000원
5281	2022-05-16 10시	11시	LOT ID: NDC22Y19W 목적: DC공정 Cleaning 총 20장 (계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5282	2022-05-16 13시	15시	4-4-4 ISO-2 GaN Etch PR remove Wet Station Acid SPM 120C 20m 4-4-5 ISO-2 Gan Etch OM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	232,500원
5283	2022-05-16 15시	16시	1-2-2 N_open GaN Etch PR Remove Wet Station_Acid SPM 120C 1m HQDR 7m 1-2-3 N_open GaN Etch OM 1-2-4 N_open GaN Etch Profiler	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	285,000원
5284	2022-05-16 16시	17시	LOT ID: NDC22Y19W 목적: DC공정 Cleaning 총 20장(계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5285	2022-05-16 17시	18시	LOT ID: NDC22Y19W 목적: DC공정 Cleaning 총 20장(계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5286	2022-05-17 10시	18시	한국나노마이스터고등학교 고정실습교육	나노융합기술원	교육홍보팀	김동기	1,800,000원
5287	2022-05-17 10시	12시	DHF 200:1 10sec 1회 thickness measurement 7ea * 5pp * 2회 / 12 = 6회 진행	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	220,000원
5288	2022-05-17 12시	13시	X	포항공과대학교	저차원 전달 물질 연구소	장준혁	68,000원
5289	2022-05-17 15시	16시	Acid Strip .Acid SPM	한국전자통신연구원	ICT창의연구소	유성욱	150,000원
5290	2022-05-17 16시	18시	3-2-1 POE Oxide Etch Descum 3-2-2 POE Oxide Wet ETch BOE 10:1 160s 3-2-4 POE Oxide Etch PR remove SPM 120C 10m HQDR 7m 3-2-5 POE GaN Etch Profiler 3-2-6 F_POE Oxide Etch OM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	920,000원
5291	2022-05-18 14시	15시	BOE 마에스터고 Ox wet etching 1000A 2회	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	480,000원
5292	2022-05-19 11시	13시	0-1-2 0 Fab-In Marking SPM 120C 10m HQDR 7m	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	225,000원
5293	2022-05-20 15시	16시	1-2-2 N_open GaN Etch PR Remove Wet Station_Acid SPM 120C 1m HQDR 7m 1-2-3 N_open GaN Etch OM 1-2-4 N_open GaN Etch Profiler	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	285,000원
5294	2022-05-20 17시	18시	LOT ID: NDC22Y12W 목적: WT공정 Cleaning 총 20장(계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5295	2022-05-23 15시	16시	-	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	68,000원
5296	2022-05-24 10시	11시	0-1-2 Fab_In Pre Cleaning W/S_Acid SPM 120C 10m \"2022 나노융합기술고도화사업\" 웨이퍼 6매 청구	(주)지아이에스	지아이에스 부설연구소	이민재	504,000원
5297	2022-05-24 11시	12시	0-1-2 Fab_In Pre Cleaning W/S_Acid SPM 120C 10m \"2022 나노융합기술고도화사업\" 웨이퍼 6매 청구	(주)지아이에스	지아이에스 부설연구소	이민재	504,000원
5298	2022-05-24 12시	13시	4-4-4 ISO-2 GaN Etch PR remove Wet Station Acid SPM 120C 20m 4-4-5 ISO-2 Gan Etch OM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	232,500원
5299	2022-05-24 15시	16시	알루미나 시편 SPM용액으로 cleaning	포항공과대학교 대학원	QCQN	홍정수	108,000원
5300	2022-05-25 12시	14시	3-2-1 POE Oxide Etch Descum 3-2-2 POE Oxide Wet ETch BOE 10:1 160s 3-2-4 POE Oxide Etch PR remove SPM 120C 10m HQDR 7m 3-2-5 POE GaN Etch Profiler 3-2-6 F_POE Oxide Etch OM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	920,000원
5301	2022-05-25 15시	16시	0-2-1 0 fab-in pre cleaning spm 0-2-2 0 fab-in pre cleaning dhf 0-2-3 0 fab-in pre cleaning tmah 2%	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	297,500원
5302	2022-05-25 16시	17시	25일 15시~16시까지 사용했습니다.	포항공과대학교	저차원 전달 물질 연구소	장준혁	68,000원
5303	2022-05-27 10시	11시	SPM 120C 10m HQDR 7m	한국전자통신연구원	ICT창의연구소	유성욱	150,000원
5304	2022-05-27 11시	12시	4-4-4 ISO-2 GaN Etch PR remove Wet STation_Acid SPM 120C 20m 4-4-5 ISO-2 GaN Etch OM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	232,500원
5305	2022-05-30 10시	11시	X	포항공과대학교	저차원 전달 물질 연구소	장준혁	68,000원
5306	2022-05-30 11시	13시	0-1-2 Fab-In Pre Cleaning W/S_Acid 120C 10m 2022년 나노융합기반 고도화사업	(주)지아이에스	지아이에스 부설연구소	이민재	563,000원
5307	2022-05-30 14시	15시	LOT ID: NDC22Y19W 목적: CA공정 SPM 총 20장(계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5308	2022-05-30 16시	18시	1-3-2 ACT carbon Strip SPM PR Strip 1-4-1 ACT sac. Oxid Pre Cleaning 100:1 DHF 1m QDR 5min 1-4-3 BOE 1:10 5min Target 120A	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	467,500원
5309	2022-05-30 9시	10시	LOT ID: NDB22Y21W 목적: DHF 총 6장(계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5310	2022-05-31 10시	11시	LOT ID: NDC22Y19W 목적: CA공정 DHF 총 20장(계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5311	2022-05-31 14시	15시	LOT ID: NDC22Y22W 목적: Initial Cleaning SPM 총 21장(계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5312	2022-05-31 15시	16시	X	포항공과대학교	저차원 전달 물질 연구소	장준혁	68,000원
5313	2022-05-31 15시	16시	3-1-1 3rd spm cleaning	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	135,000원
5314	2022-06-02 14시	15시	1-5-3 Pre Cleaning W/S_Acid 100:1 DHF 1m QDR 5m	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	85,000원
5315	2022-06-02 15시	16시	4-2-3 ISO-1 GaN Etch PR remove Wet Station_Aicd SPM 120C 20m 4-2-4 ISO-1 GaN Etch OM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	232,500원
5316	2022-06-03 10시	11시	1-5-5 OX Wet Strip W/S_BOE 5m	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	255,000원
5317	2022-06-07 1시	17시	SPM / DHF / BOE Cleaning	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	최준석	3,000,000원
5318	2022-06-07 13시	17시	DHF 200:1 10sec 3회 thickness measurement 9ea * 5pp * 4회 / 12 = 15회 진행	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	600,000원
5319	2022-06-08 10시	11시	LOT ID: NDB22Y22W 목적: AS공정 DHF 총 6장(계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5320	2022-06-08 11시	12시	LOT ID: NDC22Y22W 목적: DC공정 SPM 총 21장(계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5321	2022-06-08 16시	17시	2-3-5 Gate Backsdie Etch SPM PR Strip W/S_SPM 120C 5m	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	120,000원
5322	2022-06-08 17시	18시	Gate Stack Etch Test-1 DHF 처리	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	황현준	85,000원
5323	2022-06-08 17시	18시	LOT ID: NDC22Y22W 목적: DC공정 DHF 총 21장 (계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5324	2022-06-08 9시	10시	2-3-3 GATE Back Etch gate oxide W/S_BOE native 지우는 용도 DHF 100:1 1m	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	80,000원
5325	2022-06-09 13시	14시	HF사용 예정입니다.	포항공과대학교	저차원 전달 물질 연구소	장준혁	68,000원
5326	2022-06-10 16시	17시	HF사용 예정입니다.	포항공과대학교	저차원 전달 물질 연구소	장준혁	68,000원
5327	2022-06-10 17시	18시	LOT ID: NDC22Y22W 목적: SPM 총 21장(계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5328	2022-06-13 11시	12시	X	포항공과대학교	저차원 전달 물질 연구소	장준혁	68,000원
5329	2022-06-14 13시	14시	X	포항공과대학교	저차원 전달 물질 연구소	장준혁	68,000원
5330	2022-06-14 14시	15시	-	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	102,000원
5331	2022-06-14 9시	11시	4-4-4 ISO-2 Gan Etch PR remove Wet Station_Aicd SPM 120C 20m 4-4-5 ISO-2 GaN Etch OM	삼성전자 (종합기술원)	Nano Electronics Lab.	황경욱	232,500원
5332	2022-06-15 11시	12시	LOT ID: NDC22Y22W 목적: CA공정 DHF 총 20장(계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5333	2022-06-15 15시	16시	3-0-0 3rd Cleaning SPM 10m 나노콘 고도화사업	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	135,000원
5334	2022-06-15 16시	17시	X	포항공과대학교	저차원 전달 물질 연구소	장준혁	68,000원
5335	2022-06-16 10시	11시	LOT ID: NDC22Y22W 목적: CA Hard Mask remove - BOE 총 20장(계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5336	2022-06-16 16시	18시	2-2-2 DRIE PR strip PR remove W/S_Acid SPM 120C/ 10m 4-2-2 DRIE PR strip PR remove W/S_Acid SPM 120C/ 10m OM \"2022년 나노융합기반 고도화사업\"	(주)지아이에스	지아이에스 부설연구소	이민재	180,000원
5337	2022-06-17 12시	13시	6-2-2 drie pr strip pr remove spm 나노융합기반고도화	(주)지아이에스	지아이에스 부설연구소	이민재	150,000원
5338	2022-06-17 16시	17시	X	포항공과대학교	저차원 전달 물질 연구소	장준혁	68,000원
5339	2022-06-20 13시	14시	6-2-2 dride pr strip pr remove spm 1매 추가 진행 나노융합기반고도화	(주)지아이에스	지아이에스 부설연구소	이민재	150,000원
5340	2022-06-20 9시	10시	0-2-1 0 fab-in pre cleaning spm	(주)에스제이컴퍼니	개발팀	박상준	150,000원
5341	2022-06-20 9시	10시	dhf cleaning 2min	한국과학기술원	전기및전자공학부	임진하	100,000원
5342	2022-06-21 10시	11시	BOE Etch 10min T-sio2 5000A target	포항공과대학교	대외협력팀	김인철	270,000원
5343	2022-06-22 16시	18시	ㅌ	포항공과대학교 대학원	기계공학과	백종현	68,000원
5344	2022-06-22 9시	11시	x	포항공과대학교 대학원	기계공학과	백종현	68,000원
5345	2022-06-23 13시	14시	X	포항공과대학교	저차원 전달 물질 연구소	장준혁	68,000원
5346	2022-06-28 13시	15시	X	포항공과대학교	저차원 전달 물질 연구소	장준혁	68,000원
5347	2022-06-28 15시	16시	0-2-1 0 fab-in pre cleaning spm	주식회사 이엔아이솔루션	공정	임태산북두	150,000원
5348	2022-06-28 17시	18시	LOT ID: NDC22Y19W 목적: WT공정 DHF 총 20장(계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5349	2022-06-28 20시	23시	1-3-3 hard mask etch pr strip spm 1-3-4 hard mask etch native oxide remove dhf 2-1-1 si etch etch tmah	리노공업	리노공업	곽영대	850,000원
5350	2022-06-28 9시	12시	x	포항공과대학교 대학원	기계공학과	백종현	68,000원
5351	2022-06-29 10시	11시	SPM + HQDR	한국전자통신연구원	ICT창의연구소	유성욱	150,000원
5352	2022-06-29 14시	16시	ㅌ	포항공과대학교 대학원	기계공학과	백종현	68,000원
5353	2022-06-29 18시	19시	ㅌ	포항공과대학교 대학원	기계공학과	백종현	68,000원
5354	2022-06-29 9시	10시	x	포항공과대학교 대학원	기계공학과	백종현	68,000원
5355	2022-06-30 11시	13시	x	포항공과대학교 대학원	기계공학과	백종현	68,000원
5356	2022-06-30 16시	17시	ㅌ	포항공과대학교 대학원	기계공학과	백종현	68,000원
5357	2022-07-01 11시	12시	X	포항공과대학교	저차원 전달 물질 연구소	장준혁	68,000원
5358	2022-07-01 16시	17시	H3PO4 bath 30min	템퍼스	생산기술팀	서영민	300,000원
5359	2022-07-04 12시	14시	x	포항공과대학교 대학원	기계공학과	백종현	68,000원
5360	2022-07-04 14시	15시	x	포항공과대학교 대학원	기계공학과	백종현	68,000원
5361	2022-07-04 15시	16시	X	포항공과대학교	저차원 전달 물질 연구소	장준혁	68,000원
5362	2022-07-04 16시	17시	LOT ID: NDC22Y27W 목적: Initial Cleaning - SPM 총 20장 (계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5363	2022-07-04 17시	18시	LOT ID: NDC22Y22W 목적: WT공정 DHF 총 20장 (계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5364	2022-07-04 19시	20시	x	포항공과대학교 대학원	기계공학과	백종현	68,000원
5365	2022-07-05 10시	11시	0-1-2 0 clean sc1	주식회사 엘엑스세미콘	소자팀	황준하	150,000원
5366	2022-07-05 10시	11시	0-1-2 0 clean sc1	(주) 이너센서	이너센서	강문식	120,000원
5367	2022-07-05 9시	10시	FEM Wet Etch SiO2 0.5um [나노융합기반 고도화사업]	주식회사 아이디피	부설연구소	김형원	300,000원
5368	2022-07-06 14시	15시	-	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	102,000원
5369	2022-07-07 10시	17시	SPM / DHF / BOE Cleaning	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	최준석	3,000,000원
5370	2022-07-07 14시	15시	BOE 10:1 사용	포항공과대학교	저차원 전달 물질 연구소	장준혁	68,000원
5371	2022-07-08 11시	12시	1-3-4 sio2 oxide etch pr remove spm	주식회사 이엔아이솔루션	공정	임태산북두	150,000원
5372	2022-07-08 11시	12시	SiO2 층 제거 목적입니다.	포항공과대학교	기계공학과	이상엽	72,000원
5373	2022-07-11 10시	11시	0-1-2 편성 Fab In Pre Cleaning W/S_Acid SPM 120C 10m	(주)엘란테크놀러지	기술	(주)엘란테크놀러지	185,000원
5374	2022-07-11 19시	20시	spm 10분	포항공과대학교	전자전기공학부	신성환	102,000원
5375	2022-07-12 16시	17시	X	포항공과대학교	저차원 전달 물질 연구소	장준혁	68,000원
5376	2022-07-13 13시	14시	[나노융합기반 고도화사업], 전자과 신성환 010 9081 6590	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	120,000원
5377	2022-07-13 19시	20시	[나노융합기반 고도화사업], 전자과 신성환 010 9081 6590	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	120,000원
5378	2022-07-14 16시	17시	BOE 10:1 사용합니다.	포항공과대학교	저차원 전달 물질 연구소	장준혁	68,000원
5379	2022-07-15 11시	12시	3-2-2 pad open oxide etch boe 260sec 진행	(주) 이너센서	이너센서	강문식	240,000원
5380	2022-07-20 12시	13시	BOE	삼성디스플레이	선행제품연구팀	김태균	240,000원
5381	2022-07-20 19시	20시	[나노융합기반 고도화사업], 전자과 신성환 010 9081 6590	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	120,000원
5382	2022-07-21 14시	15시	BOE 1min + APM 10min	주식회사 엘엑스세미콘	소자팀	황준하	450,000원
5383	2022-07-22 16시	17시	SPM	주식회사 엘엑스세미콘	소자팀	황준하	150,000원
5384	2022-07-22 9시	17시	박막증착 전처리 SPM cleaning	경희대학교	원자력공학과	한지훈	150,000원
5385	2022-07-26 10시	11시	LOT ID: NDC22Y27W 목적: CA공정 Cleaning 총 20장(계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5386	2022-07-26 14시	15시	-	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	102,000원
5387	2022-07-27 10시	11시	0.1 SPM	삼성디스플레이	LED Lab	송영진	220,000원
5388	2022-07-27 10시	17시	대구대학교 나노 반도체공정 실습교육 PreCleaning	나노융합기술원	교육홍보팀	김동기	1,500,000원
5389	2022-07-27 18시	19시	0-2-1 0 fab-in pre cleaning spm 0-2-2 0 fab-in pre cleaning dhf 0-2-3 0 fab-in pre cleaning tmah 2.38%	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	440,000원
5390	2022-07-28 14시	14시	FEM SiO2 2um Etching 1EA [나노융합기반 고도화사업]	주식회사 보다	연구개발	김형원	300,000원
5391	2022-07-29 17시	18시	0-2-1 0 Fab-In SPM 120C /10m	주식회사 이엔아이솔루션	공정	임태산북두	150,000원
5392	2022-08-01 10시	11시	0.0 Pre Cleaning DHF	나노융합기술원	미래기술팀	이상권	85,000원
5393	2022-08-01 14시	15시	1.3 Cleaing (SPM)	나노융합기술원	미래기술팀	이상권	127,500원
5394	2022-08-01 15시	16시	1.3 SPM	나노융합기술원	미래기술팀	이상권	127,500원
5395	2022-08-01 16시	17시	1.3 BOE	나노융합기술원	미래기술팀	이상권	255,000원
5396	2022-08-01 7시	8시	hf 사용	포항공과대학교 대학원	기계공학과	백종현	68,000원
5397	2022-08-01 9시	10시	0.0 Pre Cleaning SPM	나노융합기술원	미래기술팀	이상권	777,500원
5398	2022-08-02 11시	12시	X	포항공과대학교	저차원 전달 물질 연구소	장준혁	68,000원
5399	2022-08-02 9시	10시	2-2-4 Back_Etch Oxide_Etch PR remove Wet Station SPM	에스앤에스텍	EUV Pellicle 개발팀	이승조	150,000원
5400	2022-08-03 10시	11시	2.0 BOE	나노융합기술원	미래기술팀	이상권	255,000원
5401	2022-08-03 10시	17시	SPM / DHF / BOE Cleaning	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	최준석	3,000,000원
5402	2022-08-03 15시	17시	2.1 SC1 1min	나노융합기술원	미래기술팀	이상권	127,500원
5403	2022-08-03 16시	17시	1-3-2 AKEY PR Remove SPM PR Strip W/S_SPM 120C 10m	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	120,000원
5404	2022-08-03 17시	18시	1-3-4 SiO2 Oxide PR remove Wet Station_Acid SPM 120C 10m	주식회사 이엔아이솔루션	공정	임태산북두	150,000원
5405	2022-08-05 9시	10시	0.0 Pre cleaning (SPM)	삼성전자	생산기술연구소	구자명	150,000원
5406	2022-08-08 10시	12시	1-3-6 AKEY PR Remove WF Cleaning W/S_Acid TMAH 2.58% 70C 1min	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	240,000원
5407	2022-08-08 14시	15시	SDC_T01+03 W/S_Acid(BOE)	삼성디스플레이	선행제품연구팀	김태균	480,000원
5408	2022-08-08 9시	10시	0.1 pre cleaning SPM	삼성전자	생산기술연구소	구자명	150,000원
5409	2022-08-08 9시	10시	SDC_T01+03 w/s BOE+QDR 1h	삼성디스플레이	선행제품연구팀	김태균	720,000원
5410	2022-08-09 13시	19시	precleaning	나노융합기술원	교육홍보팀	김동기	3,000,000원
5411	2022-08-10 19시	20시	x	포항공과대학교 대학원	기계공학과	백종현	68,000원
5412	2022-08-10 9시	12시	전북대학교 반도체 소자 제작교육	나노융합기술원	교육홍보팀	김동기	600,000원
5413	2022-08-12 10시	11시	SDC_T04 BOE 16min +QDR 1hr	삼성디스플레이	선행제품연구팀	김태균	720,000원
5414	2022-08-12 15시	16시	-	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	102,000원
5415	2022-08-15 9시	10시	0.0 pre cleaning(SPM)	삼성전자	생산기술연구소	구자명	150,000원
5416	2022-08-16 16시	17시	x	포항공과대학교	저차원 전달 물질 연구소	장준혁	68,000원
5417	2022-08-16 16시	17시	pr remove spm bath 사용	주식회사 엘엑스세미콘	소자팀	황준하	150,000원
5418	2022-08-18 9시	10시	0.0 pre cleaning	삼성전자	생산기술연구소	구자명	150,000원
5419	2022-08-19 10시	12시	0-2-1 0 fab-in pre cleaning spm 0-2-2 0 fab-in pre cleaning dhf 0-2-3 0 fab-in pre cleaning tmah 2.38%	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	467,500원
5420	2022-08-19 9시	10시	[나노융합기반 고도화사업], 전자과 성수원 (010.6786.0469) Si wafer 25 장 APM cleaning 요청드립니다. 이후 황현주 선생님에게 전달부탁드립니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	150,000원
5421	2022-08-22 10시	11시	0-1-2 편성 fab-in pre cleaning spm	주식회사 엘엠에스	연구기획	김지태	240,000원
5422	2022-08-22 10시	11시	BOE 20min	경북대학교	기계공학부	곽문규	300,000원
5423	2022-08-22 15시	16시	2-4-1 pewll_imp pwell mask remv. pr cleaning spm 2-4-2 pewll_imp pwell mask remv. oxide cleaning boe	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	360,000원
5424	2022-08-24 11시	12시	LOT ID: NDC22Y27W 목적: SPM 총 18장 (계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5425	2022-08-25 10시	11시	[나노융합기반 고도화사업], 전자과 신성환 010 9081 6590	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	80,000원
5426	2022-08-25 13시	14시	LOT ID: NDC22Y30W 목적: SPM 총 20장(계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5427	2022-08-25 15시	16시	LOT ID: NDC22Y27W 목적: CA공정 중 DHF 총 18장(계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5428	2022-08-29 11시	13시	0-1-2 0 fab-in pre cleaning dhf 0-1-3 0 fab-in pre cleaning spm	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	권민규	212,500원
5429	2022-08-29 11시	12시	1-2-3 1st si etch pr remove spm	경북대학교	기계공학부	곽문규	150,000원
5430	2022-08-29 13시	14시	LOT ID: NDC22Y27W 목적: Oxide Hard Mask Remove (BOE) 총 20장 (계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5431	2022-08-29 15시	16시	SPM + HQDR	한국전자통신연구원	ICT창의연구소	유성욱	150,000원
5432	2022-08-29 16시	17시	LOT ID: NDC22Y30W 목적: CA공정 SPM 총 20장 (계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5433	2022-08-29 17시	18시	2-2-2 drie pr strip spm	주식회사 엘엠에스	연구기획	김지태	150,000원
5434	2022-08-31 10시	11시	[나노융합기반 고도화사업], 전자과 신성환 010 9081 6590	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	120,000원
5435	2022-08-31 11시	13시	H2O2 Etch 30, 60, 90, 300, 600, 900sec	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	300,000원
5436	2022-08-31 16시	18시	DHF 200:1 3회 진행	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	300,000원
5437	2022-08-31 9시	10시	[나노융합기반 고도화사업], 전자과 신성환 010 9081 6590	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	80,000원
5438	2022-09-05 10시	18시	SPM / DHF / BOE Cleaning	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	최준석	3,000,000원
5439	2022-09-05 10시	11시	0.0 DHF	나노융합기술원	미래기술팀	이상권	85,000원
5440	2022-09-05 16시	18시	3-4-1 source imp n+ mask remv. pr cleaning 3-4-2 source imp n+ mask remv. oxide remove	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	360,000원
5441	2022-09-05 9시	10시	0.0 SPM	나노융합기술원	미래기술팀	이상권	777,500원
5442	2022-09-06 17시	18시	1.2 SPM	나노융합기술원	미래기술팀	이상권	127,500원
5443	2022-09-07 10시	11시	1.3 SPM	나노융합기술원	미래기술팀	이상권	127,500원
5444	2022-09-07 13시	14시	1.3 BOE	나노융합기술원	미래기술팀	이상권	255,000원
5445	2022-09-07 15시	16시	SIMS 분석용 3매 BOE Cleaning	주식회사 엘엑스세미콘	소자팀	황준하	300,000원
5446	2022-09-07 16시	17시	spm + hqdr	한국전자통신연구원	ICT창의연구소	유성욱	150,000원
5447	2022-09-08 11시	12시	2.1 SC1, 1min	나노융합기술원	미래기술팀	이상권	127,500원
5448	2022-09-08 9시	11시	2.0 BOE	나노융합기술원	미래기술팀	이상권	255,000원
5449	2022-09-13 15시	18시	0-1-2 0 fab-in oxide remove 2회 0-2-1 0 fab-in pre cleaning spm 2회 0-2-2 0 fab-in pre cleaning dhf 2회 0-2-3 0 fab-in pre cleaning tmah 2.38% 2회	주식회사 엘엑스세미콘	소자팀	황준하	1,700,000원
5450	2022-09-13 9시	10시	4.2 SPM	나노융합기술원	미래기술팀	이상권	127,500원
5451	2022-09-14 14시	15시	5.3 BOE	나노융합기술원	미래기술팀	이상권	255,000원
5452	2022-09-14 14시	15시	LOT ID: NDC22Y30W 목적: CA공정 SPM 총 20장 (계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5453	2022-09-14 15시	16시	5.3 DHF	나노융합기술원	미래기술팀	이상권	85,000원
5454	2022-09-14 15시	16시	0-1-2 0 fab-in pre cleaning spm	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	권민규	322,500원
5455	2022-09-14 15시	16시	5.3 SPM	나노융합기술원	미래기술팀	이상권	127,500원
5456	2022-09-14 16시	18시	5.3 PolySi wet Etch, TMAH	나노융합기술원	미래기술팀	이상권	255,000원
5457	2022-09-15 11시	12시	0-1-2 fab-in pre cleaning apm	에스앤에스텍	EUV Pellicle 개발팀	이승조	150,000원
5458	2022-09-15 13시	14시	5.3 BOE	나노융합기술원	미래기술팀	이상권	255,000원
5459	2022-09-15 15시	17시	H2O2 Etch 50sec / 30, 100sec /	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	300,000원
5460	2022-09-15 9시	12시	0-1-2 0 rx pr remove spm pr strip 0-1-3 0 rx 전세정 sc2 clean 0-1-3 0 rx 전세정 dhf clean	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	770,000원
5461	2022-09-16 15시	16시	1-2-2 act carbon strip spm pr strip 2회 조각 진행	주식회사 엘엑스세미콘	소자팀	황준하	300,000원
5462	2022-09-16 16시	17시	1-3-4 sio2 oxide etch pr remove spm	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	권민규	127,500원
5463	2022-09-19 10시	11시	4-4-1 p+ imp p+ mask remv. pr cleaning spm 4-4-2 p+ imp p+ mask remv. oxide remove boe	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	450,000원
5464	2022-09-19 18시	19시	[나노융합기반 고도화사업], 전자과 서태원 (010-5009-8015)	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	120,000원
5465	2022-09-20 10시	11시	[나노융합기반 고도화사업], 전자과 신성환 010 9081 6590	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	120,000원
5466	2022-09-20 16시	17시	-	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	102,000원
5467	2022-09-21 10시	12시	5장 : Si(100)wafer위에 SiO2 line patterning 되어있는 웨이퍼 입니다. SPM+APM 부탁드립니다. 나머지 5장 : Si(100) bare웨이퍼 입니다. 시간은 임의로 예약하였습니다, 택배 도착 후에 다시 일정 조정 연락드리겠습니다.	연세대학교	신소재공학과	신혜린	300,000원
5468	2022-09-21 15시	16시	나노융합기반 고도화사업 전자과 신성환 010 9081 6590	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	80,000원
5469	2022-09-22 11시	12시	0-1-2 0 fab-in pre cleaning spm 0-1-3 0 fab-in pre cleaning dhf	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	212,500원
5470	2022-09-22 22시	1시	SPM Chemical 1회 진행 입니다	(주)예스파워테크닉스	제조그룹	이유진	108,000원
5471	2022-09-23 10시	11시	0-1-2 편성 fab-in pre cleaning spm	광주과학기술원	기계공학부	이예성	150,000원
5472	2022-09-23 15시	16시	dhf bath 사용	포항공과대학교 대학원	화학공학과	정학순	90,000원
5473	2022-09-23 15시	16시	acid strip. acid spm	한국전자통신연구원	ICT창의연구소	유성욱	150,000원
5474	2022-09-23 15시	16시	acid strip. acid spm	한국전자통신연구원	ICT창의연구소	유성욱	150,000원
5475	2022-09-26 10시	11시	HF 50% 용액으로 SOI 웨이퍼의 BOX layer를 제거할 예정입니다.	포항공과대학교	기계공학과	이상엽	72,000원
5476	2022-09-26 9시	10시	SPM	삼성전자	생산기술연구소	구자명	300,000원
5477	2022-09-27 10시	11시	LOT ID: NDC22Y39W 목적: Initial cleaning - SPM 총 20장 (계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5478	2022-09-27 13시	14시	0-1-2 0 fab-in pre cleaning spm 0-1-3 0 fab-in pre cleaning dhf	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	김승모	212,500원
5479	2022-09-27 16시	17시	SPM+BOE	주식회사 엘엑스세미콘	소자팀	황준하	450,000원
5480	2022-09-28 11시	12시	LOT ID: NDC22Y30W 목적: CA공정 중 DHF 총 20장 (계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5481	2022-09-28 15시	16시	나노융합기반 고도화사업 전자과 신성환 010 9081 6590	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	120,000원
5482	2022-09-28 9시	10시	0.0 SPM	삼성전자	생산기술연구소	구자명	450,000원
5483	2022-09-29 11시	13시	0-2-1 0 fab-in pre cleaning spm 0-2-2 0 fab-in pre cleaning dhf 0-2-3 0 fab-in pre cleaning tmah 2.38%	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	440,000원
5484	2022-09-29 13시	14시	LOT ID: NDC22Y30W 목적: Hard mask remove -BOE 총 20장(계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5485	2022-09-29 15시	18시	5-4-1 jfet imp jfet mask remv. spm 5-4-2 jfet imp jfet mask remv. boe 6-1-1 activate cleaning re cleaning tmah 2.38% 6-1-2 activate cleaning re cleaning dhf	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	850,000원
5486	2022-09-29 9시	12시	전북대학교 반도체 소자 제작교육	나노융합기술원	교육홍보팀	김동기	600,000원
5487	2022-10-04 14시	16시	0-2-1 0 fab-in pre cleaning spm 0-2-2 0 fab-in pre cleaning dhf 0-2-1 0 fab-in pre cleaning tmah 2%	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	467,500원
5488	2022-10-04 15시	17시	6-4-2 activate carbon strip spm pr strip 6-5-1 sac. oxid pre cleaning dhf / tmah 2%	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	550,000원
5489	2022-10-04 9시	10시	0-1-2 Pre Cleaning	삼성전자	생산기술연구소	구자명	150,000원
5490	2022-10-04 9시	10시	0-1-2 전처리 pre cleaning spm dhf	연세대학교	화공생명공학과	이승효	250,000원
5491	2022-10-05 10시	11시	HF 용액으로 SOI 웨이퍼의 BOX layer 제거 예정입니다.	포항공과대학교	기계공학과	이상엽	72,000원
5492	2022-10-05 11시	15시	SPM / DHF / BOE Cleaning	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	최준석	3,000,000원
5493	2022-10-05 16시	17시	LOT ID: NDC22Y39W 목적: DC Cleaning - DHF 총 20장 (계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5494	2022-10-06 10시	12시	6-5-3 activate sac. oxid ox wet strip boe 7-1-1 act. area oxid pre cleaning spm 7-1-2 act. area oxid pre cleaning dhf 7-1-3 act. area oxid pre cleaning tmah 2%	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	850,000원
5495	2022-10-06 11시	13시	1-3-2 act carbon strip spm 1-4-1 act sac. oxid pre cleaning dhf	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	212,500원
5496	2022-10-07 1시	2시	7매는 SiO2 patterning on Si 3매는 Si bare 입니다. SPM + APM 공정 의뢰드립니다.	연세대학교	신소재공학과	신혜린	300,000원
5497	2022-10-07 15시	16시	2-2-4 trench etch pr remove spm	연세대학교	화공생명공학과	이승효	150,000원
5498	2022-10-10 10시	11시	1.0 w/s_acid (BOE)	삼성디스플레이	선행제품연구팀	김태균	720,000원
5499	2022-10-11 10시	11시	0-1-2 W/S_Acid	삼성전자	생산기술연구소	구자명	150,000원
5500	2022-10-11 14시	15시	LOT ID: NDC22Y39W 목적: CA공정 SPM 총 20장(계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5501	2022-10-11 15시	16시	3-2-2 drie pr strip pr remove spm	광주과학기술원	기계공학부	이예성	150,000원
5502	2022-10-11 15시	16시	7-3-3 act. area backside etch spm pr strip	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	150,000원
5503	2022-10-11 16시	17시	나노융합기반 고도화사업 전자과 신성환 010 9081 6590	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	120,000원
5504	2022-10-12 10시	11시	LOT ID: NDC22Y39W 목적: CA공정 DHF 총 20장 (계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5505	2022-10-12 11시	12시	7-5-3 act. area active area oxid etching spm pr strip 8-1-1 gate oxid pre cleaning dhf 8-1-2 gate oxid pre cleaning tmah 8-1-3 gate oxid pre cleaning sc1	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	700,000원
5506	2022-10-12 11시	12시	7-5-1 act. area active area oxid etching wet etch oxide boe	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	300,000원
5507	2022-10-12 11시	12시	0-1-2 0 fab-in pre cleaning spm 0-1-3 0 fab-in pre cleaning boe	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	267,750원
5508	2022-10-13 15시	16시	나노융합기반 고도화 사업 전자과 신성환 010 9081 6590	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	120,000원
5509	2022-10-13 17시	18시	1-3-2 imp pwell imp scatter oxide remov. boe 2-1-1 activate cleaning pre cleaning tmah 2.38%	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	480,000원
5510	2022-10-13 9시	10시	LOT ID: NDC22Y39W 목적: Hard Mask Remove - BOE 총 20장 (계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5511	2022-10-14 10시	11시	HF 용액 사용 예정입니다.	포항공과대학교	기계공학과	이상엽	72,000원
5512	2022-10-14 12시	13시	1-3-2 act carbon strip pr strip spm 1-4-1 act sac. oxid pre cleaning spm 1-4-2 act sac. oxid ox wet strip boe	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	510,000원
5513	2022-10-18 14시	15시	나노융합기반 고도화 사업 전자과 신성환 010 9081 6590	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	120,000원
5514	2022-10-18 15시	16시	2-4-2 gate activate carbon strip spm pr strip 3-1-1 gate sac. oxid pre cleaning dhf	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	200,000원
5515	2022-10-18 15시	16시	2-2-4 2nd si etch pr remove spm	경북대학교	기계공학부	곽문규	150,000원
5516	2022-10-18 16시	17시	2-2-2 drie pr strip pr remove spm	주식회사 엘엠에스	연구기획	김지태	150,000원
5517	2022-10-19 18시	19시	나노융합기반 고도화 사업 전자과 신성환 010 9081 6590	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	120,000원
5518	2022-10-19 9시	10시	.	포항공과대학교	기계공학과	정수빈	72,000원
5519	2022-10-20 19시	20시	1-2-4 akey etch spm pr strip	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	127,500원
5520	2022-10-25 17시	18시	2-2-2 drie pr strip spm	포항공과대학교	기계공학과	이석용	135,000원
5521	2022-10-27 17시	18시	8-4-2 gate backside etch wet etch oxide boe	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	300,000원
5522	2022-10-28 14시	16시	SPM Cleaning 600 Sec Di Rinse 900 Sec Dehydration	싸니코전자(주)	개발팀	최주헌	150,000원
5523	2022-10-31 17시	18시	0-1-2 편성 fab-in pre cleaning spm 2022년 나노융합기반 고도화 사업	(주)지아이에스	지아이에스 부설연구소	이민재	930,000원
5524	2022-11-01 10시	12시	SPM	삼성디스플레이	SDC硏 LED LAB	원치훈	360,000원
5525	2022-11-01 12시	13시	SPM+APM 클리닝 부탁드립니다.	연세대학교	신소재공학과	신혜린	300,000원
5526	2022-11-01 15시	16시	spm cleaning	주식회사 엘엑스세미콘	소자팀	황준하	150,000원
5527	2022-11-01 15시	16시	1-2-1 SIO2 OXIDE REMOVE DHF	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	권민규	85,000원
5528	2022-11-01 18시	19시	2-2-2 drie pr strip pr remove spm	주식회사 엘엠에스	연구기획	김지태	150,000원
5529	2022-11-03 9시	10시	2.0 BOE (100:1 DHF 1min)	삼성디스플레이	SDC硏 LED LAB	원치훈	480,000원
5530	2022-11-07 11시	13시	0.0 W/S_Acid(BOE)	삼성디스플레이	선행제품연구팀	김태균	720,000원
5531	2022-11-07 9시	10시	W/S_Acid(SPM)	삼성전자	생산기술연구소	구자명	150,000원
5532	2022-11-08 15시	16시	[나노융합기반 고도화사업], 전자과 손종민 (010.9766.0039) 8인치 웨이퍼 SPM 진행 예정입니다. 중요한 공정이라 황산 새걸로 교체 부탁드립니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	120,000원
5533	2022-11-08 16시	17시	LOT ID: NDC22Y39W 목적: DHF 총 20장 (계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5534	2022-11-09 14시	15시	3-3-1 p+ sheet off oxide etch wet etch boe	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	270,000원
5535	2022-11-09 14시	15시	1-0-1 0 oxide remove oxide wet etch boe	주식회사 엘엑스세미콘	소자팀	황준하	300,000원
5536	2022-11-09 14시	15시	2.0 SPM	삼성전자	생산기술연구소	구자명	150,000원
5537	2022-11-10 19시	20시	1-2-1 0 oxide remove oxide wet etch boe	주식회사 엘엑스세미콘	소자팀	황준하	300,000원
5538	2022-11-10 19시	20시	3-5-2 gate backside etch wet etch oxide boe	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	240,000원
5539	2022-11-10 19시	20시	2-1-3 etch pr strip spm	(주)지아이에스	지아이에스 부설연구소	이민재	150,000원
5540	2022-11-10 21시	22시	H2O2 Etch set1 30sec / 100sec / 150sec / 200sec / 300sec set2 60sec / 70sec / 200sec / 250sec	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	300,000원
5541	2022-11-11 10시	11시	구리 및 pr	포항공과대학교	기계공학과	정수빈	72,000원
5542	2022-11-11 15시	17시	2-2-2 drie pr strip spm	주식회사 엘엠에스	연구기획	김지태	150,000원
5543	2022-11-11 9시	10시	클리닝용 테프론 캐리어 동봉하나 가용하지 않을 수 있습니다. 해당 station에 가용한 캐리어가 있는지 확인 부탁드립니다.	경희대학교	원자력공학과	한지훈	150,000원
5544	2022-11-14 10시	11시	[나노융합기반 고도화사업], 전자과 손종민 (010.9766.0039) 중요한 공정이라 SPM 새걸로 갈아주시면 감사하겠습니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	120,000원
5545	2022-11-14 16시	17시	acid strip spm	한국전자통신연구원	ICT창의연구소	유성욱	150,000원
5546	2022-11-14 17시	18시	3-4-1 junc. metal oxide etch wet etch dhf	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	90,000원
5547	2022-11-16 9시	10시	Si SPM+DHF	삼성디스플레이	선행제품연구팀	김상조	240,000원
5548	2022-11-17 9시	10시	[나노융합기반 고도화사업], 전자과 손종민 (010.9766.0039) 중요한 공정이라 dHF 새걸로 교체해주시면 감사하겠습니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	80,000원
5549	2022-11-18 15시	16시	0-1-2 0 fab-in oxide remove boe 0-2-1 0 fab-in pre cleaning spm 0-2-2 0 fab-in pre cleaning dhf	주식회사 엘엑스세미콘	소자팀	황준하	550,000원
5550	2022-11-21 9시	10시	0.0spm	삼성전자	생산기술연구소	구자명	150,000원
5551	2022-11-22 10시	11시	PR 50nm 제거	포항공과대학교	전자전기공학부	신성환	102,000원
5552	2022-11-22 15시	16시	1-2-2 act carbon strip spm	주식회사 엘엑스세미콘	소자팀	황준하	150,000원
5553	2022-11-22 9시	10시	3-7-2 gate poly-si etch oxide etch boe	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	240,000원
5554	2022-11-23 20시	21시	잔여 PR제거	포항공과대학교	전자전기공학부	신성환	102,000원
5555	2022-11-23 9시	10시	0.0 SPM	한국기계연구원	자연모사응용연구실	이덕규	150,000원
5556	2022-11-28 15시	16시	cleaning spm +dhf	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	150,000원
5557	2022-11-29 21시	22시	잔여 PR제거	포항공과대학교	전자전기공학부	신성환	102,000원
5558	2022-11-30 11시	12시	2.0 spm	주식회사 엘엠에스	연구기획	김지태	150,000원
5559	2022-11-30 15시	16시	4-1-3 drie pr strip pr remove spm (test2)	(주)지아이에스	지아이에스 부설연구소	이민재	150,000원
5560	2022-11-30 15시	16시	2-1-3 drie pr strip pr remove spm (test1)	(주)지아이에스	지아이에스 부설연구소	이민재	150,000원
5561	2022-11-30 15시	16시	6-1-3 drie pr strip pr remove spm	(주)지아이에스	지아이에스 부설연구소	이민재	150,000원
5562	2022-11-30 9시	10시	[나노융합기반 고도화사업], 전자과 도정현 (010.6370.5281)	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	80,000원
5563	2022-12-02 15시	16시	Wet etch 1um 521sec 진행, 선행 test 진행	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	480,000원
5564	2022-12-02 16시	17시	LOT ID: NDC22Y47W 목적: DC공정 SPM 총 20장 (계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5565	2022-12-05 14시	15시	spm	(주)지아이에스	지아이에스 부설연구소	이민재	150,000원
5566	2022-12-05 16시	17시	BOE	삼성디스플레이	선행제품연구팀	김태균	720,000원
5567	2022-12-06 10시	17시	pre cleaning 2022년 나노융합기반 고도화 사업	(주)엔디디	기업부설연구소	이승헌	3,000,000원
5568	2022-12-06 9시	10시	W/S_Acid(SPM)	삼성전자	생산기술연구소	구자명	300,000원
5569	2022-12-07 14시	15시	BOX 층 식각 예정입니다.	포항공과대학교	기계공학과	이상엽	72,000원
5570	2022-12-07 9시	10시	W/S_Acid(SPM)	삼성전자	생산기술연구소	구자명	300,000원
5571	2022-12-09 13시	14시	2-2-2 drie pr strip pr remove spm	(주)지아이에스	지아이에스 부설연구소	이민재	150,000원
5572	2022-12-09 14시	16시	[나노융합기반 고도화사업], 전자과 도정현 (010.6370.5281) SPM 사용	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	120,000원
5573	2022-12-09 16시	17시	8-6-8 gate polysi etch spm pr strip N-퍼실리트 우선 사용	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	150,000원
5574	2022-12-10 18시	19시		포항공과대학교	기계공학과	정수빈	72,000원
5575	2022-12-12 11시	13시	[나노융합기반 고도화사업], 전자과 도정현 (010.9766.0039)	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	80,000원
5576	2022-12-12 13시	14시	9-1-1 ild field oxide depo. pre cleaning dhf	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	100,000원
5577	2022-12-12 9시	10시	spm cleaning	서강대학교	전자공학과	이장우	150,000원
5578	2022-12-12 9시	10시	W/S_Acid(SPM)	삼성전자	생산기술연구소	구자명	150,000원
5579	2022-12-14 21시	24시	0-1-2 0 fab-in spm clean 0-1-3 0 fab-in sc2 clean 0-1-4 0 fab-in dhf clean 6ea 진행	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	825,000원
5580	2022-12-14 9시	10시	0.0 W/S_Acid(SPM) sgt_15,16	삼성전자	생산기술연구소	구자명	300,000원
5581	2022-12-15 11시	12시	sgt_10 -10매 sgt_15 -5매, 16-15매 = 4회 SiO2 1,000 Å	삼성전자	생산기술연구소	구자명	1,300,000원
5582	2022-12-15 12시	13시	SOI 웨이퍼의 산화막 층을 식각할 예정입니다.	포항공과대학교	기계공학과	이상엽	72,000원
5583	2022-12-16 9시	10시	9-2-5 ild backside etch spm pr strip n-퍼실리티 우선사용	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	150,000원
5584	2022-12-19 10시	11시	LOT ID: NDC22Y47W 목적: DC공정 DHF 총 20장 (계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5585	2022-12-19 15시	16시	spm cleaning	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
5586	2022-12-19 15시	16시	1-2-2 oxide etch wet etch boe 900a 1m48sec	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	강보현	270,000원
5587	2022-12-23 15시	17시	dhf 200:1 30sec dipping	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	250,000원
5588	2022-12-26 13시	14시	PR Strip (W/S_Acid)	동우화인캠(주)	반도체소재2팀	윤수빈	450,000원
5589	2022-12-27 11시	12시	LOT ID: Module 목적: DHF 총 2장 [나노융합기반 고도화사업]	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	100,000원
5590	2022-12-29 10시	11시	200:1 DHF 40s	포항공과대학교	기계공학과	김승욱	85,000원
5591	2023-01-02 20시	21시	GXR601	포항공과대학교	기계공학과	김승범	135,000원
5592	2023-01-02 9시	11시	2-3-2 rx pr remove spm pr strip spm (12/28)	삼성종합기술원	기반기술랩	황선규	225,000원
5593	2023-01-03 11시	12시	10-2-2 cont pe-oxide etch wet etch oxide boe N-퍼실리티 우선 사용	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	300,000원
5594	2023-01-04 10시	18시	SPM SC1 DHF TMAH Cleaning	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	최준석	3,000,000원
5595	2023-01-05 14시	15시	LOT ID: NDC22Y47W 목적: CA공정 DHF 총 20장 (계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5596	2023-01-05 9시	12시	LOT ID: NDC22Y47W 목적: TMAH 총 20장 (계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5597	2023-01-06 16시	17시	Lot ID: NDC22Y47W 목적: BOE 총 20장 (계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5598	2023-01-10 10시	17시	전문인력양성사업 나노소자공정 & 측정일자리연계 교육.	나노융합기술원	교육홍보팀	김동기	3,000,000원
5599	2023-01-10 15시	16시	-	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	102,000원
5600	2023-01-11 1시	2시	SPM+APM 세정 부탁드립니다. sio2 pattern wafer 1매입니다.	연세대학교	신소재공학과	신혜린	300,000원
5601	2023-01-12 14시	15시	LOT ID: NDC23Y02W 목적: Initial Cleaning - SPM 총 20장 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5602	2023-01-13 15시	16시	LOT ID: NDC23Y02W 목적: DC공정 SPM 총 20장(계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5603	2023-01-16 11시	12시	6-1-1 100:1 DHF 1 min 6-1-2 TMAH(2.38%) 70C, 1 min	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	400,000원
5604	2023-01-16 11시	13시	0-2-1 SPM, 120C 10 min / QDR 5 min 0-2-2 100:1 DHF 1 min / QDR 5 min 0-2-3 TMAH(~2%) 90C 5min / QDR 5 min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	0원
5605	2023-01-16 13시	14시	LOT ID: NDC23Y02W 목적: DC공정 DHF 총 20장 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5606	2023-01-16 14시	15시	LOT ID: NDC23Y03W 목적: Initial Cleaning - SPM 총 20장 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5607	2023-01-16 16시	17시	H2SO4 사용	주식회사 아이큐랩	생산기술	김희종	120,000원
5608	2023-01-17 10시	17시	부산대학교 반도체 공정교육 pre cleaning	나노융합기술원	교육홍보팀	김동기	1,000,000원
5609	2023-01-17 9시	10시	Patterning된 SiO2 layer 상에 5 um PR pattern 코팅되어 있습니다. 해당 감광막 asher strip 진행 부탁드리며, 이후 SPM 세정 진행 부탁드립니다.	한국생산기술연구원	첨단메카트로닉스연구그룹	노은식	150,000원
5610	2023-01-18 11시	12시	LOT ID: NDC23Y02W 목적: CA공정 SPM 총 20장 (계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5611	2023-01-18 13시	14시	LOT ID: NDC23Y03W 목적: DC공정 SPM 총 20장 (계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5612	2023-01-18 17시	18시	6-4-2 activate carbon strip spm pr strip 6-5-1 activate sac. oxid pre cleaning dhf / tmah 2.38%	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	550,000원
5613	2023-01-19 14시	18시	LOT ID: NDC23Y02W 목적: TMAH 총 20장 (계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5614	2023-01-20 14시	17시	1.3 SPM, 120℃ 10min / QDR 5min 1.4 100:1 DHF 1min / QDR 5min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	0원
5615	2023-01-25 11시	12시	LOT ID: NDC23Y04W 목적: Initial Cleaning-SPM 총 20장 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5616	2023-01-25 14시	15시	2-2-5 imp pr remove spm 10ea / 4ea	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	강보현	270,000원
5617	2023-01-25 15시	16시	6-5-3 activate sac. oxid ox wet strip boe	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	300,000원
5618	2023-01-26 12시	13시	LOT ID: NDC23Y03W 목적: DC공정 DHF 총 20장 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5619	2023-01-26 13시	14시	LOT ID: NDC23Y04W 목적: DC공정 SPM 총 20장(계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5620	2023-01-27 14시	15시	1-1-4 sin/sio2 etch pr remove spm	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	권민규	127,500원
5621	2023-01-27 9시	11시	0.0 W/S_Acid(BOE)	삼성디스플레이	선행제품연구팀	김태균	370,000원
5622	2023-01-30 10시	11시	spm 4ea / 8ea	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	강보현	270,000원
5623	2023-01-31 10시	11시	LOT ID: NDC23Y03W 목적: CA공정 DHF 총 20장 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5624	2023-01-31 11시	14시	LOT ID: NDC23Y03W 목적: TMAH 총 20장 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5625	2023-02-01 9시	10시	LOT ID: NDC23Y03W 목적: BOE 총 20장 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5626	2023-02-06 10시	11시	2-2-4 SPM PR Strip 5min	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	150,000원
5627	2023-02-06 14시	15시	LOT ID: NDC23Y04W 목적: CA공정 DHF 총 20장 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5628	2023-02-06 15시	16시	LOT ID: NDC23Y06W 목적: Initial Cleaning - SPM 총 20장 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5629	2023-02-06 9시	10시	W/S_Acid	삼성디스플레이	SDC硏 LED LAB	원치훈	240,000원
5630	2023-02-07 10시	11시	8 inch wafer 2ea DHF 40 sec.	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	김승모	85,000원
5631	2023-02-07 11시	12시	1-1-1 Pre-cleaning SPM 120C 10min.	LG전자	차세대디스플레이연구소	장성규	150,000원
5632	2023-02-08 10시	11시	W/S_DHF	삼성디스플레이	SDC硏 LED LAB	원치훈	80,000원
5633	2023-02-09 15시	18시	LOT ID: NDC23Y04W 목적: TMAH 총 20장 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5634	2023-02-10 13시	14시	LOT ID: NDC23Y04W 목적: BOE 총 20장 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5635	2023-02-13 10시	11시	LOT ID: NDC23Y06W 목적: DC공정 DHF 총 20장 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5636	2023-02-13 11시	12시	LOT ID: NDC23Y07W 목적: Initial Cleaning - SPM 총 20장 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5637	2023-02-13 15시	16시	2-2-1.5 DHF 200:1 40sec 진행. 3매	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	권민규	85,000원
5638	2023-02-13 15시	16시	2-2-1.5 DHF 200:1 40sec 진헹, 1매 선행(WF#01)	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	권민규	85,000원
5639	2023-02-14 10시	12시	BOE QDR 1hr	삼성디스플레이	Micro LED Lab (Micro Display Team)	유철종	1,440,000원
5640	2023-02-14 14시	15시	1-1-1 Pre-cleaning. SPM 10 min, QDR 5 min, 8매 중 5매(Blue).	LG전자	차세대디스플레이연구소	장성규	150,000원
5641	2023-02-14 14시	14시	1-1-1 Pre-cleaning. SPM 10 min, QDR 5 min, 8매 중 3매(Red).	LG전자	차세대디스플레이연구소	장성규	150,000원
5642	2023-02-15 10시	11시	SC1	삼성디스플레이	Micro LED Lab (Micro Display Team)	유철종	120,000원
5643	2023-02-15 16시	17시	0-2-3 PR Remove. SPM 120C 10 min, QDR 5min. 6매/6메, 총 12매 진행.	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	강보현	270,000원
5644	2023-02-16 15시	16시	전문인력양성사업 나노소자공정 & 측정 일자리연계 교육.	나노융합기술원	교육홍보팀	김동기	2,000,000원
5645	2023-02-17 10시	11시	10-2-4 SPM PR strip. SPM 120C 5min. N-퍼실리티 우선사용.	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	150,000원
5646	2023-02-17 13시	14시	10-4-3 Wet etch oxide. DHF 1:100 1min. N-퍼실리티 우선사용.	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	100,000원
5647	2023-02-20 10시	11시	LOT ID: NDC23Y07W 목적: DC공정 DHF 총 20장(계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5648	2023-02-20 11시	14시	LOT ID: NDC23Y06W 목적: TMAH 총 20장 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5649	2023-02-20 9시	10시	LOT ID: NDC23Y07W 목적: DC공정 APM 총 20장 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5650	2023-02-21 13시	14시	LOT ID: NDC23Y06W 목적: BOE 총 20장 (계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5651	2023-02-24 14시	15시	유리 조각 SPM cleaning 진행 예정입니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	손종민	102,000원
5652	2023-02-24 15시	16시	0-1-2 Pre Cleaning SPM 120c 10min 15ea	LG전자	차세대디스플레이연구소	장성규	300,000원
5653	2023-02-24 18시	19시	DHF 같이 사용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	최민근	102,000원
5654	2023-02-28 1시	1시	SPM Cleaning	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	최준석	4,200,000원
5655	2023-02-28 11시	11시	1-1-1 Pre Cleaning BOE(1:10) 1 min + DI rinse.	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	255,000원
5656	2023-03-02 10시	11시	0-0-2 SPM 120C 10min. 8\\\\\\\" Glass 10ea 2022년 나노융합기반 고도화사업	(주)엔디디	기업부설연구소	이승헌	0원
5657	2023-03-06 10시	11시	11-2-2 PE-oxide etching, target = 700a, BOE (1:10) N-퍼실리티 우선사용	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	300,000원
5658	2023-03-06 14시	15시	0-1-1 SPM 120C, 10min. 0-1-2 BOE(1:10), 1min.	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	382,500원
5659	2023-03-06 9시	10시	W/S_Acid(SPM)	삼성전자	생산기술연구소	구자명	450,000원
5660	2023-03-07 16시	18시	직접하겠습니다.	포항공과대학교 대학원	기계공학과	김준형	72,000원
5661	2023-03-08 10시	11시	SPM 120C 10min / BOE(1:10) 1min Pre Cleaning 진행	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	382,500원
5662	2023-03-08 10시	11시	SPM 120C, 5min. BOE(1:10), 1min.	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	382,500원
5663	2023-03-13 11시	13시	W/S_BOE(10:1) 16min QDR 강수준 1hr	삼성디스플레이	Micro LED Lab (Micro Display Team)	유철종	720,000원
5664	2023-03-13 13시	14시	SC1 세정	삼성디스플레이	Micro LED Lab (Micro Display Team)	유철종	665,000원
5665	2023-03-14 11시	12시	LOT ID: NDC23Y07W 목적: CA공정 DHF 총 20장 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5666	2023-03-14 12시	15시	LOT ID: NDC23Y07W 목적: CA공정 TMAH 총 20장 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5667	2023-03-15 9시	10시	LOT ID: NDC23Y07W 목적: BOE 총 20장 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5668	2023-03-16 11시	13시	W/S_BOE(10:1) 16min QDR 강수준 1hr	삼성디스플레이	uLED Lab	이원호	720,000원
5669	2023-03-17 10시	11시	0-1-1 Pre Cleaning DHF(200:1)	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	김승모	405,000원
5670	2023-03-17 15시	16시	HF 200:1 30sec/60sec	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	200,000원
5671	2023-03-20 14시	15시	BOE (10:1) 1000A etch. 1 min 진행	포항공과대학교 대학원	화학공학과	김준	240,000원
5672	2023-03-21 11시	12시	BOE 직접 진행	주식회사 아이큐랩	생산기술	김희종	225,000원
5673	2023-03-21 12시	14시	잔여 Ni 제거	(주)예스파워테크닉스	연구소	박현	114,000원
5674	2023-03-21 14시	15시	SOI 웨이퍼의 BOX 층 제거를 진행하고자 합니다. 김석 교수님 연구실에서 HF 용액을 구매했는데 전달 받고자합니다. NINT 도착하면 연락 드리겠습니다.	포항공과대학교	기계공학과	이상엽	72,000원
5675	2023-03-24 10시	16시	인산 bath 사용	템퍼스	생산기술팀	서영민	600,000원
5676	2023-03-27 15시	17시	DHF 100:1 2min 진행	주식회사 아이큐랩	생산기술	김희종	90,000원
5677	2023-03-28 13시	14시	1-1-1/1-1-2/1-1-3 Pre Cleaning. SPM -> BOE(1:10) -> TMAH	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	637,500원
5678	2023-03-29 10시	11시	1-1-1 Pre-cleaning SPM 120C 10min / 12ea, 2회 진행	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	권민규	240,000원
5679	2023-04-03 10시	11시	BOE 10:1 1min 조각 4ea. (3/31)	포항공과대학교 대학원	화학공학과	김준	240,000원
5680	2023-04-03 17시	17시	BOE(10:1) 1min 진행	포항공과대학교 대학원	화학공학과	김준	240,000원
5681	2023-04-04 16시	17시	DHF 1:100 1min. 자연산화막 제거	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	김승모	80,000원
5682	2023-04-04 17시	18시	5-3-2 Oxide etch. BOE(10:1) target=2000A, 10ea. [나노융합기반 고도화사업]	(주)엔디디	기업부설연구소	이승헌	300,000원
5683	2023-04-04 9시	12시	SC1	삼성디스플레이	Micro LED Lab (Micro Display Team)	유철종	360,000원
5684	2023-04-04 9시	10시	2-3-3 PR remove. SPM 120C 10min 12ea	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	권민규	240,000원
5685	2023-04-05 9시	11시	SC1	삼성디스플레이	Micro LED Lab (Micro Display Team)	유철종	120,000원
5686	2023-04-06 10시	11시	0-1-1 Pre-Cleaning SPM 120C 5min. 0-1-2 Pre-Cleaning BOE 1:10 1min.	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	382,500원
5687	2023-04-10 9시	11시	(SC1)	삼성디스플레이	Micro LED Lab (Micro Display Team)	유철종	360,000원
5688	2023-04-11 10시	11시	2-2-4 PR remove. SPM 120C 10min 12ea.	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	강보현	240,000원
5689	2023-04-11 14시	15시	0-1-1 SPM 120C 10min	포항공과대학교	전자전기공학과	조성민	135,000원
5690	2023-04-12 15시	16시	3-2-2 PR remove SPM 120C 10min. 4ea.	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	강보현	120,000원
5691	2023-04-12 9시	12시	SC1	삼성디스플레이	Micro LED Lab (Micro Display Team)	유철종	785,000원
5692	2023-04-14 13시	15시	BOE	주식회사 아이큐랩	생산기술	김희종	225,000원
5693	2023-04-16 21시	22시	나노융합기반 고도화사업 전자과 신성환 010 9081 6590	포항공과대학교	전자전기공학부	신성환	80,000원
5694	2023-04-17 22시	23시	나노융합기반 고도화사업 전자과 신성환 010 9081 6590	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	80,000원
5695	2023-04-19 9시	11시	SC1	삼성디스플레이	uLED Lab	이원호	240,000원
5696	2023-04-19 9시	10시	LOT ID: NDB23Y15W 목적: DHF 총 6장 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5697	2023-04-24 9시	10시	SC1	삼성디스플레이	uLED Lab	이원호	240,000원
5698	2023-04-25 10시	11시	불산 4L 용액 요청드립니다. 감사합니다 :)	포항공과대학교	창의IT융합공학과	유형석	180,000원
5699	2023-04-25 15시	17시	클리닝용 테프론 캐리어 동봉하였습니다.	경희대학교	원자력공학과	한지훈	180,000원
5700	2023-04-27 10시	11시	나노융합기반 고도화사업 전자과 손종민 010-9766-0039	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	80,000원
5701	2023-04-28 23시	24시	나노융합기반 고도화사업 전자과 손종민 010-9766-0039 8인치 SOI 1장 native ox 제거 위해 dHF 8.5분 진행합니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	80,000원
5702	2023-05-03 10시	12시	[2023년 나노융합기반 고도화사업] 1-2-3 SPM 10min	(주)지아이에스	지아이에스 부설연구소	이민재	150,000원
5703	2023-05-09 15시	16시	Spm+apm	주식회사 아이큐랩	생산기술	김희종	216,000원
5704	2023-05-11 15시	16시	BOE 1min	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	김승모	240,000원
5705	2023-05-12 14시	15시	SPM, DHF 함께 사용	포항공과대학교 대학원	IT융합공학과	김기영	180,000원
5706	2023-05-12 14시	15시	DHF(100:1) 1min	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	김승모	80,000원
5707	2023-05-15 13시	14시	DHF(200:1) 5min / 10min / 10min	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	김승모	160,000원
5708	2023-05-15 13시	14시	Spm 5min	주식회사 아이큐랩	생산기술	김희종	108,000원
5709	2023-05-15 15시	16시	BOE	주식회사 아이큐랩	생산기술	김희종	225,000원
5710	2023-05-16 10시	11시	apm + spm	주식회사 아이큐랩	생산기술	김희종	216,000원
5711	2023-05-17 11시	12시	LOT ID: NDC23Y02W 목적: WT공정 DHF 총 20장 (계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5712	2023-05-17 15시	16시	H2SO4 직접 이용	주식회사 아이큐랩	생산기술	김희종	108,000원
5713	2023-05-17 16시	18시	SPM 10min APM 10min	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	270,000원
5714	2023-05-17 9시	10시	SC1	삼성디스플레이	Micro LED Lab (Micro Display Team)	유철종	120,000원
5715	2023-05-18 13시	14시	SPM	한국전자통신연구원	ICT창의연구소	유성욱	150,000원
5716	2023-05-22 10시	12시	2-1-3 SPM 120C, 10min 2023년 나노융합기반 고도화사업	(주)지아이에스	지아이에스 부설연구소	이민재	150,000원
5717	2023-05-22 10시	11시	1-2-4 SPM 120C 10min 2023년 나노융합기반 고도화사업	(주)지아이에스	지아이에스 부설연구소	이민재	150,000원
5718	2023-05-23 16시	17시	0-2-3 akey pr remove spm	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	강보현	120,000원
5719	2023-05-24 12시	13시	DHF 100:1 / 1min	주식회사 아이큐랩	생산기술	김희종	144,000원
5720	2023-05-26 13시	15시	1-1-1 SPM 10min 1-1-2 DHF(100:1) 1min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	212,500원
5721	2023-05-26 14시	15시	SPM 5min	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	김승모	120,000원
5722	2023-05-26 15시	16시	1-1-4 APM	에스앤에스텍	EUV Pellicle 개발팀	이승조	150,000원
5723	2023-05-30 13시	14시	BOE Etch	주식회사 아이큐랩	생산기술	김희종	225,000원
5724	2023-05-30 16시	17시	spm + apm	주식회사 아이큐랩	생산기술	김희종	216,000원
5725	2023-05-31 10시	11시	2-2-1 DHF(100:1) 1min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	85,000원
5726	2023-06-02 16시	17시	HF 50% 용액 사용 예정	포항공과대학교	기계공학과	김승범	72,000원
5727	2023-06-05 9시	10시	SC1	삼성디스플레이	선행제품연구팀	김수철	240,000원
5728	2023-06-07 9시	10시	SC1	삼성디스플레이	선행제품연구팀	김수철	120,000원
5729	2023-06-09 10시	11시	2-2-3 PR remove SPM	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	권민규	120,000원
5730	2023-06-09 11시	12시	2-1-3 PR remove SPM	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	권민규	120,000원
5731	2023-06-09 9시	10시	2-3-0 DHF(100:1) 1min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	85,000원
5732	2023-06-12 15시	16시	나노융합기반 고도화사업, 전자과 손종민 (010-9766-0039) dHF 사용 예정입니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	80,000원
5733	2023-06-12 9시	10시	LOT ID: NDB23Y23W 목적: DHF 총 6장 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5734	2023-06-13 9시	10시	SC1	삼성디스플레이	Micro LED Lab (Micro Display Team)	유철종	240,000원
5735	2023-06-15 11시	12시	Wet Strip	주식회사 아이큐랩	생산기술	김희종	120,000원
5736	2023-06-15 14시	16시	1-1-1 Pre Cleaning SC1 10min	한국원자력연구원	입자빔이용연구부	김동석	150,000원
5737	2023-06-15 9시	10시	1-1-1 Pre Cleaning SPM, 120℃, 10min	한국원자력연구원	입자빔이용연구부	김동석	150,000원
5738	2023-06-16 10시	11시	SPM 5min	주식회사 아이큐랩	생산기술	김희종	108,000원
5739	2023-06-19 13시	14시	0-1-2 Pre Cleaning APM	에스앤에스텍	EUV Pellicle 개발팀	이승조	150,000원
5740	2023-06-19 9시	10시	SC1	삼성디스플레이	micro led lab	서동균	120,000원
5741	2023-06-19 9시	10시	전자과 박성민 (010-2094-9607) 5~9 * 10^18 cm-3 정도로 도핑된 Si 웨이퍼의 자연 산화막 제거 의뢰 드립니다. 제거가 끝난 후 황현주 연구원님께 전달 부탁 드립니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	윤주영	80,000원
5742	2023-06-20 11시	12시	PR Strip	주식회사 아이큐랩	생산기술	김희종	120,000원
5743	2023-06-23 15시	17시	SPM	한국전자통신연구원	ICT창의연구소	유성욱	150,000원
5744	2023-06-26 10시	11시	SOI box층 제거 예정입니다.	포항공과대학교	기계공학과	이상엽	72,000원
5745	2023-06-26 15시	16시	BOE(10:1) oxide etch 1min 30sec	포항공과대학교	반도체기술융합센터	김준	240,000원
5746	2023-06-27 10시	11시	나노융합기반 고도화사업, 전자과 손종민 (010-9766-0039) 플라스틱 비커에 옮겨서 PR 지울 예정입니다	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	120,000원
5747	2023-06-27 11시	12시	나노융합기반 고도화사업, 전자과 손종민 (010-9766-0039) 플라스틱 비커에 옮겨 담아서 dHF 진행 예정입니다	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	80,000원
5748	2023-06-28 15시	16시	SPM 직접 이용 고도화 사업 [나노융합기반 고도화사업]	주식회사 아이큐랩	생산기술	김희종	480,000원
5749	2023-06-28 16시	17시	1-1-1 Pre Cleaning SPM(120C, 10min)	LG전자	차세대디스플레이연구소	장성규	150,000원
5750	2023-06-29 11시	12시	LOT ID: NDC23Y26W 목적: Initial Cleaning(SPM) 총 2회 (계약건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5751	2023-06-30 14시	15시	SOI 웨이퍼의 BOX layer 식각 예정	포항공과대학교	기계공학과	이상엽	72,000원
5752	2023-07-03 10시	12시	웻진행 및 Pd 30nm/Ti 3nm 증착 증착 후 Wafer 곡률 측정	싸니코전자(주)	개발팀	최주헌	250,000원
5753	2023-07-03 15시	17시	0-1-3 boe pre-cleaning + spm (BOE 10:1 2min + SPM 10min) 1-1-2 si depo. spm	전북대학교	전자공학부	김기현	600,000원
5754	2023-07-04 17시	18시	HF 50%용액으로 SiO2 층 제거 예정입니다.	포항공과대학교	기계공학과	이상엽	72,000원
5755	2023-07-04 9시	10시	DHF(100:1)	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	김승모	80,000원
5756	2023-07-05 10시	11시	나노융합기반 고도화사업, 전자과 손종민 (010-9766-0039)	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	120,000원
5757	2023-07-05 14시	15시	1-3-3 PR Strip SPM (120C, 10min)	전북대학교	전자공학부	김기현	150,000원
5758	2023-07-05 9시	10시	0-1-2 Pre Cleaning SPM(120C, 10min) [2023 나노융합기반 고도화사업]	(주)에스제이컴퍼니	개발팀	박상준	150,000원
5759	2023-07-07 9시	10시	BOE	삼성디스플레이	Micro LED Lab (Micro Display Team)	유철종	240,000원
5760	2023-07-10 13시	14시	LOT ID: NDC23Y26W 목적: CA공정 SPM 총 20장 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5761	2023-07-11 6시	7시	3-2-1 backside electrode cleaning boe 2min	전북대학교	전자공학부	김기현	300,000원
5762	2023-07-11 9시	10시	BOE	삼성디스플레이	-	여소영	240,000원
5763	2023-07-11 9시	10시	W/S_Acid	삼성디스플레이	-	여소영	240,000원
5764	2023-07-12 9시	11시	0-1-2 fab-in pre cleaning apm 1-3-1 front cleaning apm	에스앤에스텍	EUV Pellicle 개발팀	이승조	300,000원
5765	2023-07-13 10시	11시	LOT ID: NDC23Y26W 목적: CA공정 DHF 총 20장 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5766	2023-07-13 11시	15시	LOT ID: NDC23Y26W 목적: CA공정 TMAH 총 20장 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5767	2023-07-13 15시	16시	1-1-1 Pre Cleaning SPM(120℃, 10min)	LG전자	차세대디스플레이연구소	장성규	150,000원
5768	2023-07-14 13시	14시	나노융합기반 고도화사업, 전자과 손종민 (010-9766-0039) furnance에서 thermal oxidation 진행 예정인 웨이퍼입니다. native oxide 제거 후 황현주 선생님께 전달해주시면 감사하겠습니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	100,000원
5769	2023-07-17 10시	11시	BOE 직접 이용 고도화 사업	주식회사 아이큐랩	생산기술	김희종	250,000원
5770	2023-07-17 11시	12시	SPM+APM 직접 이용 고도화 사업	주식회사 아이큐랩	생산기술	김희종	240,000원
5771	2023-07-17 13시	14시	DHF 100:1 2023년 나노 융합 기반 고도화 사업	주식회사 아이큐랩	생산기술	김희종	80,000원
5772	2023-07-17 14시	15시	LOT ID: NDC23Y26W 목적: Hard Mask Remove_BOE 총 20장(계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5773	2023-07-17 16시	18시	0-1-3 0 fab-in spm clean 0-1-4 0 fab-in sc2 clean 0-1-4 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	880,000원
5774	2023-07-18 10시	11시	[나노융합기반 고도화사업] 전자과 손종민 (010-9766-0039)	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	120,000원
5775	2023-07-18 11시	12시	[나노융합기반 고도화사업] 전자과 손종민 (010-9766-0039)	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	80,000원
5776	2023-07-18 13시	15시	1.0 Piranha Cln. + DI 5min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	127,500원
5777	2023-07-19 16시	17시	spm+apm 2023 나노 융합 기반 고도화 사업	주식회사 아이큐랩	생산기술	김희종	240,000원
5778	2023-07-19 17시	18시	dhf 100:1 고도화사업비	주식회사 아이큐랩	생산기술	김희종	80,000원
5779	2023-07-19 9시	11시	SC1	삼성디스플레이	선행제품연구팀	김수철	240,000원
5780	2023-07-20 14시	15시	1-3-2 AKEY PR Remove SPM PR Strip	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	120,000원
5781	2023-07-20 7시	8시	0-1-2 0 fab-in pre cleaning	코닝정밀소재주식회사	연구소	석성호	150,000원
5782	2023-07-21 14시	15시	0-1-2 0 fab-in pre cleaning sc1	에스제이	영업	박상준	150,000원
5783	2023-07-24 10시	11시	DHF 100:1 고도화사업비	주식회사 아이큐랩	생산기술	김희종	80,000원
5784	2023-07-25 11시	12시	DHF(1/100) 고도화사업비	주식회사 아이큐랩	생산기술	김희종	80,000원
5785	2023-07-26 10시	11시	DHF(1/100) 고도화사업비	주식회사 아이큐랩	생산기술	김희종	80,000원
5786	2023-07-26 14시	16시	2-3-2 RX PR Remove SPM PR Strip	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	120,000원
5787	2023-07-27 11시	12시	Copper	포항공과대학교 대학원	기계공학과	김우현	72,000원
5788	2023-07-27 14시	15시	SPM 고도화사업	주식회사 아이큐랩	생산기술	김희종	120,000원
5789	2023-07-27 17시	18시	DHF(100:1) 1min	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	김승모	80,000원
5790	2023-07-28 14시	16시	0-2-1 SPM 120C 10min 0-2-2 DHF 100:1 1min 0-2-3 TMAH 2.38% 1min	삼성전자	DS	김태훈	0원
5791	2023-08-01 9시	10시	sc1	삼성디스플레이	Micro LED Lab (Micro Display Team)	유철종	120,000원
5792	2023-08-02 11시	13시	SC1, DI	삼성디스플레이	Micro Display	류용우	240,000원
5793	2023-08-02 9시	11시	BOE	삼성디스플레이	Micro Display	류용우	960,000원
5794	2023-08-03 10시	12시	160C 15min	포항공과대학교	반도체기술융합센터	김준	240,000원
5795	2023-08-03 13시	14시	0-2-1 Pre Cleaning SPM 120C 10min 0-2-2 Pre Cleaning DHF 1min 0-2-3 TMAH(2.38%) 70C 1min	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	495,000원
5796	2023-08-03 14시	15시	spm	주식회사 아이큐랩	생산기술	김희종	108,000원
5797	2023-08-03 9시	12시	0-2-1 Pre Cleaning SPM 120C 10min 0-2-2 Pre Cleaning DHF(100:1) 1min 0-2-3 Pre Cleaning TMAH(2.38%) 70C 1min	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	495,000원
5798	2023-08-04 15시	17시	0-2-3 Pre Cleaning DHF(100:1) 1min	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	90,000원
5799	2023-08-04 15시	18시	1-3-1 AKEY PR Remove SPM PR Strip 1-3-3 AKEY PR Remove SPM PR Strip	삼성전자	DS	김태훈	0원
5800	2023-08-04 15시	18시	1-3-1 AKEY PR Remove SPM PR Strip 1-3-3 AKEY PR Remove SPM PR Strip	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	270,000원
5801	2023-08-07 9시	11시	SPM, SC1 cleaning	삼성디스플레이	선행제품연구팀	김수철	600,000원
5802	2023-08-07 9시	10시	1-3-6 AKEY PR Remove WF Cleaning TMAH(2.38%) 1min	삼성전자	DS	김태훈	0원
5803	2023-08-07 9시	10시	1-3-7 AKEY PR Remove WF Cleaning TMAH(2.38%) 1min	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	270,000원
5804	2023-08-08 13시	14시	[나노융합기반 고도화사업] 전자과 손종민 (010-9766-0039)	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	120,000원
5805	2023-08-08 15시	16시	SPM 5min + BOE 1min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	382,500원
5806	2023-08-09 14시	15시	SPM 5min + BOE(10:1) 1min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	382,500원
5807	2023-08-09 15시	16시	BOE(10:1) 15sec	포항공과대학교 대학원	화학공학과	김준	240,000원
5808	2023-08-10 12시	13시	나노융합기반 고도화사업, 전자과 손종민 (010-9766-0039) spm 3회 진행 25매 8inch soi wafer	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	450,000원
5809	2023-08-11 10시	11시	나노융합기반 고도화사업, 전자과 손종민 (010-9766-0039)	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	120,000원
5810	2023-08-14 13시	15시	BOE(10:1)	삼성전자	VD 사업부	이기원	540,000원
5811	2023-08-14 13시	14시	BOE	주식회사 아이큐랩	생산기술	김희종	225,000원
5812	2023-08-14 14시	15시	SPM+APM 나노융합기반 고도화 사업	주식회사 아이큐랩	생산기술	김희종	228,000원
5813	2023-08-14 9시	10시	SC1	삼성디스플레이	Micro LED Lab. (Micro Display 팀)	정준석	120,000원
5814	2023-08-16 13시	15시	2-4-1 PWELL Mask Remov. PR Cleaning SPM 120C 10min 2-4-2 PWELL Mask Remov. Oxide Remove BOE(10:1) 15min	삼성전자	DS	김태훈	0원
5815	2023-08-16 13시	15시	2-4-1 PWELL Mask Remov. PR Cleaning SPM 120C 10min 2-4-2 PWELL Mask Remov. Oxide Remove BOE(10:1) 15min	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	405,000원
5816	2023-08-17 10시	11시	나노융합기반 고도화사업, 전자과 손종민 (010-9766-0039)	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	80,000원
5817	2023-08-17 14시	18시	BOE(10:1) 1min + H3PO4 (160C) 15min + BOE(10:1) 15sec	포항공과대학교	반도체기술융합센터	김준	720,000원
5818	2023-08-17 9시	11시	SC1 cleaning	삼성디스플레이	Micro LED Lab	홍나미	360,000원
5819	2023-08-18 15시	16시	DHF	주식회사 아이큐랩	생산기술	김희종	72,000원
5820	2023-08-18 16시	17시	SPM+APM	주식회사 아이큐랩	생산기술	김희종	228,000원
5821	2023-08-22 10시	11시	Copper, 담가두고 저녁에 수거하겠습니다. HF 용액과 지그는 오염 문제로 인해 옆에 따로 두겠습니다	포항공과대학교 대학원	기계공학과	김우현	72,000원
5822	2023-08-22 15시	16시	BOE 나노융합기술원 기반 고도화 사업	주식회사 아이큐랩	생산기술	김희종	225,000원
5823	2023-08-23 10시	12시	0-1-3 Fab-in SPM Clean SPM(120C) 10min + HADR 7min 0-1-4 Fab-in SC2 Clean SC2(상온) 10min 0-1-5 Fab-in DHF(100:1) 1min	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	880,000원
5824	2023-08-23 11시	12시	2-2-6 pwell pe-oxide etch spm pr remove	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	120,000원
5825	2023-08-23 17시	18시	BOE(10:1) 3min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	255,000원
5826	2023-08-24 9시	12시	0-1-1 Fab-In Pre Cleaning SPM 120C 3min 0-1-1 Fab-In Pre Cleaning SC1	삼성디스플레이	Micro Display	류용우	480,000원
5827	2023-08-25 14시	15시	나노융합기반 고도화사업, 전자과 손종민 (010-9766-0039) PR erase 위해 SPM 사용 예정입니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	120,000원
5828	2023-08-25 15시	18시	1-3-3 AKEY AKEY PR Remove SPM PR Strip SPM 10min HQDR 7min	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	120,000원
5829	2023-08-25 15시	16시	APM	주식회사 아이큐랩	생산기술	김희종	108,000원
5830	2023-08-25 16시	18시	1-2-3 AKEY AKEY PR Remove SPM PR Strip SPM 120C 10min	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	120,000원
5831	2023-08-28 10시	12시	1-3-2 AKEY AKEY PR Remove SPM PR Strip SPM 120C 10min	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	120,000원
5832	2023-08-28 10시	12시	3-4-2 SOURCE_IMP N+ Mask Remov. PR Cleaning SPM 120C 10min 3-4-3 SOURCE_IMP N+ Mask Remov. Oxide Remove BOE(10:1) 15min	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	405,000원
5833	2023-08-28 10시	12시	3-4-2 SOURCE_IMP N+ Mask Remov. PR Cleaning SPM 120C 10min 3-4-3 SOURCE_IMP N+ Mask Remov. Oxide Remove BOE(10:1) 15min	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	0원
5834	2023-08-28 13시	14시	전자과 조현영 (010.3572.9940)	포항공과대학교	전자전기공학과	윤주영	80,000원
5835	2023-08-28 15시	16시	SPM 나노융합기술원기반 고도화 사업	주식회사 아이큐랩	생산기술	김희종	108,000원
5836	2023-08-28 9시	12시	Cleaning	삼성전자	VD 사업부	이기원	540,000원
5837	2023-08-29 14시	16시	2-1-1 ACT. AREA Pre Cleaning SPM 120C 10min	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	120,000원
5838	2023-08-30 9시	11시	1-3-2 AKEY+ISO PR Remove SPM PR Strip SPM 120C 10min	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	135,000원
5839	2023-08-31 16시	17시	BOE(10:1) 3min + SPM 5min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	382,500원
5840	2023-08-31 18시	19시	BOE(10:1) 270sec	삼성디스플레이	Micro Display	류용우	240,000원
5841	2023-09-01 10시	11시	2-3-2 RX RX PR Remove SPM PR Strip	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	120,000원
5842	2023-09-01 14시	15시	DHF 100:1	주식회사 아이큐랩	생산기술	김희종	72,000원
5843	2023-09-01 16시	17시	1-1-1 gate oxid nitric acid treatment sc1	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	120,000원
5844	2023-09-04 13시	14시	0-1-2 Pre Cleaning SPM 120C 10min [2023년 나노융합기반고도화사업]	에스제이	영업	박상준	150,000원
5845	2023-09-04 14시	16시	LOT ID: NDC23Y35W 목적: DC공정 SPM 총 20장 (계약 건)	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	0원
5846	2023-09-04 16시	17시	BOE	주식회사 아이큐랩	생산기술	김희종	225,000원
5847	2023-09-05 10시	11시	0-1-1 SC1	삼성디스플레이	uLED Lab	이원호	120,000원
5848	2023-09-05 11시	12시	PR Strip SPM 120C 10min	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	120,000원
5849	2023-09-05 11시	12시	SPM+APM	주식회사 아이큐랩	생산기술	김희종	216,000원
5850	2023-09-05 11시	12시	BOE(10:1) 516sec	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	240,000원
5851	2023-09-05 12시	13시	DHF 100:1	주식회사 아이큐랩	생산기술	김희종	72,000원
5852	2023-09-05 9시	11시	0-1-1 Pre Cleaning SPM 120C 10min 0-1-1 Pre Cleaning SC1 70C 10min	삼성디스플레이	-	여소영	240,000원
5853	2023-09-06 10시	11시	4-4-2 p+imp p+mask remv. pr cleaning spm 4-4-3 p+imp p+mask remv. oxide remove boe	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	405,000원
5854	2023-09-06 11시	12시	SPM+APM	주식회사 아이큐랩	생산기술	김희종	216,000원
5855	2023-09-06 12시	13시	DHF 100:1	주식회사 아이큐랩	생산기술	김희종	72,000원
5856	2023-09-06 16시	17시	4-4-2 p+imp p+ mask remv. pr cleaning spm 4-4-3 p+imp p+ mask remv. oxide remove boe	삼성전자	DS	김태훈	0원
5857	2023-09-07 15시	16시	0-2-1 cont fab-in pre cleaning spm 0-2-2 cont fab-in pre cleaning dhf 0-2-3 cont fab-in pre cleaning tmah 2.8%	삼성전자	DS	김태훈	0원
5858	2023-09-07 15시	16시	0-2-1 cont fab-in pre cleaning spm 0-2-2 cont fab-in pre cleaning dhf 0-2-3 cont fab-in pre cleaning tmah 2.8%	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	440,000원
5859	2023-09-08 14시	15시	SC1	삼성디스플레이	Micro Display	류용우	240,000원
5860	2023-09-08 15시	16시	BOE(10:1)	삼성디스플레이	Micro Display	류용우	720,000원
5861	2023-09-11 10시	11시	SPM + APM	주식회사 아이큐랩	생산기술	김희종	216,000원
5862	2023-09-11 11시	12시	BOE SiC 3ea (6inch) Si 2ea (8inch)	주식회사 아이큐랩	생산기술	김희종	225,000원
5863	2023-09-11 13시	15시	0-1-1 Pre Cleaning SPM 10min 0-1-2 Pre Cleaning SC1 10min	삼성디스플레이	-	여소영	240,000원
5864	2023-09-11 16시	17시	x	포항공과대학교 대학원	기계공학과	백종현	68,000원
5865	2023-09-11 16시	17시	HF 200:1 30sec/60sec	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	200,000원
5866	2023-09-12 10시	13시	0-1-2 SPM Clean 0-1-3 SC2 Clean 0-1-4 DHF Clean 2023년 나노융합고도화사업	주식회사 에이프로세미콘	기술연구소	조영우	550,000원
5867	2023-09-12 13시	14시	0-1-2 Pre Cleaning SPM 10min 2023년 나노융합기반고도화사업	에스제이	영업	박상준	150,000원
5868	2023-09-12 13시	14시	0-1-2 Pre Cleaning SPM 10min 2023년 나노융합기반고도화사업	에스제이	영업	박상준	150,000원
5869	2023-09-12 13시	14시	0-1-1 Pre Cleaning SC1	삼성디스플레이	Micro LED Lab (Micro Display Team)	유철종	360,000원
5870	2023-09-12 14시	15시	DHF 100:1	주식회사 아이큐랩	생산기술	김희종	72,000원
5871	2023-09-12 14시	15시	0-1-1 SC1	삼성디스플레이	uLED Lab	이원호	120,000원
5872	2023-09-12 15시	16시	SPM + APM	주식회사 아이큐랩	생산기술	김희종	216,000원
5873	2023-09-13 10시	11시	나노융합기반 고도화사업, 전자과 손종민 (010-9766-0039) Si wet etching 위해 TMAH bath 사용 예정입니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	300,000원
5874	2023-09-13 13시	16시	5-4-3 JFET Mask Remov. SPM 10min 5-4-4 JFET Mask Remov. BOE(10:1) 15min 6-1-1 Cleaning DHF(100:1) 1min 6-1-2 Cleaning TMAH(2.38%) 1min	삼성전자	DS	김태훈	0원
5875	2023-09-13 13시	16시	5-4-3 JFET Mask Remov. SPM 10min 5-4-4 JFET Mask Remov. BOE(10:1) 15min 6-1-1 Cleaning DHF(100:1) 1min 6-1-2 Cleaning TMAH(2.38%) 1min	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	765,000원
5876	2023-09-13 17시	17시	SC1	삼성디스플레이	Micro LED Lab (Micro Display Team)	유철종	480,000원
5877	2023-09-13 17시	17시	SC1	삼성디스플레이	Micro LED Lab (Micro Display Team)	유철종	120,000원
5878	2023-09-13 9시	10시	나노융합기반 고도화사업, 전자과 손종민 (010-9766-0039) Si wet etching 전 pre cleaning 위해 dHF 사용 신청합니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	80,000원
5879	2023-09-14 10시	12시	BOE(10:1) 25sec	포항공과대학교	반도체기술융합센터	김준	240,000원
5880	2023-09-14 11시	12시	x	포항공과대학교 대학원	기계공학과	백종현	68,000원
5881	2023-09-14 13시	14시	boe	삼성디스플레이	Micro LED Lab. (Micro Display 팀)	정준석	480,000원
5882	2023-09-14 15시	16시	나노융합기반 고도화사업, 전자과 손종민 (010-9766-0039) SPM 사용 예정입니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	120,000원
5883	2023-09-14 16시	17시	나노융합기반 고도화사업, 전자과 손종민 (010-9766-0039) dHF 사용 예정입니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	80,000원
5884	2023-09-15 10시	11시	첫 장비 신청입니다. Quartz slide 4매를 Cleaning(SPM+DHF) 하고 싶습니다. SPM+DHF 후, a-Si 증착 : PECVD(3000A) 공정 예정입니다. 많은 조언 부탁드립니다.	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	주창영	135,000원
5885	2023-09-15 11시	12시	SPM+DHF 를 하기 위해 10~11(SPM), 11~12(DHF) 신청하였습니다. 이후, a-Si 증착 : PECVD (3000A) 공정 예정입니다. 조언 부탁드립니다.	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	주창영	90,000원
5886	2023-09-15 14시	15시	1-5-1 cont siliciation wet etch ni	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	120,000원
5887	2023-09-15 14시	16시	1-2-1 AKEY+ISO PR Remove SPM PR Strip 10min 2023년 나노융합기반고도화사업	주식회사 에이프로세미콘	기술연구소	조영우	150,000원
5888	2023-09-18 15시	17시	6-4-3 ACTIVATE Carbon Strip SPM PR Strip SPM 120C 10min	삼성전자	DS	김태훈	0원
5889	2023-09-18 15시	17시	6-4-3 ACTIVATE Carbon Strip SPM PR Strip SPM 120C 10min	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	135,000원
5890	2023-09-19 13시	15시	1-3-3 AKEY AKEY PR Remove SPM 120C 10min	삼성전자	DS	김태훈	0원
5891	2023-09-19 13시	16시	0-1-1 Pre Cleaning SPM 120C 3min 0-1-2 Pre Cleaning SC1 SC1	삼성디스플레이	Micro Display	류용우	240,000원
5892	2023-09-19 9시	12시	6-5-1 ACTIVATE Sac. Oixd Pre Cleaning SPM 120C 10min 6-5-2 ACTIVATE Sac. Oixd Pre Cleaning TMAH(2.38%)	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	405,000원
5893	2023-09-19 9시	12시	6-5-1 ACTIVATE Sac. Oixd Pre Cleaning SPM 120C 10min 6-5-2 ACTIVATE Sac. Oixd Pre Cleaning TMAH(2.38%)	삼성전자	DS	김태훈	0원
5894	2023-09-20 14시	15시	1-5-1 cont silicidation ni wet etch 1-6-4 cont silicidation ni wet etch 1-7-4 cont silicidation ni wet etch	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	360,000원
5895	2023-09-20 17시	18시	2023년 나노융합고도화사업 2-1-1 hard mask pre-cleaning dhf clean dhf	주식회사 에이프로세미콘	기술연구소	조영우	100,000원
5896	2023-09-20 7시	8시	0-1-1 0 fab-in pre cleaning sc1	삼성디스플레이	Micro Display	류용우	120,000원
5897	2023-09-21 13시	14시	1-3-3 AKEY AKEY PR Remove SPM PR Strip SPM 120C 10min 1-3-7 AKEY AKEY PR Remove WF Cleaning THAM(2.38%) 70C 1min 2-1-1JPET HARD Hard Mask Pre Cleaning SC1	삼성전자	DS	김태훈	0원
5898	2023-09-21 14시	15시	나노융합기반 고도화사업, 전자과 손종민 (010-9766-0039) dHF 사용 예정입니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	80,000원
5899	2023-09-21 16시	17시	2-2-5 SPACER SPM PR Strip SPM 120C 5min	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	120,000원
5900	2023-09-21 9시	12시	6-5-4 ACTIVATE Ox. Wet Strip BOE(10:1) 5min 7-1-1 ACT. AREA Pre Cleaning SPM 120C 10min 7-1-2 ACT. AREA Pre Cleaning DHF(100:1) 1min 7-1-3 ACT. AREA Pre Cleaning TMAH(2.38%) 1min	삼성전자	DS	김태훈	0원
5901	2023-09-21 9시	12시	6-5-4 ACTIVATE Ox. Wet Strip BOE(10:1) 5min 7-1-1 ACT. AREA Pre Cleaning SPM 120C 10min 7-1-2 ACT. AREA Pre Cleaning DHF(100:1) 1min 7-1-3 ACT. AREA Pre Cleaning TMAH(2.38%) 1min	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	765,000원
5902	2023-09-25 10시	11시	0-1-2 Pre Cleaning SC1	삼성디스플레이	uLED Lab	이원호	120,000원
5903	2023-09-25 10시	11시	0-1-1 Pre Cleaning SPM 0-1-1 Pre Cleaning SC1	삼성디스플레이	Micro LED Lab	홍나미	240,000원
5904	2023-09-25 15시	16시	나노융합기반 고도화사업, 전자과 손종민 SPM 사용 예정입니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	120,000원
5905	2023-09-25 16시	17시	3-3-2 Mesa Etch Wet Etch BOE 380sec	삼성디스플레이	Micro Display	류용우	240,000원
5906	2023-09-25 16시	17시	나노융합기반 고도화사업, 전자과 손종민 dHF 사용 예정입니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	80,000원
5907	2023-09-25 17시	18시	1-3-2 ESTOP Etch SiO2 Wet Etch BOE 430sec	삼성디스플레이	Micro LED Lab (Micro Display Team)	유철종	240,000원
5908	2023-09-25 9시	10시	0-1-1 Pre Cleaning SPM 120C 3min 0-1-1 Pre Cleaning SC1	삼성디스플레이	Micro Display	류용우	480,000원
5909	2023-09-27 14시	16시	7-3-1 BOE	삼성전자	DS	김태훈	0원
5910	2023-09-27 15시	15시	7-3-1 BOE	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	270,000원
5911	2023-10-05 13시	14시	0-1-1 전처리 sc1	삼성디스플레이	선행제품연구팀	김수철	240,000원
5912	2023-10-05 14시	15시	HF 200:1 30sec	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	100,000원
5913	2023-10-05 15시	17시	나노융합기반 고도화사업, 전자과 도정현 (010-6370-5281)	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	80,000원
5914	2023-10-05 9시	10시	0 fab-in spm clean 0 fab-in dhf clean	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	200,000원
5915	2023-10-05 9시	10시	1-3-7 act.area field oxid etching spm pr strip	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	120,000원
5916	2023-10-06 16시	17시	1-3-1 akey pr remove spm pr strip	삼성전자	DS	김태훈	0원
5917	2023-10-10 13시	14시	BOE	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	225,000원
5918	2023-10-10 14시	16시	0-2-1 AKEY Pre Cleaning SPM 0-2-2 AKEY Pre CLeaning DHF(100:1) 0-2-3 AKEY Pre Cleaning TMAH	삼성전자	DS	김태훈	0원
5919	2023-10-10 14시	16시	0-2-1 CONT Pre Cleaning SPM 0-2-2 CONT Pre Cleaning DHF(100:1) 0-2-3 CONT Pre Cleaning TMAH	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	440,000원
5920	2023-10-10 16시	17시	1-3-3 AKEY PR Remove SPM PR Strip	삼성전자	DS	김태훈	0원
5921	2023-10-10 17시	18시	3-1-3 PWELL SPM PR Strip 2ea	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	120,000원
5922	2023-10-11 11시	12시	2-2-5 PWELL SPM PR Strip 5min	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	120,000원
5923	2023-10-11 16시	18시	1-3-7 AKEY PR Remove WF Cleaning TMAH(2.238%) 2-1-1 JFET IMP JFET Hardmask Pre Cleaning SC1	삼성전자	DS	김태훈	0원
5924	2023-10-12 10시	11시	HF 50% 용액 사용할 예정입니다. 기존에 사용하던 HF 용액을 다 사용하여 NINT 창고에서 하나 꺼내주시기를 부탁드립니다. OLED 증착기가 있는 방에서 사용 예정입니다.	포항공과대학교	기계공학과	이상엽	72,000원
5925	2023-10-12 11시	12시	3-2-9 CONT SPM PR Strip SPM 120C 5min	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	120,000원
5926	2023-10-12 11시	12시	2-2-3 SPACER SPM PR Strip	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	120,000원
5927	2023-10-12 15시	16시	PR Strip 진행	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	108,000원
5928	2023-10-12 9시	10시	2-3-2 sio2 etch oxide wet etch boe 2023년 나노융합기반고도화 사업	에스제이	영업	박상준	300,000원
5929	2023-10-13 1시	2시	BOE	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	225,000원
5930	2023-10-13 17시	18시	BOE 10:1 1min	삼성디스플레이	Micro LED Lab (Micro Display Team)	유철종	240,000원
5931	2023-10-16 10시	12시	0-1-2 Pre Cleaning SC1	삼성디스플레이	uLED Lab	이원호	120,000원
5932	2023-10-16 13시	14시	20nm SiO2 etch 위해 dHF 사용 예정입니다	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	72,000원
5933	2023-10-16 3시	4시	BOE Oxide Etch	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	225,000원
5934	2023-10-17 10시	12시	0-1-1 Pre Cleaning SPM 0-1-2 Pre Cleaning SC1	삼성디스플레이	-	여소영	480,000원
5935	2023-10-17 16시	17시	SPM 5min + BOE 1min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	382,500원
5936	2023-10-17 16시	17시	1 Wet Clean Pre Cleaning SPM+DHF	동서대학교 산학협력단	동서대학교 기계공학과	김호진	300,000원
5937	2023-10-17 20시	21시	없음	포항공과대학교 대학원	기계공학과	김우현	72,000원
5938	2023-10-18 12시	13시	DHF 100:1 사용	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	72,000원
5939	2023-10-18 14시	15시	SPM, APM 사용	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	216,000원
5940	2023-10-18 16시	17시	8-1-3 GATE Gate oxid Nitric Acid Treatment sc1	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	135,000원
5941	2023-10-18 9시	12시	0-1-1 Pre Cleaning SPM 0-1-2 Pre Cleaning SC1	삼성디스플레이	-	여소영	240,000원
5942	2023-10-19 12시	13시	DHF 100:1 사용	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	72,000원
5943	2023-10-19 13시	14시	SPM APM 사용	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	216,000원
5944	2023-10-19 14시	15시	2-2-6 SPACER SPM PR Strip - 9ea	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	120,000원
5945	2023-10-19 14시	16시	3-2-2 SiO2 Etch BOE 2023년 나노융합기반고도화사업	에스제이	영업	박상준	300,000원
5946	2023-10-19 9시	11시	0-1-1 SC1	삼성디스플레이	Micro Display	한상욱	120,000원
5947	2023-10-19 9시	11시	0-1-1 Pre Cleaning SPM 0-1-1 Pre Cleaning SC1	삼성디스플레이	-	여소영	240,000원
5948	2023-10-20 10시	12시	8-1-3 GATE Oxid Nitride Aicd Treatment SC1 1min	삼성전자	DS	김태훈	0원
5949	2023-10-20 10시	12시	8-1-3 Gate oxid Nitric Acid Treatment SC1 1min	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	135,000원
5950	2023-10-23 15시	16시	BOE	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	225,000원
5951	2023-10-23 16시	17시	6 Oxide Open Oxide Wet Etch BOE(10:1)	동서대학교 산학협력단	동서대학교 기계공학과	김호진	300,000원
5952	2023-10-23 18시	19시	8-4-2 GATE Backside Etch Wet etch oxide BOE(10:1)	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	270,000원
5953	2023-10-23 18시	19시	8-4-2 GATE Backside Etch Wet etch oxide BOE(10:1)	삼성전자	DS	김태훈	0원
5954	2023-10-23 19시	20시	8-4-4 GATE Backside Etch SPM PR Strip SPM 5min	삼성전자	DS	김태훈	0원
5955	2023-10-23 19시	20시	8-4-4 GATE Backside Etch SPM PR Strip SPM 5min	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	135,000원
5956	2023-10-23 19시	20시	1-3-1 AKEY AKEY PR Remove SPM PR Strip SPM 10min	삼성전자	DS	김태훈	0원
5957	2023-10-23 19시	20시	1-3-1 AKEY AKEY PR Remove SPM PR Strip SPM 10min	삼성전자	DS	김태훈	0원
5958	2023-10-24 10시	11시	spm	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	108,000원
5959	2023-10-24 16시	17시	1-3-3 AKEY AKEY PR Remove SPM PR Strip SPM 120C 10min	삼성전자	DS	김태훈	0원
5960	2023-10-24 16시	17시	1-3-3 AKEY AKEY PR Remove SPM PR Strip SPM 120C 10min	삼성전자	DS	김태훈	0원
5961	2023-10-25 10시	11시	[TIPS 과제로 정산 부탁드립니다] SPM 사용 예정입니다	포항공과대학교	전자전기공학과	손종민	120,000원
5962	2023-10-25 11시	12시	[TIPS 과제로 정산 부탁드립니다] SPM 사용 예정입니다	포항공과대학교	전자전기공학과	손종민	80,000원
5963	2023-10-25 18시	19시	5-0-3 PAS2 Wet Etch BOE 1um 5-0-4 PAS2 M Inspaction Microscope	삼성디스플레이	Micro Display	류용우	248,000원
5964	2023-10-25 18시	19시	4-3-2 Etch stop Wet Etch BOE 1um 4-3-4 Etch stop M Inspaction Microscope	삼성디스플레이	Micro Display	류용우	552,000원
5965	2023-10-25 18시	18시	0-1-1 Pre Cleaning SPM 120C 3min 0-1-1 Pre Cleaning SC1	삼성디스플레이	Micro Display	류용우	480,000원
5966	2023-10-25 19시	20시	4-3-2 Etch stop Wet etch BOE 1um 4-3-4 Etch stop M inspaction	삼성디스플레이	Micro Display	류용우	248,000원
5967	2023-10-26 13시	14시	spm+apm	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	216,000원
5968	2023-10-26 16시	17시	0-1-1 Pre cleaning spm 0-1-1 pre cleaning sc1	삼성디스플레이	Micro Display	류용우	480,000원
5969	2023-10-26 17시	18시	3-3-1 Mesa wet etch boe	삼성디스플레이	Micro Display	류용우	240,000원
5970	2023-10-26 17시	17시	4-3-2 Etch stop wet etch boe sio2 1um + al2o3 600a 4-3-4 Etch stop M inspection microscope	삼성디스플레이	Micro Display	류용우	248,000원
5971	2023-10-26 17시	18시	0-1-1 Pre Cleaning SPM 10min	삼성디스플레이	Micro Display	류용우	240,000원
5972	2023-10-26 17시	17시	4-3-2 Etch stop wet etch boe sio2 1um + al2o3 600a 4-3-4 Etch stop M inspection microscope	삼성디스플레이	Micro Display	류용우	312,000원
5973	2023-10-27 15시	17시	0-2-1 cont pre cleaning spm 0-2-2 cont pre cleaning dhf 0-2-3 cont pre cleaning tmah 2.38%	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	440,000원
5974	2023-10-27 20시	21시	8-6-5 GATE PolySi Etch SPM PR Strip	삼성전자	DS	김태훈	0원
5975	2023-10-27 20시	21시	8-6-5 GATE PolySi Etch SPM PR Strip	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	135,000원
5976	2023-10-28 10시	11시	9-1-1 ILD Depo Pre Cleaning DHF (1:100)	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	90,000원
5977	2023-10-28 10시	11시	9-1-1 ILD Depo Pre Cleaning DHF (1:100)	삼성전자	DS	김태훈	0원
5978	2023-10-30 15시	17시	0-2-1 Pre Cleaning SPM 0-2-2 Pre Cleaning DHF 0-2-3 Pre Cleaning TMAH	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	440,000원
5979	2023-10-30 15시	17시	0-2-1 Pre Cleaning SPM 0-2-2 Pre Cleaning DHF 0-2-3 Pre Cleaning TMAH	삼성전자	DS	김태훈	0원
5980	2023-11-01 10시	14시	0-1-1 Pre Cleaning SPM 0-1-1 Pre Cleaning SC1	삼성디스플레이	-	여소영	480,000원
5981	2023-11-01 10시	11시	native Ox 제거 위해 dHF 사용 예정입니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	손종민	72,000원
5982	2023-11-01 11시	12시	디스플레이방 TMAH bath로 Si wet etch 예정입니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	손종민	225,000원
5983	2023-11-01 12시	13시	DHF(200:1) 30sec	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	400,000원
5984	2023-11-01 15시	16시	SPM 사용 예정입니다. TIPS 과제로 정산 부탁드립니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	손종민	120,000원
5985	2023-11-01 16시	17시	10-2-4 CONT PE-Oxide etch SPM PR Strip	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	135,000원
5986	2023-11-01 16시	17시	10-2-4 CONT PE-Oxide etch SPM PR Strip	삼성전자	DS	김태훈	0원
5987	2023-11-01 9시	10시	10-2-2 CONT PE-Oxide etch BOE(10:1) 900a	삼성전자	DS	김태훈	0원
5988	2023-11-01 9시	10시	10-2-2 CONT PE-Oxide etch BOE(10:1) 900a	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	270,000원
5989	2023-11-02 11시	12시	0-1-1 전처리 SPM 0-1-2 전처리 SC1	삼성디스플레이	Micro Display	류용우	240,000원
5990	2023-11-02 12시	13시	BOE 사용 (Oxide Etch)	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	225,000원
5991	2023-11-02 13시	14시	SPM 사용 (PR Strip)	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	108,000원
5992	2023-11-02 16시	17시	DHF(100:1)	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	80,000원
5993	2023-11-02 19시	20시	DHF 동시사용	포항공과대학교	창의IT융합공학과	최민근	180,000원
5994	2023-11-03 10시	11시	BOE 사용 (Oxide Etch)	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	225,000원
5995	2023-11-03 10시	12시	SC1	삼성디스플레이	Micro LED Lab (Micro Display Team)	유철종	120,000원
5996	2023-11-03 15시	16시	SPM , APM 사용 ( CLN 목적 )	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	216,000원
5997	2023-11-03 16시	17시	DHF 100 : 1 (CLN 목적)	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	72,000원
5998	2023-11-03 9시	10시	Bare wafer 2장 세정 요청드립니다. 9시까지 wafer 전달드리도록 하겠습니다.	한국생산기술연구원	첨단메카트로닉스연구그룹	노은식	150,000원
5999	2023-11-06 13시	14시	0-1-2 Pre Cleaning SPM 0-1-3 Pre Cleaning DHF 0-1-4 Pre Cleaning TMAH	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	440,000원
6000	2023-11-06 15시	16시	dHF bath 사용 예정입니다	포항공과대학교	전자전기공학과	손종민	72,000원
6001	2023-11-06 16시	17시	TMAH bath 사용 예정입니다	포항공과대학교	전자전기공학과	손종민	225,000원
6002	2023-11-06 17시	18시	11-2-3 Gate Cont Wet Etch oxide BOE(10:1)	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	270,000원
6003	2023-11-06 17시	18시	11-2-3 Gate Cont Wet Etch oxide BOE(10:1)	삼성전자	DS	김태훈	0원
6004	2023-11-06 9시	10시	0-1-2 pre-cleaning spm	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	120,000원
6005	2023-11-06 9시	10시	0-1-2 0 fab-in pre cleaning spm 0-1-2 0 fab-in pre cleaning dhf	포항공과대학교	공정기술팀	박광진	200,000원
6006	2023-11-07 11시	12시	SPM , APM 사용 (CLN 목적)	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	216,000원
6007	2023-11-07 12시	13시	DHF 100 : 1 사용 (CLN목적)	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	72,000원
6008	2023-11-07 13시	14시	0-0-2 SC1 + SC2 0-0-3 DHF(100:1)	나노융합기술원	대외협력팀	양웅석	495,000원
6009	2023-11-07 14시	15시	dHF 사용 예정입니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	손종민	72,000원
6010	2023-11-07 15시	16시	TMAH 사용 얘정입니다	포항공과대학교	전자전기공학과	손종민	225,000원
6011	2023-11-08 13시	14시	SPM,APM 사용 (CLN 목적)	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	216,000원
6012	2023-11-08 14시	15시	DHF 100:1 사용 (CLN목적)	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	72,000원
6013	2023-11-08 17시	18시	2-2-5 PWELL PE-Oxide etch PR Strip SPM	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	120,000원
6014	2023-11-09 10시	12시	0-1-1 pre cleaning SPM 0-1-2 pre cleaning SC1	삼성디스플레이	-	여소영	240,000원
6015	2023-11-09 10시	12시	0-1-1 pre cleaning SPM 0-1-2 pre cleaning SC1	삼성디스플레이	Micro LED Lab	홍나미	240,000원
6016	2023-11-09 13시	14시	SPM APM 사용 (CLN목적)	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	216,000원
6017	2023-11-09 14시	15시	DHF 100:1 사용 (CLN목적)	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	72,000원
6018	2023-11-09 15시	16시	BOE 사용 (Oxide Etch)	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	225,000원
6019	2023-11-10 10시	11시	Cleaning(SPM+DHF) 공정 후, Quartz Plate 4장에 a-Si 증착 : PECVD (3000A) 공정 진행하고 싶습니다. 저번 이정익 선생님 통해서 진행하였을 때, 3000A 타겟하여 공정했으나 FIB 로 확인 결과, a-Si 이 3500A 두께로 증착된 것을 확인하였습니다. 참고하여 주시고, 관련하여 이정익 선생님과 논의하셔서 최대한 3000A에 가깝게 증착될 수 있도록 해주시면 감사하겠습니다. 이번 공정은 테스트 공정이 아닌 본 Sample 을 위한 공정이기 때문에 중요합니다. 부탁드리겠습니다.	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	주창영	90,000원
6020	2023-11-10 9시	10시	Cleaning(SPM+DHF) 공정 후, Quartz Plate 4장에 a-Si 증착 : PECVD (3000A) 공정 진행하고 싶습니다. 저번 이정익 선생님 통해서 진행하였을 때, 3000A 타겟하여 공정했으나 FIB 로 확인 결과, a-Si 이 3500A 두께로 증착된 것을 확인하였습니다. 참고하여 주시고, 관련하여 이정익 선생님과 논의하셔서 최대한 3000A에 가깝게 증착될 수 있도록 해주시면 감사하겠습니다. 이번 공정은 테스트 공정이 아닌 본 Sample 을 위한 공정이기 때문에 중요합니다. 부탁 드리겠습니다.	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	주창영	135,000원
6021	2023-11-13 14시	16시	0-1-1 Pre-Cleaning W/S_Acid spm 10min 0-1-1 Pre-Cleaning W/S_Acid sc1 10min	삼성디스플레이	-	여소영	480,000원
6022	2023-11-14 10시	11시	10-4-3 CONT Backside cont wet etch oxide DHF(100:1) 1min	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	90,000원
6023	2023-11-15 16시	18시	10-5-1 CONT Salicide Etch TiN Etch SPM 120C 5min	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	135,000원
6024	2023-11-15 9시	11시	0-1-1 pre cleaning spm 0-1-2 pre cleaning sc1	삼성디스플레이	-	여소영	240,000원
6025	2023-11-16 13시	14시	SPM , APM 사용 (CLN목적)	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	216,000원
6026	2023-11-16 14시	15시	DHF 100:! 사용 (CLN목적)	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	72,000원
6027	2023-11-16 15시	16시	SPM APM 사용 (CLN목적)	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	216,000원
6028	2023-11-16 16시	17시	DHF 100:! 사용 (CLN목적)	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	72,000원
6029	2023-11-17 10시	12시	3-0-1 Oxide wet etching BOE	나노융합기술원	대외협력팀	양웅석	270,000원
6030	2023-11-17 14시	15시	2-3-3 JFET IMP PR Strip SPM 10min 1ea	삼성전자	DS	김태훈	0원
6031	2023-11-17 15시	16시	1-3-3 PR Strip SPM	LG전자	차세대디스플레이연구소	장성규	150,000원
6032	2023-11-20 10시	12시	SPM + DHF	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	225,000원
6033	2023-11-20 14시	15시	SPM + APM + DHF 100:1 사용 (CLN 목적)	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	288,000원
6034	2023-11-21 15시	16시	BOE Etch	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	225,000원
6035	2023-11-21 17시	18시	2-3-3 JFET IMP SPM PR strip	삼성전자	DS	김태훈	0원
6036	2023-11-22 11시	12시	SPM APM DHF 100:1 사용 (CLN)	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	288,000원
6037	2023-11-22 14시	15시	TIPS 과제로 정산 부탁드립니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	108,000원
6038	2023-11-22 15시	17시	1-3-1 AKEY SPM PR Strip	삼성전자	DS	김태훈	0원
6039	2023-11-22 15시	16시	TIPS 과제로 정산 부탁드립니다. dHF 사용 예정입니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	72,000원
6040	2023-11-22 17시	18시	2-3-3 JFET IMP PR Strip SPM 120C 10min	삼성전자	DS	김태훈	0원
6041	2023-11-22 17시	16시	11-2-2 Gate Cont Wet etch oxide BOE(10:1)	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	270,000원
6042	2023-11-22 9시	11시	0-1-1 Pre cleaning SPM 0-1-2 Pre cleaning SC1	삼성디스플레이	-	여소영	480,000원
6043	2023-11-22 9시	10시	SDC 정산_ 청구(11.30)	삼성디스플레이	-	여소영	380,000원
6044	2023-11-23 10시	12시	1-3-3 AKEY SPM PR Strip	삼성전자	DS	김태훈	0원
6045	2023-11-23 13시	14시	SPM 사용 ( Ashing 진행 후 PR CLN)	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	108,000원
6046	2023-11-23 15시	16시	1-2-3 Oxide Open SPM	고려대학교	제어계측공학과	김진혁	150,000원
6047	2023-11-23 9시	12시	0-1-1 pre cleaning spm 0-1-2 pre cleaning sc1	삼성디스플레이	Micro Display	류용우	720,000원
6048	2023-11-24 11시	12시	0-1-2 pre cleaning spm 2023년 나노융합기반고도화사업	에스제이	영업	박상준	150,000원
6049	2023-11-24 11시	12시	0-2-1 pre cleaning SPM	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	120,000원
6050	2023-11-24 14시	15시	SPM + BOE	포항공과대학교	선행기술팀	한성웅	405,000원
6051	2023-11-24 16시	17시	1-3-7 AKEY WF Cleaning TMAH 2-1-1 JFET IMP Pre Cleaning SC-1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6052	2023-11-24 7시	8시	SPM APM DHF 100:1 (CLN)	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	288,000원
6053	2023-11-28 10시	11시	SPM APM DHF 100:1사용 (CLN)	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	288,000원
6054	2023-11-28 11시	12시	SPM APM DHF 100:1 (CLN) - 11/27 누락건	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	288,000원
6055	2023-11-28 14시	15시	LOT ID: Module 목적: DHF 총 2장	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	75,000원
6056	2023-11-28 18시	19시	2-3-3 JFET SPM PR Strip	삼성전자	DS	김태훈	0원
6057	2023-11-29 10시	11시	이용자: 손종민 (010-9766-0039) PR erase 및 oxide 제거용으로 SPM + dHF 사용하고자 합니다. 혹시 사용 계획이 있으시다면 테프론 비커에 한통만 따로 담아놓아주시면 감사하겠습니다. TIPS 과제로 정산 부탁드립니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	120,000원
6058	2023-11-29 11시	12시	이용자: 손종민 (010-9766-0039) PR erase 및 oxide 제거용으로 SPM + dHF 사용하고자 합니다. 혹시 사용 계획이 있으시다면 테프론 비커에 한통만 따로 담아놓아주시면 감사하겠습니다. TIPS 과제로 정산 부탁드립니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	80,000원
6059	2023-11-29 12시	16시	-	주식회사 아르케	SIC 생산본부	노병훈	240,000원
6060	2023-11-29 16시	17시	SPM APM DHF 100:1 (CLN)	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	288,000원
6061	2023-11-29 17시	18시	BOE(10:1)	삼성디스플레이	Micro LED Lab (Micro Display Team)	유철종	720,000원
6062	2023-11-29 17시	18시	1-3-1 AKEY SPM PR Remove	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	120,000원
6063	2023-11-29 17시	18시	0.0 SC1	삼성디스플레이	Micro LED Lab (Micro Display Team)	유철종	480,000원
6064	2023-11-29 17시	18시	BOE(10:1)	삼성디스플레이	Micro LED Lab (Micro Display Team)	유철종	960,000원
6065	2023-11-30 11시	12시	1-2-3 AKEY PR Remove spm	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	강보현	120,000원
6066	2023-11-30 11시	12시	1-3-3 AKEY AKEY PR Remove SPM	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	120,000원
6067	2023-11-30 14시	15시	이용자: 손종민 (010-9766-0039) dHF 이용 예정입니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	72,000원
6068	2023-11-30 15시	16시	이용자: 손종민 (010-9766-0039) SPM 사용 예정입니다 TIPS 과제로 정산 부탁드립니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	108,000원
6069	2023-11-30 9시	12시	-	주식회사 아르케	SIC 생산본부	노병훈	240,000원
6070	2023-12-01 10시	11시	이용자: 손종민 (010-9766-0039) SPM 사용 예정입니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	108,000원
6071	2023-12-01 13시	14시	2-3-4 JFET Mask Remv. SPM PR Strip 2-3-8 JFET Mask Remv. SPM PR Strip	삼성전자	DS	김태훈	0원
6072	2023-12-01 13시	14시	3-1-1 PWELL IMP pre cleaning sc1	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	120,000원
6073	2023-12-01 14시	15시	2-3-3 Si Etch PR Remove SPM	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	135,000원
6074	2023-12-04 10시	12시	2-5-1 JFET Mask Remv. Oixde Remove BOE	삼성전자	DS	김태훈	0원
6075	2023-12-04 10시	12시	2-5-1 JFET Mask Remv. Oxide Remv. BOE	삼성전자	DS	김태훈	0원
6076	2023-12-04 11시	12시	BackSide Oxide Remove	삼성전자	DS	김태훈	0원
6077	2023-12-04 11시	12시	BackSide Oxide Remove	포항공과대학교	선행기술팀	박범성	270,000원
6078	2023-12-05 10시	11시	Oxide Wet Etch (BOE)	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	180,000원
6079	2023-12-05 16시	17시	TMAH 에칭 조각 웨이퍼 진행	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	240,000원
6080	2023-12-06 10시	11시	이용자: 손종민 (010-9766-0039) dHF 사용 예정입니다	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	72,000원
6081	2023-12-06 11시	12시	Ashing 후 PR Strip	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	108,000원
6082	2023-12-07 8시	9시	SPM 이용 (PR CLN)	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	108,000원
6083	2023-12-07 9시	10시	SPM (PR CLN)	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	108,000원
6084	2023-12-08 11시	12시	6-1-1 SC1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6085	2023-12-08 11시	12시	6-1-1 SC1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6086	2023-12-08 14시	15시	2-5-1 BOE 3-1-1 SC1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6087	2023-12-08 15시	16시	이용자: 손종민 (010-9766-0039) dHF 사용 예정입니다. TIPS 과제로 정산 부탁드립니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	72,000원
6088	2023-12-08 16시	17시	2-5-1 BOE 6-1-1 SC1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6089	2023-12-08 16시	17시	3-3-8 SPM 4-1-1 SC1	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	240,000원
6090	2023-12-09 1시	2시	Copper	포항공과대학교 대학원	기계공학과	김우현	72,000원
6091	2023-12-11 11시	12시	6-3-8 JTE IMP SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6092	2023-12-11 11시	12시	6-3-8 JTE IMP SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6093	2023-12-11 6시	7시	BOE (Oxide Etch)	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	225,000원
6094	2023-12-12 10시	11시	SC1	삼성디스플레이	Micro LED Lab (Micro Display Team)	유철종	480,000원
6095	2023-12-12 11시	12시	HF 용액으로 BOX layer 제거 예정입니다. 장시간 용액 사용이 필요해 OLED 룸에 있는 ACID hood 사용하겠습니다.	포항공과대학교	기계공학과	이상엽	72,000원
6096	2023-12-12 13시	14시	SPM SC-1 DhF100:1 (CLN)	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	288,000원
6097	2023-12-12 17시	18시	LOT ID: Module 목적: DHF 총 1장	(주)유우일렉트로닉스	FAB팀	조기수	60,000원
6098	2023-12-12 7시	8시	SPM SC-1 DHF 100:1 (CLN)	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	396,000원
6099	2023-12-12 9시	11시	-	주식회사 아르케	SIC 생산본부	노병훈	108,000원
6100	2023-12-13 14시	16시	SC1 SPM	삼성디스플레이	Micro Display	류용우	480,000원
6101	2023-12-14 10시	11시	이용자: 손종민 (010-9766-0039) dHF 이용 예정입니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	72,000원
6102	2023-12-14 13시	14시	SPM, DHF 사용 예정	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	최재용	180,000원
6103	2023-12-14 16시	17시	BOE(10:1)	삼성디스플레이	Micro Display	류용우	12,000,000원
6104	2023-12-14 16시	17시	SPM, SC1	삼성디스플레이	Micro Display	류용우	6,000,000원
6105	2023-12-14 6시	7시	Oxide Etch (BOE)	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	225,000원
6106	2023-12-14 9시	10시	3-3-8 PWELL IMP SPM PR Strip	삼성전자	DS	김태훈	0원
6107	2023-12-14 9시	10시	6-3-8 JTE IMP SPM PR Strip	삼성전자	DS	김태훈	0원
6108	2023-12-15 10시	12시	6-5-2 JTE IMP Oxide Remove BOE 3-1-1 PWELL IMP SC1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6109	2023-12-15 11시	12시	0-1-2 pre cleaning SPM	코닝정밀소재주식회사	S&C	송창원	150,000원
6110	2023-12-15 14시	15시	6-5-2 JTE Mask Remv Oxide Mask Remove BOE 10:1 3-1-1 pre Cleaning SC-1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6111	2023-12-15 17시	18시	DHF(100:1) 1min Prime 8inch wafer 4ea	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	490,000원
6112	2023-12-19 15시	16시	3-3-8 PR Strip SPM 4-1-1 Pre Cleaning SC1	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	240,000원
6113	2023-12-19 17시	18시	0-1-5 DHF Clean	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	160,000원
6114	2023-12-19 6시	7시	SPM APM DHF100:1 이용 (CLN목적)	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	288,000원
6115	2023-12-20 10시	11시	이용자: 손종민 (010-9766-0039) metal 지우기 위해 테프론 비커에서 SPM 사용 예정입니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	108,000원
6116	2023-12-20 13시	14시	자연산화막 제거 및 클리닝 (DHF(100:1)로 자연산화막 제거)	포항공과대학교	전자전기공학과	윤주영	80,000원
6117	2023-12-20 14시	16시	0-2-1 pre cleaning SPM 0-2-2 pre cleaning DHF 0-2-3 pre cleaning TMAH2.38%	삼성전자	DS	김태훈	0원
6118	2023-12-20 14시	16시	0-2-1 pre cleaning SPM 0-2-2 pre cleaning DHF 0-2-3 pre cleaning TMAH2.38%	삼성전자	DS	김태훈	0원
6119	2023-12-20 14시	16시	0-2-1 pre cleaning SPM 0-2-2 pre cleaning DHF 0-2-3 pre cleaning TMAH2.38%	삼성전자	DS	김태훈	0원
6120	2023-12-20 16시	17시	3-3-4 PWELL_IMP SPM PR Strip	삼성전자	DS	김태훈	0원
6121	2023-12-20 16시	17시	3-3-4 PWELL_IMP SPM PR Strip	삼성전자	DS	김태훈	0원
6122	2023-12-20 9시	11시	0-1-2 SPM clean 0-1-3 SC2 clean 0-1-4 DHF clean 2023년 나노융합기반 고도화사업	(주)칩스케이	연구개발팀	임진홍	550,000원
6123	2023-12-21 13시	14시	0-0-2 SPM 10min 2023년 나노융합 기반 고도화사업	(주)엔디디	연구소	최영환	150,000원
6124	2023-12-21 8시	9시	BOE ( Oxide Etch)	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	225,000원
6125	2023-12-26 13시	14시	SPM APM DHF 100:1 사용	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	288,000원
6126	2023-12-26 14시	15시	6-5-2 Oxide Remove BOE 10:1 3-1-1 Pre Cleaning SC-1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6127	2023-12-26 15시	16시	6-5-2 Oxide Remove BOE 10:1 3-1-1 Pre Cleaning SC-1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6128	2023-12-26 15시	16시	1-3-2 PR Strip SPM HQDR QDR	(주)칩스케이	연구개발팀	임진홍	150,000원
6129	2023-12-27 13시	14시	23-12-27(수) sample 맡겨드리도록 하겠습니다. (6 inch Si wafer) SPM cleaning 이후, 황현주 연구원님께 Al sputtering 인계 부탁드립니다.	한국생산기술연구원	첨단메카트로닉스연구그룹	노은식	150,000원
6130	2023-12-27 14시	15시	1-3-1 PR Strip SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6131	2023-12-28 14시	15시	1-1-1 pre cleaning SPM	LG전자	차세대디스플레이연구소	장성규	150,000원
6132	2023-12-28 15시	16시	1-3-3 PR strip SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6133	2023-12-28 6시	9시	Jig CLN - DHF 100:1 이용	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	72,000원
6134	2023-12-29 13시	14시	TMAH etch	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	225,000원
6135	2024-01-02 10시	11시	4-1-1 SC1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6136	2024-01-02 10시	11시	4-1-1 SC1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6137	2024-01-02 10시	12시	12/8 일자로 wet cleaning 공정 서비스 진행한 것에 대한 홈페이지 신청건입니다. 1월 일자의 장비 사용 내역이 필요하여 1월에 재신청 드리는 건입니다.	피에스케이(주)	공정개발 (DSA G)	박하은	600,000원
6138	2024-01-02 13시	15시	12/19 일자로 wet cleaning 공정 서비스 진행한 것에 대한 홈페이지 신청건입니다. 1월 일자의 장비 사용 내역이 필요하여 1월에 재신청 드립니다.	피에스케이(주)	공정개발 (DSA G)	박하은	600,000원
6139	2024-01-02 15시	17시	1/2 일자로 wet cleaning 공정 서비스 신청한 건입니다.	피에스케이(주)	공정개발 (DSA G)	박하은	600,000원
6140	2024-01-03 10시	12시	0-1-1 SC1 10min	삼성디스플레이	선행제품연구팀	김수철	480,000원
6141	2024-01-03 11시	12시	1-0-1 SPM	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	135,000원
6142	2024-01-03 12시	13시	1-0-1 DHF(100:1)	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	72,000원
6143	2024-01-04 14시	16시	2-3-2 ISO RX PR Strip SPM 2023년 나노융합기반 고도화사업	(주)칩스케이	연구개발팀	임진홍	0원
6144	2024-01-04 6시	7시	SPM APM DHF 100:1	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	288,000원
6145	2024-01-05 13시	14시	SPM 이용 (PR CLN)	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	108,000원
6146	2024-01-08 10시	11시	1/8(월) sample 전달 예정입니다. SPM cleaning 진행 후 Al sputtering (DC&RF sputter) 진행 부탁드립니다.	한국생산기술연구원	첨단메카트로닉스연구그룹	노은식	150,000원
6147	2024-01-08 13시	14시	3-3-8 PWELL_IMP PR Strip SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6148	2024-01-08 14시	15시	3-3-8 PWELL_IMP PR Strip SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6149	2024-01-09 10시	11시	SPM	나노융합기술원	대외협력팀	양웅석	108,000원
6150	2024-01-09 15시	16시	1:100 dHF 사용 예정	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	최재용	72,000원
6151	2024-01-09 6시	7시	SPM APM DHF 100:1 이용	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	288,000원
6152	2024-01-09 9시	10시	0-0-0 SiO2 Remove	AP시스템(주)	디스플레이 장비사업본부	최동혁	300,000원
6153	2024-01-10 10시	11시	이용자: 손종민 (010-9766-0039) SPM으로 Ashing 완료한 GXR 지우고자 합니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	108,000원
6154	2024-01-10 14시	15시	Copper 불순물 포함되어있어 일전에 qdr사용 대신 따로 옆에 표시해두는 것으로 전달 받았습니다. 폐액은 따로 버리고, 테플론 용기는 1 장비 구석에 표시해두겠습니다 1 장비로 신청했지만 3 장비에서 진행한 후 1 장비로 가져오겠습니다.	포항공과대학교 대학원	기계공학과	김우현	72,000원
6155	2024-01-11 13시	14시	SPM PR Strip	나노융합기술원	대외협력팀	양웅석	135,000원
6156	2024-01-11 15시	16시	PR Remove	AP시스템(주)	디스플레이 장비사업본부	최동혁	150,000원
6157	2024-01-11 16시	17시	1-3-3 PR Strip	삼성전자	DS	김태훈	0원
6158	2024-01-12 10시	12시	4-4-1 Oxide remove BOE 5-1-1 SC-1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6159	2024-01-12 9시	12시	4-4-1 Oxide remove BOE 5-1-1 SC-1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6160	2024-01-15 15시	16시	2-2-5 PWELL SPM PR Strip	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	120,000원
6161	2024-01-15 15시	16시	2cmX2cm 조각시편 BOE	포항공과대학교	공정기술팀	박광진	240,000원
6162	2024-01-15 15시	16시	1-3-3 AKEY PR Remove SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6163	2024-01-15 15시	16시	1-3-3 KEY AKEY SPM PR Strip	AP시스템(주)	디스플레이 장비사업본부	최동혁	150,000원
6164	2024-01-15 16시	17시	1-2-3 PR Remove SPM 2-1-1 Cleaning DHF(200:1)	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	권민규	200,000원
6165	2024-01-15 8시	9시	0-1-1 SC1 0-1-2 SPM	삼성디스플레이	Micro Display	류용우	480,000원
6166	2024-01-15 9시	11시	- 3cm * 3cm piece (Coupon wafer) 4ea - PR 성분 + Organic residue - Silicon substrate - Step 1 : SPM Cleaning [10min] - Step 2 : SC-1 Cleaning [10min] → 모든 시편에 동일하게 적용	피에스케이(주)	공정개발 (DSA G)	박하은	300,000원
6167	2024-01-16 10시	12시	1-3-7 TMAH 2-1-1 sc1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6168	2024-01-16 10시	12시	1-3-7 TMAH 2-1-1 sc1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6169	2024-01-16 10시	12시	1-3-7 TMAH 2-1-1 sc1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6170	2024-01-16 10시	11시	1-3-3 AKEY SPM PR Strip	AP시스템(주)	디스플레이 장비사업본부	최동혁	150,000원
6171	2024-01-16 14시	17시	3-1-2 Wet Etching BOE(10:1)	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	270,000원
6172	2024-01-16 9시	12시	0-0-1 Cleaning DHF(200:1) 40sec 3번 진행	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	권민규	240,000원
6173	2024-01-17 10시	11시	0-0-1 pre cleaning SC1	삼성디스플레이	선행제품연구팀	김수철	240,000원
6174	2024-01-17 10시	11시	SPM PR Strip	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	270,000원
6175	2024-01-17 10시	11시	BOE(10:1) SPM PR Strip	나노융합기술원	대외협력팀	양웅석	405,000원
6176	2024-01-17 10시	11시	5-3-8 P+IMP PR Strip SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6177	2024-01-17 10시	11시	5-3-8 P+IMP PR Strip SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6178	2024-01-17 10시	11시	0-1-1 pre cleaning SC1	삼성디스플레이	선행제품연구팀	김수철	120,000원
6179	2024-01-17 11시	12시	SPM, DHF 사용 예정	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	최재용	180,000원
6180	2024-01-18 13시	16시	-	주식회사 아르케	SIC 생산본부	노병훈	108,000원
6181	2024-01-19 15시	16시	1-2-1 SiN/SiO2 etch DHF(100:1) 60sec	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	강보현	80,000원
6182	2024-01-19 16시	17시	SPM 10min + SC1 10min	피에스케이(주)	공정개발 (DSA G)	박하은	300,000원
6183	2024-01-22 10시	12시	0-2-1 SPM 0-2-2 DHF 100:1	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	220,000원
6184	2024-01-22 10시	11시	2-3-8 JFET IMP PR Strip	삼성전자	DS	김태훈	0원
6185	2024-01-22 10시	11시	2-3-8 JFET IMP PR Strip	삼성전자	DS	김태훈	0원
6186	2024-01-22 10시	11시	2-3-8 JFET IMP PR Strip	삼성전자	DS	김태훈	0원
6187	2024-01-22 11시	12시	1-2-3 PR Remove	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	강보현	120,000원
6188	2024-01-22 14시	15시	2.2 SPM	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	120,000원
6189	2024-01-22 15시	17시	5-5-2 BOE 10:1 7-1-1 DHF 100:1 7-1-2 TMAH	삼성전자	DS	김태훈	0원
6190	2024-01-22 15시	17시	5-5-2 BOE 10:1 7-1-1 DHF 100:1 7-1-2 TMAH	삼성전자	DS	김태훈	0원
6191	2024-01-23 10시	11시	SPM, DHF 사용 예정	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	최재용	180,000원
6192	2024-01-23 10시	12시	전문인력양성사업 교육생 장비 신청	나노융합기술원	교육홍보팀	이상민	0원
6193	2024-01-23 13시	15시	전문인력양성사업 교육생 장비 신청	나노융합기술원	교육홍보팀	이상민	0원
6194	2024-01-23 13시	15시	3cm * 3cm piece (Coupon wafer) 5ea PR 성분 + Organic residue - Silicon substrate Step 1 : SPM Cleaning [10min] Step 2 : SC-1 Cleaning [10min] → 모든 시편에 동일하게 적용	피에스케이(주)	공정개발 (DSA G)	박하은	300,000원
6195	2024-01-23 8시	9시	1시간 정도 HF 사용 예정입니다	포항공과대학교	기계공학과	이상엽	72,000원
6196	2024-01-24 10시	11시	2-2-5 PWELL SPM PR Strip	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	120,000원
6197	2024-01-24 10시	11시	2-2-5 PWELL SPM PR Strip	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	120,000원
6198	2024-01-24 9시	11시	상담자 이정익 선생님. 후속 공정 PECVD (a-Si 6000A) 있습니다.	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	주창영	135,000원
6199	2024-01-24 9시	12시	7-2-6 SPM PR Strip 7-3-1 Pre Cleaning	삼성전자	DS	김태훈	0원
6200	2024-01-24 9시	12시	7-2-6 SPM PR Strip 7-3-1 Pre Cleaning	삼성전자	DS	김태훈	0원
6201	2024-01-25 10시	12시	[MES 신청 사항 입력] 안녕하세요, 피에스케이 박하은입니다. 이전에 진행했던 공정과 동일하게 샘플 2ea에 대하여 wet cleaning을 진행하고자 합니다. 자세한 조건 아래 기재하며, 자세한 사항은 한번 더 메일 발송 드리겠습니다. 감사합니다. <조건> - 3cm * 3cm piece (Coupon wafer) 5ea - PR 성분 + Organic residue - Silicon substrate - Step 1 : SPM Cleaning [10min] - Step 2 : SC-1 Cleaning [10min] → 모든 시편에 동일하게 적용	피에스케이(주)	공정개발 (DSA G)	박하은	300,000원
6202	2024-01-25 10시	11시	DHF(200:1) 40sec	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	김승모	80,000원
6203	2024-01-25 11시	12시	7-3-4 ACTIVATE Sac. Oxid Ox Wet strip BOE(1:10) 5min	삼성전자	DS	김태훈	0원
6204	2024-01-25 11시	12시	7-3-4 ACTIVATE Sac. Oxid Ox Wet strip BOE(1:10) 5min	삼성전자	DS	김태훈	0원
6205	2024-01-25 13시	14시	2-2-2 SPM PR Strip 2-2-3 Oxide Remove BOE 10:1	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	360,000원
6206	2024-01-25 14시	15시	2-2-2 SPM PR Strip 2-2-3 Oxide Remove BOE 10:1	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	360,000원
6207	2024-01-25 21시	22시	없습니다	포항공과대학교	기계공학과	김승범	72,000원
6208	2024-01-26 11시	12시	0-2-1 Pre Cleaning SPM 0-2-2 Pre Cleaning DHF 100 : 1 0-2-3 Pre Cleaning TMAH 2.38%	삼성전자	DS	김태훈	0원
6209	2024-01-26 13시	14시	0-2-1 Pre Cleaning SPM 0-2-2 Pre Cleaning DHF 100 : 1 0-2-3 Pre Cleaning TMAH 2.38%	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	460,000원
6210	2024-01-26 13시	14시	안녕하세요, 피에스케이 박하은입니다. 이전에 진행했던 공정과 동일하게 샘플 4ea에 대하여 wet cleaning을 진행하고자 합니다. 자세한 조건 아래 기재하며, 자세한 사항은 한번 더 메일 발송 드리겠습니다. 감사합니다. <조건> - 3cm * 3cm piece (Coupon wafer) 5ea - PR 성분 + Organic residue - Silicon substrate - Step 1 : SPM Cleaning [10min] - Step 2 : SC-1 Cleaning [10min] → 모든 시편에 동일하게 적용	피에스케이(주)	공정개발 (DSA G)	박하은	150,000원
6211	2024-01-26 13시	14시	2-2-5 PR Strip	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	120,000원
6212	2024-01-26 13시	14시	9-1-1 Pre Cleaning DHF 800 : 1 9-1-2 Pre Cleaning TMAH 2.38% 9-1-3 Nitric Acid Treatment SC-1	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	460,000원
6213	2024-01-26 14시	15시	8-2-1 Pre Cleaning	삼성전자	DS	김태훈	0원
6214	2024-01-26 15시	16시	8-2-1 Pre Cleaning	삼성전자	DS	김태훈	0원
6215	2024-01-26 16시	17시	담당 연구원 : 도정현 (010-6370-5281) wafer 7장 SPM 사용	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	108,000원
6216	2024-01-29 13시	14시	조각 BOE	포항공과대학교	공정기술팀	박광진	200,000원
6217	2024-01-29 16시	18시	1-3-1 AKEY PR Remove SPM PR Strip	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	120,000원
6218	2024-01-30 10시	11시	1-3-3 SPM PR Strip	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	120,000원
6219	2024-01-30 14시	15시	9-1-1 Pre Cleaning 9-1-2 Pre Cleaning 9-1-3 Nitric Acid Treatment	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	460,000원
6220	2024-01-30 15시	16시	9-1-1 Pre Cleaning 9-1-2 Pre Cleaning 9-1-3 Nitric Acid Treatment	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	460,000원
6221	2024-01-30 15시	18시	8-4-4 ACT. AREA SPM PR Strip 9-1-1 GATE Pre Cleaning DHF 9-1-2 Pre Cleaning TMAH 9-1-3 Pre Cleaning SC1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6222	2024-01-30 15시	18시	8-4-4 ACT. AREA SPM PR Strip 9-1-1 GATE Pre Cleaning DHF 9-1-2 Pre Cleaning TMAH 9-1-3 Pre Cleaning SC1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6223	2024-01-30 16시	17시	포스텍 차세대반도체 공유혁신대학 나노 반도체공정 실습교육	나노융합기술원	교육홍보팀	김동기	2,250,000원
6224	2024-01-31 10시	12시	0-1-1 Pre Cleaning SC1	삼성디스플레이	Micro LED Lab (Micro Display Team)	유철종	360,000원
6225	2024-02-01 10시	11시	DHF 이용	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	최재용	72,000원
6226	2024-02-01 13시	15시	-	주식회사 아르케	SIC 생산본부	노병훈	108,000원
6227	2024-02-01 9시	12시	2-5-1 JFET IMP Oxide Remove BOE(10:1) 3-1-1 PWELL IMP Pre Cleaning SC1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6228	2024-02-02 15시	16시	3-3-8 PWELL_IMP SPM PR Strip	삼성전자	DS	김태훈	0원
6229	2024-02-02 16시	17시	DHF(100:1)	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	90,000원
6230	2024-02-05 11시	12시	0-1-2 Pre Cleaning SPM	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	120,000원
6231	2024-02-05 13시	15시	안녕하세요, 피에스케이 박하은입니다. 해당 신청 건은 1/29에 진행된 샘플 3ea에 대한 wet cleaning 공정 완료 건 입니다. 1월 사내 결재 마감 기한의 이유로 wet cleaning 공정을 2월 진행 일정으로 신청 드립니다. (실제 공정 일자 : 1/29, 신청 일자 : 2/5) <조건> - 1.5cm * 1.5cm piece (Coupon wafer) 2ea 1.5cm * 2.5cm piece (Coupon wafer) 1ea → Total : 3ea - PR 성분 + Organic residue - Silicon substrate + SiO2 - Step 1 : SPM Cleaning [10min] - Step 2 : SC-1 Cleaning [10min] → 모든 시편에 동일하게 적용	피에스케이(주)	공정개발 (DSA G)	박하은	300,000원
6232	2024-02-05 15시	16시	0-0-1 pre cleaning DHF(100:1) 3min	나노융합기술원	대외협력팀	양웅석	90,000원
6233	2024-02-05 15시	16시	DHF(100:1)	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	130,000원
6234	2024-02-05 9시	11시	안녕하세요, 피에스케이 박하은입니다. 이전에 진행했던 공정과 동일하게 샘플 4ea에 대하여 wet cleaning을 진행하고자 합니다. 공정은 이전과 동일하여 웨이퍼 조건만 변경되었습니다. 자세한 조건 아래 기재하며, 자세한 사항은 한번 더 메일 발송 드리겠습니다. 감사합니다. <조건> - 3cm * 3cm piece (Coupon wafer) 4ea - PR 성분 + Organic residue - Oxide+POLY+PR residue - Step 1 : SPM Cleaning [10min] - Step 2 : SC-1 Cleaning [10min] → 모든 시편에 동일하게 적용	피에스케이(주)	공정개발 (DSA G)	박하은	300,000원
6235	2024-02-06 15시	16시	0-1-2 Pre Cleaning	코닝정밀소재주식회사	S&C	송창원	150,000원
6236	2024-02-06 15시	16시	0-0-1 Pre Cleaning DHF + 조각	나노융합기술원	대외협력팀	양웅석	180,000원
6237	2024-02-06 9시	10시	HF 용액 사용 예정입니다. Acid Hood에서 잠깐 사용하고 뒷처리 하겠습니다.	포항공과대학교	기계공학과	이상엽	72,000원
6238	2024-02-06 9시	12시	2-5-1 JFET IMP Oxide remove BOE 3-1-1 PWELL IMPO Pre Cleaning SC1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6239	2024-02-06 9시	12시	2-5-1 JFET IMP Oxide remove BOE 3-1-1 PWELL IMPO Pre Cleaning SC1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6240	2024-02-07 11시	12시	0-1-1 전처리 SC1 0-1-2 전처리 SPM	삼성디스플레이	Micro Display	류용우	480,000원
6241	2024-02-07 11시	12시	0-1-2 Pre Cleaning SPM	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	120,000원
6242	2024-02-07 13시	16시	0-2-1 pre cleaning SPM 0-2-2 pre cleaning DHF 0-2-3 pre cleaning TMAH	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	440,000원
6243	2024-02-07 13시	16시	0-2-1 pre cleaning SPM 0-2-2 pre cleaning DHF 0-2-3 pre cleaning TMAH	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	440,000원
6244	2024-02-07 15시	16시	2-2-5 SPM PR Strip	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	120,000원
6245	2024-02-07 9시	11시	-	주식회사 아르케	SIC 생산본부	노병훈	108,000원
6246	2024-02-08 10시	11시	BOE	삼성전자	VD 사업부	이기원	540,000원
6247	2024-02-08 9시	10시	SPM	삼성전자	VD 사업부	이기원	540,000원
6248	2024-02-13 10시	11시	3-3-8 PR Strip SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6249	2024-02-13 10시	11시	3-3-8 PR Strip SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6250	2024-02-13 9시	10시	0-1-1 Pre Cleaning SC1	삼성디스플레이	-	여소영	120,000원
6251	2024-02-14 13시	14시	클린룸 출입을 위한 장비 교육 신청드립니다. 저 외에도 박상민 연구원이 같이 가겠습니다.	포항공과대학교 대학원	기계공학과	노재관	90,000원
6252	2024-02-14 13시	15시	Oxidation 공정 전 자연 산화막 제거 목적 - 린스 30분 이상 부탁드립니다. - 전처리 이후 Oxidation이 연속적으로 진행되었으면 좋겠습니다.	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	조민수	90,000원
6253	2024-02-14 14시	15시	장비 담당자와 함께 장비 교육을 이수하기 위해 장비 서비스를 신청합니다.	포항공과대학교 대학원	기계공학과	윤정환	108,000원
6254	2024-02-14 15시	18시	1-3-1 SPM PR Strip 1-3-3 PR Strip SPM 9-1-1 Pre Cieaning DHF 800:1 9-1-2 Pre Cieaning TMAH 2.38% 9-1-3 Nitric Acid Treatment SC-1	삼성전자	DS	김태훈	765,000원
6255	2024-02-14 15시	16시	1-3-3 PR Strip SPM	코닝정밀소재주식회사	S&C	송창원	150,000원
6256	2024-02-14 16시	17시	1-3-1 SPM PR Strip 1-3-3 PR Strip SPM 9-1-1 Pre Cieaning DHF 800:1 9-1-2 Pre Cieaning TMAH 2.38% 9-1-3 Nitric Acid Treatment SC-1	삼성전자	DS	김태훈	765,000원
6257	2024-02-14 17시	18시	4-1-1 pre cleaning SC1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6258	2024-02-14 17시	18시	4-1-1 pre cleaning SC1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6259	2024-02-15 13시	15시	2-2-2 PWELL Mask Remov. SPM PR Strip 2-2-3 PWELL Mask Remov. BOE(10:1)	삼성전자	DS	김태훈	405,000원
6260	2024-02-15 13시	15시	2-2-2 PWELL Mask Remov. SPM PR Strip 2-2-3 PWELL Mask Remov. BOE(10:1)	삼성전자	DS	김태훈	405,000원
6261	2024-02-15 13시	15시	DHF(800:1) 1min SC1 10min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	225,000원
6262	2024-02-16 13시	15시	2-3-8 JFET IMP PR Strip	삼성전자	DS	김태훈	0원
6263	2024-02-16 14시	15시	9-1-1 Pre Clening DHF 800:1 9-1-2 Pre Clening TMAH 9-1-3 Nitric Acid Treatment SC-1	삼성전자	DS	김태훈	495,000원
6264	2024-02-16 22시	23시	X	포항공과대학교	기계공학과	김승범	72,000원
6265	2024-02-17 9시	11시	4-3-4 P+ Block PR Strip	삼성전자	DS	김태훈	0원
6266	2024-02-17 9시	11시	4-3-4 P+ Block PR Strip	삼성전자	DS	김태훈	0원
6267	2024-02-19 10시	11시	SC1	삼성디스플레이	Micro LED Lab (Micro Display Team)	유철종	240,000원
6268	2024-02-19 15시	16시	4\'\' GaN 기반 LED epi on sapphire sputter 증착 전 클리닝 요청 오후 3시전에 1층 보관함 옆 테이블에 두겠습니다. 클리닝 완료 후, sputter 황현주 선생님께 전달 부탁드립니다. (내일 2/20 오전 sputter 증착 진행 예정되어있습니다.)	포항공과대학교 대학원	신소재공학과	박정현	135,000원
6269	2024-02-19 9시	11시	.	피에스케이(주)	공정개발 (DSA G)	박하은	300,000원
6270	2024-02-20 14시	15시	0-1-2 Pre Clening SPM 0-1-3 Pre Clening DHF100:1 0-1-4 Pre Clening TMAH	삼성전자	DS	김태훈	495,000원
6271	2024-02-20 14시	15시	0-1-2 Pre Clening SPM 0-1-3 Pre Clening DHF100:1 0-1-4 Pre Clening TMAH	삼성전자	DS	김태훈	495,000원
6272	2024-02-21 10시	11시	조각시편 BOE wet etch	포항공과대학교	공정기술팀	박광진	200,000원
6273	2024-02-21 17시	18시	1-3-1 PR Strip SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6274	2024-02-22 16시	17시	1-3-1 PR Strip SPM 1-3-3 PR Strip SPM 1-3-7 WF Cleaning TMAH 2-1-1 Pre Cleaning SC-1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6275	2024-02-23 10시	18시	1. 시편 종류 : - LP nitride 40nm 증착후 11cm14cm 영역 Nitride 제거 웨이퍼, 3장 - LP nitride 40nm 증착 + PE oxide 1um 증착 웨이퍼, 3장 - Thermal oxide 200nm 증착 웨이퍼, 2장 2. 평가 조건 - TMAH 90도 8시간 진행 : 3종류 > 시간은 협의 필요 - TMAH 80도 4시간 진행 : 3종류 - TMAH 90도 29시간 + 80도 하강 4시간 + 25도 하강 7시간 : 2종류 (11cm14cm 영역 Nitride 제거 웨이퍼, LP nitride 40nm 증착 + PE oxide 1um 증착 웨이퍼)	티디앤제이	개발팀	하태중	600,000원
6276	2024-02-23 9시	10시	0-1-1 SC1	삼성디스플레이	-	여소영	120,000원
6277	2024-02-23 9시	10시	0-1-1 SC1	삼성디스플레이	Micro LED Lab (Micro Display Team)	유철종	240,000원
6278	2024-02-26 9시	10시	0-1-1 Pre Cleaning SC-1	삼성디스플레이	Micro LED Lab (Micro Display Team)	유철종	480,000원
6279	2024-02-27 9시	11시	2-3-8 JFET IMP SPM PR Strip	삼성전자	DS	김태훈	0원
6280	2024-02-27 9시	10시	dHF 8min	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	72,000원
6281	2024-02-28 10시	11시	SPM	포항공과대학교	선행기술팀	한성웅	135,000원
6282	2024-02-28 15시	16시	DHF 동시진행	포항공과대학교	창의IT융합공학과	최민근	180,000원
6283	2024-02-29 15시	16시	8inch BOE	포항공과대학교	공정기술팀	박광진	200,000원
6284	2024-03-04 9시	11시	2/27(화) 오후에 공정 진행 예정인 샘플 7ea에 대한 장비 서비스 신청 건 입니다. 사내 결제 마감 기한 문제로 인하여 3/4(월) 일자로 신청 드리는 바입니다. 실제 공정 일자 : 2/27(화) 오후 or 2/28(수)오전 신청 일자 : 3/4(월)	피에스케이(주)	공정개발 (DSA G)	박하은	600,000원
6285	2024-03-05 11시	12시	SPM, DHF 사용	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	최재용	168,000원
6286	2024-03-05 15시	17시	BOE Oxide Wet Etching	나노융합기술원	대외협력팀	양웅석	576,000원
6287	2024-03-05 15시	16시	DHF 800 : 1 SC-1	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	244,000원
6288	2024-03-05 9시	10시	HF용액으로 SOI의 BOX layer 식각 예정입니다.	포항공과대학교	기계공학과	이상엽	64,000원
6289	2024-03-07 11시	12시	0-2-1 Pre Cleaning SPM	삼성전자	DS	김태훈	553,000원
6290	2024-03-07 14시	15시	2-2-1 Wet Etch BOE 1000A	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	256,000원
6291	2024-03-07 15시	16시	SPM + SC1	피에스케이(주)	공정개발 (DSA G)	박하은	340,000원
6292	2024-03-08 10시	12시	0-1-1 pre cleaning SC1	삼성디스플레이	Micro LED Lab (Micro Display Team)	유철종	289,000원
6293	2024-03-08 14시	15시	0-1-2 SPM Clean 2023년 나노융합기반 고도화 사업	(주)칩스케이	연구개발팀	임진홍	0원
6294	2024-03-08 15시	16시	0-1-4 DHF clean 2023년 나노융합기반 고도화 사업	(주)칩스케이	연구개발팀	임진홍	0원
6295	2024-03-11 11시	12시	0-1-2 Pre Cleaning SPM	삼성전자	DS	김태훈	170,000원
6296	2024-03-11 13시	14시	0-2-1 pre cleaning SPM 120C 10min	트리노테크놀로지	경영지원팀	트리노테크놀로지	0원
6297	2024-03-11 14시	15시	0-2-2 pre cleaning DHF(100:1) 1min	트리노테크놀로지	경영지원팀	트리노테크놀로지	0원
6298	2024-03-11 16시	17시	DHF(100:1) 5min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	96,000원
6299	2024-03-12 10시	11시	0-1-2 pre cleaning SPM 10min 120C	코닝정밀소재주식회사	S&C	송창원	170,000원
6300	2024-03-12 10시	11시	BOE 1min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	256,000원
6301	2024-03-12 10시	11시	이용자: 손종민 (010-9766-0039) Wet station - SPM 사용 예정입니다. TIPS 과제로 정산 부탁드립니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	96,000원
6302	2024-03-12 15시	16시	4-4-1 Oxide remove BOE	삼성전자	DS	김태훈	0원
6303	2024-03-12 15시	16시	4-4-1 Oxide remove BOE	삼성전자	DS	김태훈	0원
6304	2024-03-12 16시	17시	5-1-1 P+IMP Pre Cleaning SC1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6305	2024-03-12 16시	17시	5-1-1 P+IMP Pre Cleaning SC1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6306	2024-03-12 16시	17시	1-3-1 AKEY AKEY PR Remove SPM PR Strip	트리노테크놀로지	경영지원팀	트리노테크놀로지	0원
6307	2024-03-12 17시	18시	DHF 100:1 진행	포항공과대학교	공정기술팀	박광진	64,000원
6308	2024-03-13 10시	13시	-	주식회사 아르케	SIC 생산본부	노병훈	108,000원
6309	2024-03-13 13시	16시	BOE(10:1)	나노융합기술원	대외협력팀	양웅석	512,000원
6310	2024-03-13 13시	15시	1-3-3 AKEY PR Remove SPM PR Strip	트리노테크놀로지	경영지원팀	트리노테크놀로지	0원
6311	2024-03-13 13시	14시	2-1-1 PWELL Mask Remv. BOE(10:1)	삼성전자	DS	김태훈	320,000원
6312	2024-03-13 21시	22시	전자과 신성환 SPM 조각	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	96,000원
6313	2024-03-13 9시	10시	SPM 사용 예정입니다.	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	최재용	96,000원
6314	2024-03-13 9시	12시	layer: Si+Oxide+POLY+PR Residue 총 4ea <조건> Step 1 : SPM Cleaning [10min] - Step 2 : SC-1 Cleaning [10min] → 모든 시편에 동일하게 적용	피에스케이(주)	공정개발 (DSA G)	박하은	340,000원
6315	2024-03-14 10시	11시	이용자: 손종민 (010-9766-0039) dHF 사용 예정입니다. TIPS 과제로 정산 부탁드립니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	64,000원
6316	2024-03-14 11시	12시	이용자: 손종민 (010-9766-0039) 디스플레이방 25% TMAH bath로 Si etch 예정입니다. TIPS 과제로 정산 부탁드립니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	200,000원
6317	2024-03-14 13시	15시	1-3-2 PR Strip SPM	코닝정밀소재주식회사	S&C	송창원	170,000원
6318	2024-03-15 16시	17시	담당 연구원 : 도정현 (010-6370-5281) SPM cleaning for 8inch test wafer 1ea	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	96,000원
6319	2024-03-15 9시	10시	BOE Oxide wet etch	삼성디스플레이	Micro Display	류용우	272,000원
6320	2024-03-18 10시	12시	이용자: 손종민 (010-9766-0039) 25% TMAH bath 사용 예정입니다.	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	200,000원
6321	2024-03-18 13시	14시	2-5-1 GATE Backside Etch BOE(10:1)	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	512,000원
6322	2024-03-18 15시	16시	DHF cleaning	포항공과대학교	선행기술팀	한성웅	96,000원
6323	2024-03-18 15시	16시	SC1 cleaning	삼성디스플레이	-	여소영	289,000원
6324	2024-03-18 16시	18시	조각시편 BOE	포항공과대학교	공정기술팀	박광진	200,000원
6325	2024-03-18 21시	22시	ICT 제품화 지원사업 전자과 신성환 010 9081 6590	(주)아이제스트	연구개발팀	길연호	120,000원
6326	2024-03-18 9시	10시	0-2-1 Pre Cleaning SPM	삼성전자	DS	김태훈	170,000원
6327	2024-03-18 9시	10시	0-2-1 Pre Cleaning SPM	삼성전자	DS	김태훈	170,000원
6328	2024-03-19 10시	11시	BOE 3min	포항공과대학교	선행기술팀	한성웅	256,000원
6329	2024-03-19 11시	12시	5-3-8 PR Strip SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6330	2024-03-19 14시	15시	5-3-8 PR Strip SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6331	2024-03-19 15시	16시	전자과 박성민 (010-2094-9607) DHF 800 : 1	포항공과대학교	전자전기공학과	윤주영	96,000원
6332	2024-03-19 9시	11시	0-1-1 pre cleaning SC1	삼성디스플레이	Micro LED Lab (Micro Display Team)	유철종	144,500원
6333	2024-03-20 10시	11시	이용자: 손종민 SPM 이용 예정입니다. ICT 제품화지원사업	(주)아이제스트	연구개발팀	길연호	120,000원
6334	2024-03-21 10시	11시	H3PO4 wet etch	포항공과대학교	공정기술팀	박광진	200,000원
6335	2024-03-21 9시	10시	ICT 제품화 지원사업 전자과 신성환 010 9081 6590	(주)아이제스트	연구개발팀	길연호	80,000원
6336	2024-03-22 10시	11시	PR Coating 후 BOE 재진행	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	256,000원
6337	2024-03-22 11시	12시	2-2-5 PR Strip SPM	삼성전자	DS	김태훈	170,000원
6338	2024-03-22 15시	16시	담당 연구원 : 도정현 (010-6370-5281)	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	192,000원
6339	2024-03-22 17시	18시	DHF	포항공과대학교	공정기술팀	박광진	66,400원
6340	2024-03-25 13시	15시	0-1-1 Pre Cleaning SPM	삼성디스플레이	Micro LED Lab (Micro Display Team)	유철종	578,000원
6341	2024-03-25 13시	15시	2-2-5 SPM PR Strip	삼성전자	DS	김태훈	170,000원
6342	2024-03-25 14시	15시	0-1-1 Pre Cleaning SC-1	삼성디스플레이	Micro LED Lab (Micro Display Team)	유철종	578,000원
6343	2024-03-25 14시	15시	0-1-1 Pre Cleaning HCl	삼성디스플레이	Micro LED Lab (Micro Display Team)	유철종	1,088,000원
6344	2024-03-25 22시	23시	ICT 제품화 지원사업 전자과 신성환 010 9081 6590	(주)아이제스트	연구개발팀	길연호	120,000원
6345	2024-03-25 9시	11시	0-0-3 SPM ICT 제품화 지원사업	(주)엔디디	연구소	최영환	170,000원
6346	2024-03-26 13시	14시	5-5-2 P+IMP BOE(10:1)	삼성전자	DS	김태훈	0원
6347	2024-03-26 13시	14시	5-5-2 Oxide Remove BOE 10 : 1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6348	2024-03-26 14시	15시	7-1-1 Pre Cleaning DHF 100 : 1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6349	2024-03-26 14시	15시	6-1-1 JTE IMP Precleaning SC1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6350	2024-03-26 15시	16시	7-1-2 ACTIVATE Cleaning TMAH 2.38%	삼성전자	DS	김태훈	0원
6351	2024-03-27 10시	11시	4-1-1 P+ Block Ox Spacer pre cleaning SC1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6352	2024-03-27 13시	14시	GaN-on-Si 1.3cm*1.3cm 조각시편 2장과 in-situ SiN on Si 조각시편 2장 입니다 GaN on Si 조각시편은 lift-off 과정을 위해 PR로 패턴이 그려져 있습니다 SiN 시편은 메탈 비저항 측정용 시편으로 Si-bare 위에 100nm SiN만 증착되어 있습니다 DHF 1:100 용액으로 메탈 증착 전 native oxide 제거 목적입니다.	홍익대학교 산학협력단	전자전기공학과	오동익	120,000원
6353	2024-03-27 14시	15시	DHF 1:100 산처리 부탁드립니다.	홍익대학교 산학협력단	전자전기공학과	이민근	120,000원
6354	2024-03-27 15시	16시	1-1-1 Wet etch oxide BOE	삼성전자	DS	김태훈	320,000원
6355	2024-03-27 18시	19시	BOE etching 3000A taget (3min)	나노융합기술원	대외협력팀	양웅석	256,000원
6356	2024-03-28 11시	12시	8-2-1 Pre Cleaning SC_1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6357	2024-03-28 11시	12시	7-3-3 Ox Wet strip BOE	삼성전자	DS	김태훈	0원
6358	2024-03-28 13시	15시	0-0-0 Pre Cleaning SC1	포항공과대학교	선행기술팀	한성웅	272,000원
6359	2024-03-28 13시	15시	0-0-0 Pre Cleaning SC2	포항공과대학교	선행기술팀	한성웅	512,000원
6360	2024-03-28 13시	15시	0-0-0 Pre Cleaning BOE 10 : 1	포항공과대학교	선행기술팀	한성웅	1,024,000원
6361	2024-03-28 13시	15시	0-0-0 Pre Cleaning SPM	포항공과대학교	선행기술팀	한성웅	272,000원
6362	2024-03-28 15시	16시	HCl cleaning	삼성전자	DS	김태훈	0원
6363	2024-03-28 9시	10시	6-3-8 PR Strip SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6364	2024-03-29 15시	16시	4-3-4 PR Strip SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6365	2024-03-29 9시	10시	ICT 제품화 지원사업 전자과 신성환 010 9081 6590	(주)아이제스트	연구개발팀	길연호	80,000원
6366	2024-03-29 9시	12시	BOE 2hr	나노융합기술원	대외협력팀	양웅석	256,000원
6367	2024-04-01 10시	12시	0-1-1 pre cleaning SC1	삼성디스플레이	-	여소영	144,500원
6368	2024-04-01 13시	14시	4-3-4 PR Strip SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6369	2024-04-01 13시	14시	4-3-4 PR Strip SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6370	2024-04-01 14시	15시	DHF 100 : 1	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	201,000원
6371	2024-04-02 14시	15시	DHF(100:1) 1min	나노융합기술원	대외협력팀	양웅석	96,000원
6372	2024-04-02 16시	17시	-	포항공과대학교 대학원	IT융합공학과	김기영	96,000원
6373	2024-04-02 17시	18시	-	포항공과대학교 대학원	IT융합공학과	김기영	66,400원
6374	2024-04-03 13시	15시	없음	주식회사 아르케	SIC 생산본부	노병훈	108,000원
6375	2024-04-03 15시	16시	3-0-1 BOE(10:1) 2000A	나노융합기술원	대외협력팀	양웅석	256,000원
6376	2024-04-03 16시	18시	BOE(10:1) 1min 3회 진행	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	768,000원
6377	2024-04-03 20시	21시	1	포항공과대학교 대학원	기계공학과	윤정환	66,400원
6378	2024-04-04 13시	14시	0-0-2 Pre Cleaning SPM 2024년 ICT 제품화 사업	(주)엔디디	연구소	최영환	170,000원
6379	2024-04-04 13시	14시	BOE(10:1)	삼성전자	DS	김태훈	320,000원
6380	2024-04-04 14시	15시	0-0-3 Pre Cleaning DHF 2024년 ICT 제품화 사업	(주)엔디디	연구소	최영환	120,000원
6381	2024-04-04 14시	15시	2-2-3 PR Strip SPM	(주)지아이에스	지아이에스 부설연구소	이민재	170,000원
6382	2024-04-04 19시	21시	4-4-1 P+ Block Oxide Remove. BOE(10:1)	삼성전자	DS	김태훈	0원
6383	2024-04-05 14시	15시	6-5-2 Oxide Remove	삼성전자	DS	김태훈	0원
6384	2024-04-05 15시	19시	0-1-5 Pre Cleaning DHF	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	108,000원
6385	2024-04-05 16시	18시	0-1-4 Pre Cleaning SC2	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	288,000원
6386	2024-04-05 16시	18시	0-1-3 Pre Cleaning SPM	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	153,000원
6387	2024-04-05 16시	17시	현재 웨이퍼는 silicon wafer 위에 silicon dioxide 1 um를 성장시켰고, 그 위에 titanium(티타늄) 5 nm, gold 400 nm가 증착한 상태입니다. HF로 silicon dioxide와 티타늄을 동시에 식각하려고 합니다. 따라서 금속을 식각하려고 하는데, 이를 위한 공정 진행 및 폐액 처리 방법을 교육받고자 장비 신청 드립니다.	포항공과대학교 대학원	기계공학과	노재관	96,000원
6388	2024-04-05 19시	20시	7-1-1 Pre Cleaning DHF	삼성전자	DS	김태훈	0원
6389	2024-04-05 19시	20시	0-2-2 0 fab-in pre cleaning dhf	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	96,000원
6390	2024-04-05 19시	20시	0-2-1 0 fab-in pre cleaning spm	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	136,000원
6391	2024-04-05 20시	21시	7-1-2 Pre Cleaning TMAH 2.38	삼성전자	DS	김태훈	0원
6392	2024-04-05 21시	22시	5-3-8 PR Strip SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6393	2024-04-05 8시	10시	5-1-1 P+IMP pre cleaning SC1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6394	2024-04-08 13시	14시	2024년 ICT 제품화 사업 2-2-3 PR Strip SPM	(주)엔디디	연구소	최영환	170,000원
6395	2024-04-08 13시	14시	2-2-1 PR Strip SPM	삼성전자	DS	김태훈	170,000원
6396	2024-04-08 14시	17시	15 nm nitride film wet etch	포항공과대학교	화학과	배근수	160,000원
6397	2024-04-08 14시	15시	2-2-1 Oxide Remove BOE 10 : 1	삼성전자	DS	김태훈	320,000원
6398	2024-04-08 18시	19시	7-2-6 PR Strip SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6399	2024-04-08 19시	20시	.	포항공과대학교 대학원	기계공학과	김우현	66,400원
6400	2024-04-08 20시	21시	7-3-1 Pre Cleaning DHF	삼성전자	DS	김태훈	0원
6401	2024-04-08 20시	22시	7-3-1 Pre Cleaning TMAH	삼성전자	DS	김태훈	0원
6402	2024-04-09 14시	15시	담당 연구원 : 도정현 (010-6370-5281) 8inch Si test wafer 1ea SPM	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	96,000원
6403	2024-04-09 15시	16시	3-1-1 Pre Cleaning DHF	삼성전자	DS	김태훈	120,000원
6404	2024-04-09 16시	17시	3-1-2 Pre Cleaning TMAH	삼성전자	DS	김태훈	320,000원
6405	2024-04-09 16시	17시	1-3-1 PR Strip SPM	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	136,000원
6406	2024-04-09 17시	18시	3-1-3 Nitric Acid Treatment SC-1	삼성전자	DS	김태훈	170,000원
6407	2024-04-09 9시	11시	WF01 SPM 추가 진행	삼성전자	DS	김태훈	0원
6408	2024-04-11 10시	11시	담당 연구원: 손종민 (010-9766-0039) SPM사용 예정입니다 ICT제품화 지원사업	(주)아이제스트	연구개발팀	길연호	120,000원
6409	2024-04-11 11시	12시	7-3-4 Ox wet strip BOE(10:1)	삼성전자	DS	김태훈	0원
6410	2024-04-11 11시	12시	0-1-2 pre cleaning SPM	코닝정밀소재주식회사	S&C	송창원	170,000원
6411	2024-04-11 11시	12시	BOE(10:1) 20sec	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	256,000원
6412	2024-04-11 14시	15시	5-5-2 Oxide Remove	삼성전자	DS	김태훈	0원
6413	2024-04-11 14시	15시	1-3-3 PR Strip SPM	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	136,000원
6414	2024-04-11 14시	15시	8-1-1 Pre Cleaning SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6415	2024-04-11 15시	16시	8-1-3 Pre Cleaning TMAH	삼성전자	DS	김태훈	0원
6416	2024-04-11 15시	16시	8-1-2 Pre Cleaning DHF	삼성전자	DS	김태훈	0원
6417	2024-04-11 16시	17시	7-1-1 Pre Cleaning DHF	삼성전자	DS	김태훈	0원
6418	2024-04-11 17시	18시	7-1-2 Pre Cleaning TMAH	삼성전자	DS	김태훈	0원
6419	2024-04-11 19시	20시	1-3-2 PR Strip SPM	코닝정밀소재주식회사	S&C	송창원	170,000원
6420	2024-04-12 14시	15시	7-3-1 Pre Cleaning DHF	삼성전자	DS	김태훈	0원
6421	2024-04-12 15시	16시	7-3-1 Pre Cleaning TMAH	삼성전자	DS	김태훈	0원
6422	2024-04-12 8시	9시	8-2-1 ACT.AREA pre cleaning SC1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6423	2024-04-12 9시	11시	7-2-6 ACTIVATE SPM PR Strip	삼성전자	DS	김태훈	0원
6424	2024-04-13 10시	12시	8-4-2 act. area field oxide etching boe 10:1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6425	2024-04-13 10시	11시	7-3-4 activate sac.oxide ox wet strip boe	삼성전자	DS	김태훈	0원
6426	2024-04-13 11시	12시	8-1-2 act. area field oxid pre cleaning dhf	삼성전자	DS	김태훈	0원
6427	2024-04-13 11시	12시	8-1-1 act. area field oxid pre cleaning spm	삼성전자	DS	김태훈	0원
6428	2024-04-13 12시	13시	8-1-3 act. area field oxid pre cleaning tmah	삼성전자	DS	김태훈	0원
6429	2024-04-14 9시	11시	8-2-1 act. area field oxid pre cleaning sc1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6430	2024-04-15 10시	11시	9-1-2 GATE Oxid pre cleaning TMAH 2.38%	삼성전자	DS	김태훈	0원
6431	2024-04-15 13시	14시	ICT 제품화 지원사업 담당 연구원 : 도정현 (010-6370-5281) SPM, 8inch SOI 3ea pr strip	(주)아이제스트	연구개발팀	길연호	360,000원
6432	2024-04-15 13시	14시	9-1-3 GATE Oxid pre cleaning SC1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6433	2024-04-15 14시	15시	8-4-2 Wet etch oxide BOE	삼성전자	DS	김태훈	0원
6434	2024-04-15 15시	16시	8-4-4 PR Strip SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6435	2024-04-15 16시	17시	9-1-1 Pre Cleaning DHF	삼성전자	DS	김태훈	0원
6436	2024-04-15 17시	18시	9-1-2 Pre Cleaning TMAH	삼성전자	DS	김태훈	0원
6437	2024-04-15 18시	19시	9-1-3 Nitric Acid Treatment SC-1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6438	2024-04-15 22시	23시	ICT 제품화 지원사업 전자과 신성환 010 9081 6590 조각 SPM	(주)아이제스트	연구개발팀	길연호	120,000원
6439	2024-04-15 8시	9시	8-4-4 SPM PR Strip	삼성전자	DS	김태훈	0원
6440	2024-04-15 9시	10시	9-1-1 GATE Oxid pre cleaning DHF(800:1)	삼성전자	DS	김태훈	0원
6441	2024-04-15 9시	12시	없음	주식회사 아르케	SIC 생산본부	노병훈	108,000원
6442	2024-04-16 18시	19시	3-4-3 Oxide remove BOE(10:1)	트리노테크놀로지	경영지원팀	트리노테크놀로지	0원
6443	2024-04-16 18시	19시	3-4-2 SPM	트리노테크놀로지	경영지원팀	트리노테크놀로지	0원
6444	2024-04-16 20시	21시	2-1-1 pwell_imp sro remove boe 30sec	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	256,000원
6445	2024-04-16 21시	22시	ICT 제품화 지원사업 전자과 신성환 010 9081 6590 조각 SPM	(주)아이제스트	연구개발팀	길연호	170,000원
6446	2024-04-17 10시	12시	2-1-1 JFET IMP pre cleaning SC1	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6447	2024-04-17 13시	15시	7-1-1 SC2	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	256,000원
6448	2024-04-17 16시	17시	2-3-4 PR Strip SPM	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	136,000원
6449	2024-04-18 20시	21시	9-3-5 Wet etch oxide BOE	삼성전자	DS	김태훈	0원
6450	2024-04-19 15시	17시	4-4-1 P+Block Oxide remove BOE(10:1)	삼성전자	DS	김태훈	0원
6451	2024-04-19 15시	17시	4-4-1 P+Block Oxide remove BOE(10:1)	삼성전자	DS	김태훈	0원
6452	2024-04-19 17시	18시	9-5-4 gate poilysi etch pr strip 1st	삼성전자	DS	김태훈	0원
6453	2024-04-19 19시	20시	5-1-1 p+imp ppluw hard mask pre cleaning sc-1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6454	2024-04-19 19시	20시	9-5-5 gate polysi etch pr strip 2nd spm	삼성전자	DS	김태훈	0원
6455	2024-04-19 19시	20시	5-1-1 p+imp ppluw hard mask pre cleaning sc-1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6456	2024-04-19 8시	10시	9-3-7 GATE SPM PR Strip	삼성전자	DS	김태훈	0원
6457	2024-04-20 17시	19시	11-2-3 CONT SPM PR Strip	삼성전자	DS	김태훈	0원
6458	2024-04-22 14시	15시	1-3-2 Activate Sac. Oxid Wet Strip	삼성전자	DS	김태훈	320,000원
6459	2024-04-22 16시	17시	1-1-1 Pre Cleaning DHF	삼성전자	Power device팀	박종원	120,000원
6460	2024-04-22 17시	18시	1-2-1 Pre Cleaning TMAH	삼성전자	Power device팀	박종원	320,000원
6461	2024-04-22 19시	20시	11-4-3 cont salicide etch wet etch ni spm	삼성전자	DS	김태훈	0원
6462	2024-04-22 20시	21시	5-3-8 PR Strip SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6463	2024-04-22 21시	22시	5-3-8 PR Strip	삼성전자	DS	김태훈	0원
6464	2024-04-23 10시	11시	0-2-3 pre cleaning tmah	삼성전자	Power device팀	박종원	320,000원
6465	2024-04-23 10시	11시	0-2-3 pre cleaning tmah	삼성전자	Power device팀	박종원	320,000원
6466	2024-04-23 10시	11시	SnOC film on un-polished side 딥 방식으로 웨이퍼 전체를 담그는 것이 맞는지 확인 부탁드립니다. HF 200:1 1ea -> 30 sec etch 1ea -> 60 sec etch etch 후 오염도 측정을 목표로 합니다. 샘플 핸들링에 다소 주의를 부탁드립니다. 담당자 : 서민규 ( 010-4313-3588)	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	240,000원
6467	2024-04-23 11시	12시	ICT 제품화 지원사업 전자과 신성환 010 9081 6590	(주)아이제스트	연구개발팀	길연호	80,000원
6468	2024-04-23 20시	21시	9-3-1 Pre Cleaning SPM	삼성전자	DS	김태훈	170,000원
6469	2024-04-23 20시	21시	9-3-1 Pre Cleaning SPM	삼성전자	DS	김태훈	170,000원
6470	2024-04-23 8시	9시	0-2-1 pre cleaning spm	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6471	2024-04-23 8시	9시	0-2-1 pre cleaning spm	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6472	2024-04-23 9시	10시	0-2-2 pre cleaning dhf	삼성전자	Power device팀	박종원	120,000원
6473	2024-04-23 9시	10시	0-2-2 pre cleaning dhf	삼성전자	Power device팀	박종원	120,000원
6474	2024-04-24 20시	21시	9-3-5 Wet etch oxide BOE	삼성전자	DS	김태훈	320,000원
6475	2024-04-24 20시	21시	9-3-5 Wet etch oxide BOE	삼성전자	DS	김태훈	320,000원
6476	2024-04-24 21시	22시	9-3-7 PR Strip SPM	삼성전자	DS	김태훈	170,000원
6477	2024-04-24 21시	22시	9-3-7 PR Strip SPM	삼성전자	DS	김태훈	170,000원
6478	2024-04-26 15시	16시	ICT 제품화 지원사업 담당 연구원 : 도정현 (01063705281) 8inch SOI 8ea, test wafer 2ea SPM 5분	(주)아이제스트	연구개발팀	길연호	120,000원
6479	2024-04-26 16시	17시	dhf 100:1 1min	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	96,000원
6480	2024-04-26 16시	17시	4-4-2 Pre Cleaning SPM	트리노테크놀로지	경영지원팀	트리노테크놀로지	0원
6481	2024-04-26 17시	18시	4-4-3 Oxide Remove BOE	트리노테크놀로지	경영지원팀	트리노테크놀로지	0원
6482	2024-04-29 10시	11시	조각시편 BOE	포항공과대학교	공정기술팀	박광진	200,000원
6483	2024-04-29 14시	15시	0-1-1 Pre Cleaning SPM	AP시스템(주)	디스플레이 장비사업본부	최동혁	170,000원
6484	2024-04-29 14시	15시	0-1-1 Pre Cleaning SPM	AP시스템(주)	디스플레이 장비사업본부	최동혁	170,000원
6485	2024-04-29 14시	16시	0-1-2 Pre Cleaning SC-1	AP시스템(주)	디스플레이 장비사업본부	최동혁	170,000원
6486	2024-04-29 15시	16시	0-1-2 Pre Cleaning SC-1	AP시스템(주)	디스플레이 장비사업본부	최동혁	170,000원
6487	2024-04-29 16시	17시	0-1-3 Pre Cleaning BOE	AP시스템(주)	디스플레이 장비사업본부	최동혁	320,000원
6488	2024-04-29 16시	17시	2-2-3 PR remove	연세대학교	화공생명공학과	이승효	170,000원
6489	2024-04-29 16시	17시	0-1-3 Pre Cleaning BOE	AP시스템(주)	디스플레이 장비사업본부	최동혁	320,000원
6490	2024-04-29 20시	21시	9-5-4 PR Remove SPM	삼성전자	DS	김태훈	170,000원
6491	2024-04-29 20시	21시	9-5-4 PR Remove SPM	삼성전자	DS	김태훈	170,000원
6492	2024-04-30 17시	18시	이용자: 손종민 (010-9766-0039) SPM 사용 예정입니다. ICT 제품화 지원사업	(주)아이제스트	연구개발팀	길연호	120,000원
6493	2024-04-30 17시	18시	9-3-1 Pre Cleaning SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6494	2024-04-30 18시	19시	이용자: 손종민 (010-9766-0039) dHF 사용 예정입니다. ICT 제품화 지원사업	(주)아이제스트	연구개발팀	길연호	120,000원
6495	2024-04-30 18시	19시	9-3-1 Pre Cleaning SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6496	2024-05-02 10시	11시	조각BOE	포항공과대학교	공정기술팀	박광진	200,000원
6497	2024-05-02 10시	11시	9-3-7 SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6498	2024-05-02 10시	11시	9-3-7 SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6499	2024-05-02 18시	19시	3-1-1 Oxide Remove BOE	삼성전자	DS	김태훈	320,000원
6500	2024-05-02 20시	21시	1-1-1 Oxide Remove BOE	삼성전자	Power device팀	박종원	320,000원
6501	2024-05-02 21시	22시	9-5-4 PR Strip SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6502	2024-05-02 21시	22시	9-5-4 PR Strip SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6503	2024-05-02 9시	10시	9-3-5 GATE Backside etch BOE(10:1)	삼성전자	DS	김태훈	0원
6504	2024-05-02 9시	10시	9-3-5 GATE Backside etch BOE(10:1)	삼성전자	DS	김태훈	0원
6505	2024-05-03 14시	15시	0-1-2 Pre Cleaning SPM	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6506	2024-05-03 15시	16시	2-2-1 Pre Cleaning TMAH	삼성전자	Power device팀	박종원	320,000원
6507	2024-05-03 15시	16시	2-1-1 Pre Cleaning DHF	삼성전자	Power device팀	박종원	120,000원
6508	2024-05-03 16시	17시	0-1-3 Pre Cleaning DHF	삼성전자	Power device팀	박종원	120,000원
6509	2024-05-03 17시	18시	0-1-4 Pre Cleaning TMAH	삼성전자	Power device팀	박종원	320,000원
6510	2024-05-07 15시	16시	0-2-2 0 fab-in pre cleaning dhf	포항공과대학교	반도체기술융합센터	김준	96,000원
6511	2024-05-08 13시	14시	1-1-1 Pre Cleaning DHF	삼성전자	Power device팀	박종원	120,000원
6512	2024-05-08 14시	15시	1-1-2 Pre Cleaning TMAH	삼성전자	Power device팀	박종원	320,000원
6513	2024-05-08 15시	16시	5-4-2 PR Cleaning SPM	트리노테크놀로지	경영지원팀	트리노테크놀로지	0원
6514	2024-05-08 16시	17시	5-4-3 Oxide Remove BOE	트리노테크놀로지	경영지원팀	트리노테크놀로지	0원
6515	2024-05-08 17시	18시	6-1-1 Pre Cleaning DHF	트리노테크놀로지	경영지원팀	트리노테크놀로지	0원
6516	2024-05-09 11시	12시	BOE(10:1) 9min	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	256,000원
6517	2024-05-09 11시	12시	BOE(10:1) 20sec	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	256,000원
6518	2024-05-09 14시	15시	6-1-0 DHF(100:1) 1min	포항공과대학교	선행기술팀	한성웅	96,000원
6519	2024-05-09 14시	15시	6-4-3 ACTIVATE SPM	트리노테크놀로지	경영지원팀	트리노테크놀로지	0원
6520	2024-05-09 15시	16시	6-5-1 ACTIVATE DHF(100:1)	트리노테크놀로지	경영지원팀	트리노테크놀로지	0원
6521	2024-05-10 14시	16시	2-5-1 Oxide Remove BOE	삼성전자	DS	김태훈	0원
6522	2024-05-10 16시	17시	6-3-0 Ox Wet strip	포항공과대학교	선행기술팀	한성웅	256,000원
6523	2024-05-10 17시	18시	6-5-3 Ox Wet strip BOE	트리노테크놀로지	경영지원팀	트리노테크놀로지	0원
6524	2024-05-10 18시	19시	7-1-1 Pre Cleaning SPM	트리노테크놀로지	경영지원팀	트리노테크놀로지	0원
6525	2024-05-10 19시	20시	7-1-2 Pre Cleaning DHF	트리노테크놀로지	경영지원팀	트리노테크놀로지	0원
6526	2024-05-12 10시	11시	SOI wafer 위에 Cr/Au film이 증착되어 있습니다. etching 후 남은 HF 용액은 금속 폐액용 말통에 버리겠습니다.	포항공과대학교 대학원	기계공학과	노재관	66,400원
6527	2024-05-13 9시	10시	1-2-2 pre cleaning DHF(100:1) 1min	포항공과대학교	반도체기술융합센터	김준	96,000원
6528	2024-05-14 10시	11시	7-3-3 SPM PR Strip	트리노테크놀로지	경영지원팀	트리노테크놀로지	0원
6529	2024-05-14 10시	11시	SPM + SC1	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	192,000원
6530	2024-05-14 10시	11시	DHF	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	66,400원
6531	2024-05-14 13시	14시	ICT 제품화 지원사업 spm, sc1, dhf	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	320,000원
6532	2024-05-14 15시	16시	2-5-1 jfet imp jfet mask remv. oxide remove boe 50min	삼성전자	DS	김태훈	0원
6533	2024-05-14 15시	16시	6-1-1 jte imp jte hard mask pre cleaning sc1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6534	2024-05-14 15시	16시	6-1-1 jte imp jte hard mask pre cleaning sc1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6535	2024-05-14 15시	16시	5-5-2 p+imp pplus mask remv. oxide remove boe 50min	삼성전자	DS	김태훈	0원
6536	2024-05-14 15시	16시	5-5-2 p+imp pplus mask remv. oxide remove boe 50min	삼성전자	DS	김태훈	0원
6537	2024-05-14 17시	17시	1-3-7 akey pr remove wf cleaning tmah 2.38%	삼성전자	Power device팀	박종원	320,000원
6538	2024-05-14 17시	18시	1-3-3 akey pr remove spm pr strip spm	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6539	2024-05-14 17시	18시	2-1-1 jfet imp jfet & nplus hard mask pre cleaning sc-1	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6540	2024-05-14 9시	10시	7-3-1 ACT.AREA Wet etch oxide BOE(10:1)	트리노테크놀로지	경영지원팀	트리노테크놀로지	0원
6541	2024-05-14 9시	11시	3-1-3 PWELL SPM PR Strip	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6542	2024-05-16 11시	12시	6-3-8 jte imp mask remv. pr strip spm	삼성전자	DS	김태훈	0원
6543	2024-05-16 11시	12시	6-3-8 jte imp mask remv. pr strip spm	삼성전자	DS	김태훈	0원
6544	2024-05-16 19시	20시	2-3-4 PR Strip SPM	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6545	2024-05-16 9시	10시	ict 제품화 지원사업 0-0-3 fab-in spm	(주)엔디디	연구소	최영환	170,000원
6546	2024-05-17 18시	24시	SiC sample 위에 Ni 50nm, TiN 15nm을 증착하고 RGB Laser annealing을 진행했습니다. 그래서 Si과 Ni의 silicidiation을 확인하기 위해 Laser annealing 이후 남은 Ni, TiN 부산물을 제거하기 위해 SPM 세정을 하려고 합니다. 세정하고자 하는 조각은 총 2개입니다.	포항공과대학교 대학원	반도체대학원	박휘승	136,000원
6547	2024-05-19 17시	18시	SOI wafer 위에 Cr/Au film이 증착되어 있습니다. etching 후 남은 HF 용액은 금속 폐액용 말통에 버리겠습니다	포항공과대학교 대학원	기계공학과	노재관	66,400원
6548	2024-05-20 10시	11시	Sample은 30mm x 30mm 조각웨이퍼 6EA이며 모두 같은 recipe로 dipping 요청드립니다. 각 웨이퍼는 뒷면에 스크래치 및 넘버링이 되어있어 구분 가능합니다. 공정 시간은 1시간으로 신청하였으나 시간이 더 필요하신 추가적으로 공정시간 연장 요청드립니다. Recipe는 다음과 같습니다. STEP1) 200:1 HF 30s 진행 후 STEP2) H2SO4:H2O2 = 4:1, 30s 진행 후 STEP3) 200:1 HF 40s 진행 담당자: 박건우 Tel. 010-5587-9302 E-mail. gwpark@dnfsolution.com	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	820,000원
6549	2024-05-20 11시	12시	2-2-3 PR Strip SPM	(주)지아이에스	지아이에스 부설연구소	이민재	170,000원
6550	2024-05-20 14시	15시	0-1-2 SPM Clean	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	136,000원
6551	2024-05-20 14시	15시	8-1-2 gate oxide pre cleaning sc1	트리노테크놀로지	경영지원팀	트리노테크놀로지	0원
6552	2024-05-20 14시	15시	8-1-1 gate oxide pre cleaning dhf 800:1	트리노테크놀로지	경영지원팀	트리노테크놀로지	0원
6553	2024-05-20 15시	16시	0-1-4 DHF Clean	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	96,000원
6554	2024-05-20 18시	20시	7-1-1 Pre Cleaning DHF	삼성전자	DS	김태훈	0원
6555	2024-05-20 18시	20시	7-1-1 Pre Cleaning DHF	삼성전자	DS	김태훈	0원
6556	2024-05-20 18시	20시	6-5-2 Oxide Remove BOE	삼성전자	DS	김태훈	0원
6557	2024-05-20 18시	20시	6-5-2 Oxide Remove BOE	삼성전자	DS	김태훈	0원
6558	2024-05-20 20시	21시	7-1-2 Pre Cleaning TMAH	삼성전자	DS	김태훈	0원
6559	2024-05-20 20시	21시	7-1-2 Pre Cleaning TMAH	삼성전자	DS	김태훈	0원
6560	2024-05-20 8시	9시	2-2-3 PR Strip SPM	(주)지아이에스	지아이에스 부설연구소	이민재	170,000원
6561	2024-05-20 9시	10시	SnOC film on un-polished side HF 200:1 Bare 1ea -> 30 sec etch HF 10:1 Bare 1ea -> 30 sec etch SnOC 1ea -> 30 sec etch SnOC 1ea -> 60 sec etch Etch 후 오염 측정을 목적으로 합니다. 샘플 핸들링에 주의를 부탁드립니다. 담당자: 디엔에프 서민규(010-4313-3588)	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	760,000원
6562	2024-05-21 14시	15시	9-3-5 Wet etch Oxide BOE	삼성전자	DS	김태훈	0원
6563	2024-05-21 14시	15시	9-3-5 Wet etch Oxide BOE	삼성전자	DS	김태훈	0원
6564	2024-05-21 15시	16시	9-3-5 Wet etch Oxide BOE 5분 추가	삼성전자	DS	김태훈	0원
6565	2024-05-21 15시	16시	9-3-5 Wet etch Oxide BOE 5분 추가	삼성전자	DS	김태훈	0원
6566	2024-05-21 18시	19시	9-3-7 gate poly si etch spm pr strip	삼성전자	DS	김태훈	0원
6567	2024-05-21 18시	19시	9-3-7 gate poly si etch spm pr strip	삼성전자	DS	김태훈	0원
6568	2024-05-21 8시	9시	9-3-5 GATE Backside Etch BOE(10:1) WF02, WF05	삼성전자	DS	김태훈	0원
6569	2024-05-21 8시	9시	9-3-5 GATE Backside Etch BOE(10:1) -WF05	삼성전자	DS	김태훈	0원
6570	2024-05-22 10시	11시	7-3-1 DHF(100:1) 1min	삼성전자	DS	김태훈	0원
6571	2024-05-22 11시	12시	7-3-1 TMAH 2.38% 1min	삼성전자	DS	김태훈	0원
6572	2024-05-22 15시	16시	DHF 100 : 1	포항공과대학교	반도체기술융합센터	김준	96,000원
6573	2024-05-22 19시	21시	2-6-1 Oxide Remove BOE	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	256,000원
6574	2024-05-22 9시	10시	7-2-6 SPM PR Strip	삼성전자	DS	김태훈	0원
6575	2024-05-23 10시	11시	조각 DHF	포항공과대학교	공정기술팀	박광진	66,400원
6576	2024-05-23 10시	11시	8-1-2 DHF	삼성전자	DS	김태훈	0원
6577	2024-05-23 11시	12시	8-1-3 TMAH	삼성전자	DS	김태훈	0원
6578	2024-05-23 14시	15시	2-6-2 Pre Cleaning SC-1	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	136,000원
6579	2024-05-23 15시	16시	9-5-4 PR Strip SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6580	2024-05-23 15시	16시	9-5-4 PR Strip SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6581	2024-05-23 16시	17시	10-2-1 Pre Cleaning DHF	삼성전자	DS	김태훈	0원
6582	2024-05-23 16시	17시	10-2-1 Pre Cleaning DHF	삼성전자	DS	김태훈	0원
6583	2024-05-23 17시	18시	10-2-2 Pre Cleaning TMAH	삼성전자	DS	김태훈	0원
6584	2024-05-23 17시	18시	10-2-2 Pre Cleaning TMAH	삼성전자	DS	김태훈	0원
6585	2024-05-23 19시	20시	0-1-1 Pre Cleaning SPM	고려대학교	제어계측공학과	최길영	170,000원
6586	2024-05-23 20시	21시	0-1-2 Pre Cleaning DHF	고려대학교	제어계측공학과	최길영	120,000원
6587	2024-05-23 8시	9시	7-3-4 BOE	삼성전자	DS	김태훈	0원
6588	2024-05-23 9시	10시	8-1-1 spm	삼성전자	DS	김태훈	0원
6589	2024-05-24 10시	11시	BOE 2min	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	이규빈	256,000원
6590	2024-05-24 13시	14시	3-3-4 PR Strip SPM	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	136,000원
6591	2024-05-27 10시	11시	11-2-3 SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6592	2024-05-27 10시	11시	11-2-3 SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6593	2024-05-27 11시	12시	* ICT 제품화 지원사업* 으로 정산 부탁드립니다.	(주)아이제스트	연구개발팀	길연호	80,000원
6594	2024-05-27 16시	17시	8-4-2 Back Oxide etch BOE	트리노테크놀로지	경영지원팀	트리노테크놀로지	0원
6595	2024-05-27 17시	18시	4-4-1 Oxide Remove BOE	삼성전자	Power device팀	박종원	320,000원
6596	2024-05-27 18시	19시	5-1-1 Pre Cleaning SC-1	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6597	2024-05-27 19시	20시	8-4-4 PR Strip SPM	트리노테크놀로지	경영지원팀	트리노테크놀로지	0원
6598	2024-05-27 8시	9시	0-2-1 SPM	삼성전자	Power device팀	박종원	510,000원
6599	2024-05-27 9시	10시	0-2-2 DHF	삼성전자	Power device팀	박종원	360,000원
6600	2024-05-28 10시	11시	1-3-3 oxide etch pr remove spm 10min	고려대학교	제어계측공학과	최길영	170,000원
6601	2024-05-28 12시	13시	0-2-4 0 fab-in pre cleaning dhf	포항공과대학교 대학원	화학공학과	김준	96,000원
6602	2024-05-28 12시	13시	0-0-1 preparartion pre cleaning dhf	나노융합기술원	대외협력팀	양웅석	96,000원
6603	2024-05-28 16시	17시	8-2-1 SC1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6604	2024-05-28 18시	20시	10-5-1 TiN Wet etch SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6605	2024-05-28 19시	20시	10-5-1 TiN Wet etch SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6606	2024-05-29 15시	16시	DHF 용액 이용하여 네이티브 산화막 제거 예정입니다. 장비 이용 교육도 함께 진행 요청드립니다.	포항공과대학교	기계공학과	이상엽	96,000원
6607	2024-05-29 9시	10시	8-6-5 DHF(100:1) 1min	트리노테크놀로지	경영지원팀	트리노테크놀로지	0원
6608	2024-05-29 9시	10시	5-3-4 SPM	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6609	2024-05-29 9시	10시	8-6-5 SPM	트리노테크놀로지	경영지원팀	트리노테크놀로지	0원
6610	2024-05-30 9시	10시	9-1-1 DHF(100:1) 7min	트리노테크놀로지	경영지원팀	트리노테크놀로지	0원
6611	2024-05-31 13시	14시	8-4-2 Oxide wet etch BOE	삼성전자	DS	김태훈	0원
6612	2024-05-31 14시	15시	3-6-1 Oxide Remove BOE	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	256,000원
6613	2024-05-31 15시	16시	3-6-2 Pre Cleaning SC-1	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	136,000원
6614	2024-05-31 16시	17시	8-4-4 PR Strip SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6615	2024-06-03 14시	15시	DHF(100:1)	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	66,400원
6616	2024-06-03 19시	20시	SPM 10min	포항공과대학교 대학원	IT융합공학과	김기영	136,000원
6617	2024-06-03 20시	21시	DHF(100:1)	포항공과대학교 대학원	IT융합공학과	김기영	96,000원
6618	2024-06-03 8시	9시	Sample은 15mm x 30mm, 15mm x 20mm 이하의 조각웨이퍼 9EA이며 모두 같은 recipe로 dipping 요청드립니다. 각 웨이퍼는 뒷면에 스크래치 및 넘버링이 되어있어 구분 가능합니다. 공정 시간은 1시간으로 신청하였으나 시간이 더 필요하신 추가적으로 공정시간 연장 요청드립니다. Recipe는 다음과 같습니다. STEP1) 200:1 HF 30s 진행 후 STEP2) H2SO4:H2O2 = 4:1, 30s 진행 후 STEP3) 200:1 HF 40s 진행 본 계정은 회사 계정으로, 문의 사항은 아래 번호 혹은 이메일 회신 부탁드립니다. 담당자: 박건우 Tel. 010-5587-9302 E-mail. gwpark@dnfsolution.com	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	360,000원
6619	2024-06-03 8시	9시	1-2-2 Pre Cleaning DHF	포항공과대학교	반도체기술융합센터	김준	96,000원
6620	2024-06-03 9시	10시	STEP1) 200:1 HF 30s 진행 후 STEP2) H2SO4:H2O2 = 4:1, 30s 진행 후 STEP3) 200:1 HF 40s 진행	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	360,000원
6621	2024-06-03 9시	10시	STEP1) 200:1 HF 30s 진행 후 STEP2) H2SO4:H2O2 = 4:1, 30s 진행 후 STEP3) 200:1 HF 40s 진행	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	510,000원
6622	2024-06-04 14시	17시	Ti, Pt 기반 물질	포항공과대학교 대학원	신소재공학과	김봉원	136,000원
6623	2024-06-04 21시	22시	-	포항공과대학교 대학원	IT융합공학과	김기영	96,000원
6624	2024-06-04 9시	10시	10-2-4 PR Strip SPM	트리노테크놀로지	경영지원팀	트리노테크놀로지	0원
6625	2024-06-05 10시	11시	2-0-1 Ni Remove SPM	AP시스템(주)	디스플레이 장비사업본부	최동혁	170,000원
6626	2024-06-05 17시	18시	10-2-2 BOE	트리노테크놀로지	경영지원팀	트리노테크놀로지	0원
6627	2024-06-05 20시	21시	10-2-4 SPM	트리노테크놀로지	경영지원팀	트리노테크놀로지	0원
6628	2024-06-07 11시	13시	10-5-1 cont salicide etch tin etch spm 5min	트리노테크놀로지	경영지원팀	트리노테크놀로지	0원
6629	2024-06-07 15시	16시	조각 BOE	포항공과대학교	공정기술팀	박광진	200,000원
6630	2024-06-09 16시	17시	SOI wafer 위에 Cr/Au film이 증착되어 있습니다. 또한 금속 층 위에 photoresist가 패터닝되어 있습니다. etching 후 남은 HF 용액은 금속 폐액용 말통에 버리겠습니다	포항공과대학교 대학원	기계공학과	노재관	66,400원
6631	2024-06-10 13시	14시	0-0-1 Pre Cleaning BOE	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	200,000원
6632	2024-06-10 14시	15시	0-0-2 Pre Cleaning SC1	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	96,000원
6633	2024-06-10 15시	16시	0-0-2 Pre Cleaning BOE	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	200,000원
6634	2024-06-10 16시	17시	0-0-2 Pre Cleaning SPM	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	96,000원
6635	2024-06-10 20시	21시	11-2-2 BOE	트리노테크놀로지	경영지원팀	트리노테크놀로지	0원
6636	2024-06-10 8시	10시	4-3-4 SPM Pr Strip	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	136,000원
6637	2024-06-11 10시	11시	0-1-4 marking fab-in pre cleaning tmah 2.38%	삼성전자	Power device팀	박종원	320,000원
6638	2024-06-11 10시	11시	0-1-3 marking fab-in pre cleaning dhf	삼성전자	Power device팀	박종원	120,000원
6639	2024-06-11 10시	11시	0-1-2 marking fab-in pre cleaning spm	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6640	2024-06-12 10시	11시	ICT 제품화 지원사업	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	250,000원
6641	2024-06-12 16시	17시	조각 BOE	포항공과대학교	공정기술팀	박광진	200,000원
6642	2024-06-12 17시	18시	ICT 제품화 지원사업 담당 연구원 : 도정현 (010-6370-5281) 8inch wafer 4ea, dHF	(주)아이제스트	연구개발팀	길연호	80,000원
6643	2024-06-13 10시	11시	SPM	포항공과대학교	반도체기술융합센터	김준	136,000원
6644	2024-06-13 13시	14시	4-4-1 BOE	삼성전자	Power device팀	박종원	320,000원
6645	2024-06-13 14시	15시	2-2-0 BOE	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	256,000원
6646	2024-06-13 14시	15시	1-1-1 DHF	삼성전자	Power device팀	박종원	120,000원
6647	2024-06-13 14시	15시	5-1-1 DHF	삼성전자	Power device팀	박종원	120,000원
6648	2024-06-13 15시	16시	1-2-1 TMAH 2.38%	삼성전자	Power device팀	박종원	320,000원
6649	2024-06-13 15시	16시	5-1-2 TMAH	삼성전자	Power device팀	박종원	320,000원
6650	2024-06-13 15시	18시	-	주식회사 아르케	SIC 생산본부	노병훈	108,000원
6651	2024-06-13 18시	19시	1-3-2 SPM 5min 조각 10ea	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	408,000원
6652	2024-06-13 9시	10시	3-1-3 PR Strip SPM	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6653	2024-06-14 10시	12시	.	주식회사 아르케	SIC 생산본부	노병훈	108,000원
6654	2024-06-14 17시	19시	1-1-1 pmd pmd depo. pre cleaning sc-1	삼성전자	DS	김태훈	340,000원
6655	2024-06-14 17시	19시	9-3-1 gate front passi pre cleaning spm 10\"	삼성전자	DS	김태훈	0원
6656	2024-06-14 17시	19시	9-3-1 gate front passi pre cleaning spm 10\"	삼성전자	DS	김태훈	170,000원
6657	2024-06-14 17시	18시	SPM Cleaning 5min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	136,000원
6658	2024-06-14 18시	19시	1-1-1 pmd pmd depo. pre cleaning sc-1	삼성전자	DS	김태훈	340,000원
6659	2024-06-17 10시	11시	ICT 제품화 지원사업 담당 연구원 : 도정현 (010-6370-5281) 8inch SOI 2ea, dHF 8.5min	(주)아이제스트	연구개발팀	길연호	160,000원
6660	2024-06-17 10시	11시	5-2-6 PR Strip SPM	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6661	2024-06-17 10시	17시	전문인력양성사업 소자공정실습	나노융합기술원	교육홍보팀	김동기	1,020,000원
6662	2024-06-17 11시	12시	6-1-1 Pre Cleaning SC-1	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6663	2024-06-17 15시	17시	9-3-5 BOE(10:1)	삼성전자	DS	김태훈	0원
6664	2024-06-17 15시	17시	9-3-5 BOE(10:1)	삼성전자	DS	김태훈	320,000원
6665	2024-06-17 19시	20시	9-3-7 SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6666	2024-06-17 19시	20시	9-3-7 SPM	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6667	2024-06-17 8시	9시	0-2-4 Pre Cleaning DHF	포항공과대학교	반도체기술융합센터	김준	96,000원
6668	2024-06-17 9시	10시	SPM 추가 진행	삼성전자	DS	김태훈	0원
6669	2024-06-18 13시	14시	3-1-1 Pre Cleaning SC1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6670	2024-06-18 14시	16시	0-0-1 preparation pre cleaning boe	나노융합기술원	대외협력팀	양웅석	256,000원
6671	2024-06-19 10시	11시	9-1-2 Pre Cleaning TMAH	삼성전자	DS	김태훈	0원
6672	2024-06-19 11시	12시	9-1-3 Nitric Acid Treatment SC1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6673	2024-06-19 15시	16시	.	주식회사 아르케	SIC 생산본부	노병훈	108,000원
6674	2024-06-19 16시	17시	SC1	주식회사 아르케	SIC 생산본부	노병훈	108,000원
6675	2024-06-19 19시	20시	3-1-3 SPM	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6676	2024-06-19 9시	10시	9-1-1 Pre Cleaning DHF	삼성전자	DS	김태훈	0원
6677	2024-06-20 13시	15시	2-3-1 BOE 5,000Å ICT 제품화 지원사업	마이크로어낼리시스(주)	마이크로어낼리시스 (주)	안재훈	510,000원
6678	2024-06-20 13시	14시	3-3-8 PR Strip SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6679	2024-06-20 16시	17시	9-5-4 ashing 전 spm	삼성전자	DS	김태훈	0원
6680	2024-06-20 16시	17시	9-5-4 ashing 전 SPM	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6681	2024-06-20 19시	20시	9-5-4 SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6682	2024-06-20 19시	20시	9-5-4 DHF	삼성전자	DS	김태훈	0원
6683	2024-06-20 19시	20시	9-5-4 SPM	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6684	2024-06-20 19시	20시	9-5-4 DHF	삼성전자	Power device팀	박종원	120,000원
6685	2024-06-21 15시	17시	2-4-1 BOE ICT 제품화 지원사업	마이크로어낼리시스(주)	마이크로어낼리시스 (주)	안재훈	320,000원
6686	2024-06-21 9시	10시	0-0-1 Pre Cleaning DHF	나노융합기술원	대외협력팀	양웅석	96,000원
6687	2024-06-24 10시	17시	포스텍 차세대공유혁신대학 나노 반도체공정 실습교육	나노융합기술원	교육홍보팀	김동기	510,000원
6688	2024-06-24 15시	16시	라이센스 갱신용입니다!	포항공과대학교 대학원	기계공학과	김우현	246,000원
6689	2024-06-25 23시	24시	ICT 제품화 지원사업 전자과 신성환 010 9081 6590	(주)아이제스트	연구개발팀	길연호	80,000원
6690	2024-06-26 10시	11시	조각 BOE	포항공과대학교	공정기술팀	박광진	200,000원
6691	2024-06-26 10시	14시	3.2 Ti+PE-Oxide Wet Etch(BOE) 500Å+1,100Å	삼성전자	DS	김태훈	640,000원
6692	2024-06-26 15시	16시	ICT 제품화 지원사업 이용자: 손종민 (01097660039) SPM 사용 예정입니다.	(주)아이제스트	연구개발팀	길연호	120,000원
6693	2024-06-26 16시	17시	4-1-1 Pre Cleaning	삼성전자	DS	김태훈	0원
6694	2024-06-26 16시	18시	4-6-1 BOE	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	256,000원
6695	2024-06-26 18시	19시	4-6-2 SC1	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	136,000원
6696	2024-06-27 13시	17시	TMAH 25% poly-si etching 3min + 5min	삼성전자	DS	김태훈	0원
6697	2024-06-27 13시	14시	1-2-2 Pre Cleaning DHF	포항공과대학교	반도체기술융합센터	김준	96,000원
6698	2024-06-27 14시	15시	ICT 제품화 지원사업 담당 연구원 : 도정현 (010-6370-5281) 8inch test wafer 1ea dHF	(주)아이제스트	연구개발팀	길연호	80,000원
6699	2024-07-01 15시	17시	.	주식회사 아르케	SIC 생산본부	노병훈	108,000원
6700	2024-07-01 17시	18시	직접 사용 라이센스 취득	포항공과대학교 대학원	기계공학과	김태일	246,000원
6701	2024-07-02 10시	11시	0-1-2 DHF	삼성전자	Power device팀	박종원	120,000원
6702	2024-07-02 10시	11시	0-1-1 SPM	삼성전자	Power device팀	박종원	340,000원
6703	2024-07-02 11시	12시	0-1-2 SC1	삼성전자	Power device팀	박종원	340,000원
6704	2024-07-02 13시	14시	ICT 제품화 지원사업 담당 연구원 : 도정현 (010-6370-5281) 8inch test wafer 5ea pr strip용 SPM	(주)아이제스트	연구개발팀	길연호	120,000원
6705	2024-07-02 15시	16시	장비 직접 사용 라이센스 취득 (제가 보유한 웨이퍼로 진행)	포항공과대학교 대학원	기계공학과	김태일	246,000원
6706	2024-07-02 15시	16시	1-3-1 Ni Wet Etch SPM	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6707	2024-07-02 9시	10시	0-1-1 SPM	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6708	2024-07-03 13시	16시	01-2 Pre Cleaning SPM	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6709	2024-07-03 13시	16시	01-2 Pre Cleaning SPM	삼성전자	Power device팀	박종원	520,000원
6710	2024-07-03 13시	16시	01-4 Pre Cleaning TMAH	삼성전자	Power device팀	박종원	320,000원
6711	2024-07-03 13시	16시	01-3 Pre Cleaning DHF	삼성전자	Power device팀	박종원	120,000원
6712	2024-07-03 13시	16시	01-3 Pre Cleaning DHF	삼성전자	Power device팀	박종원	120,000원
6713	2024-07-03 13시	14시	1st BOE	삼성전자	Power device팀	박종원	320,000원
6714	2024-07-03 15시	16시	2nd BOE	삼성전자	Power device팀	박종원	320,000원
6715	2024-07-03 8시	10시	보론 주입된 인공다이아몬드 시편으로 카본테이프를 부착해서 표면이 오염된 상태입니다. 2개의 인공다이아몬드 시편 SPM 클리닝 진행하고 싶습니다.	전북대학교	전자정보공학부	김인화	170,000원
6716	2024-07-04 10시	11시	SnOC film on polished side HF 10:1 Bare 1ea -> 30 sec etch SnOC 1ea -> 30 sec etch SnOC 1ea -> 60 sec etch Etch 후 오염 측정을 목적으로 합니다. 샘플 핸들링에 주의를 부탁드립니다. 담당자: 디엔에프 서민규(010-4313-3588)	(주)디엔에프	반도체재료연구센터	박건주	640,000원
6717	2024-07-04 8시	9시	1-1-1 DHF	삼성전자	Power device팀	박종원	120,000원
6718	2024-07-04 9시	10시	1-1-3 SC1	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6719	2024-07-05 1시	2시	인공 다이아몬드 시편에 2000Å 증착된 SIO2를 제거하고 싶습니다.	전북대학교	전자정보공학부	김인화	120,000원
6720	2024-07-05 10시	11시	0-1-2 oxide remove fab-in pre cleaning spm	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6721	2024-07-05 11시	12시	0-1-3 oxide remove fab-in pre cleaning dhf	삼성전자	Power device팀	박종원	120,000원
6722	2024-07-05 12시	13시	0-1-4 oxide remove fab-in pre cleaning tmah 2.38%	삼성전자	Power device팀	박종원	320,000원
6723	2024-07-05 9시	10시	0-1-1 oxide remove fab-in oxide remove boe 20min	삼성전자	Power device팀	박종원	320,000원
6724	2024-07-07 16시	17시	device layer에 etch hole이 있는 SOI 웨이퍼입니다. box layer를 etching하기 위해 HF를 사용합니다.	포항공과대학교 대학원	기계공학과	노재관	66,400원
6725	2024-07-08 10시	11시	SPM 및 DHF 사용 / ICT 제품화 지원사업으로 정산 부탁드립니다.	(주)아이제스트	연구개발팀	길연호	200,000원
6726	2024-07-08 16시	17시	0-1-5 Pre cleaning DHF	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	108,000원
6727	2024-07-08 17시	18시	<조건> - 3cm * 3cm piece (Coupon wafer) 4ea - PR 성분 + Organic residue - Silicon substrate - Step 1 : SPM Cleaning [10min] → 모든 시편에 동일하게 적용 -. 고객사로 웨이퍼 반환이 필요하여, 공정 완료 후 샘플 발송 해주시면 감사하겠습니다. -. 담당자: 이준혁 님(010-7278-0440)	피에스케이(주)	공정개발 (DSA G)	박하은	170,000원
6728	2024-07-08 19시	20시	ICT 제품화 지원사업 담당 연구원 : 도정현 (010-6370-5281) 8inch test wafer 3ea, dHF	(주)아이제스트	연구개발팀	길연호	80,000원
6729	2024-07-08 20시	21시	<조건> - 3cm * 3cm piece (Coupon wafer) 4ea - PR 성분 + Organic residue - Silicon substrate Step 2 : SC-1 Cleaning [10min] → 모든 시편에 동일하게 적용 -. 고객사로 웨이퍼 반환이 필요하여, 공정 완료 후 샘플 발송 해주시면 감사하겠습니다. -. 담당자: 이준혁 님(010-7278-0440)	피에스케이(주)	공정개발 (DSA G)	박하은	170,000원
6730	2024-07-09 10시	11시	0-1-2 DHF	삼성전자	Power device팀	박종원	120,000원
6731	2024-07-09 11시	12시	조각시편 직접사용	포항공과대학교	공정기술팀	박광진	66,400원
6732	2024-07-09 14시	15시	1-3-1 Salicide Etch SPM	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6733	2024-07-09 19시	20시	0-1-1 Pre Cleaning SPM	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6734	2024-07-09 20시	21시	7-2-6 PR Strip SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6735	2024-07-09 9시	10시	0-1-1 SPM	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6736	2024-07-10 13시	14시	1st boe	삼성전자	Power device팀	박종원	320,000원
6737	2024-07-10 14시	15시	2nd boe	삼성전자	Power device팀	박종원	320,000원
6738	2024-07-10 15시	16시	3rd boe	삼성전자	Power device팀	박종원	320,000원
6739	2024-07-10 19시	20시	0-1-2 Pre Cleaning DHF	삼성전자	Power device팀	박종원	120,000원
6740	2024-07-10 20시	21시	1-1-1 Oxide Wet Etch BOE	삼성전자	Power device팀	박종원	320,000원
6741	2024-07-10 9시	10시	ICT 제품화 지원사업 (SPM SC-1 DHF 100:1)	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	80,000원
6742	2024-07-10 9시	10시	ICT 제품화 지원사업 (SPM SC-1 DHF 100:1)	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	240,000원
6743	2024-07-11 15시	16시	DHF	삼성전자	Power device팀	박종원	120,000원
6744	2024-07-12 14시	15시	BOE(10:1)	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	256,000원
6745	2024-07-12 14시	15시	BOE 10 : 1	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	256,000원
6746	2024-07-15 10시	11시	BOE 10min	트리노테크놀로지	경영지원팀	트리노테크놀로지	0원
6747	2024-07-15 13시	14시	DHF 사용 TIPS 과제로 정산 부탁드립니다.	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	최재용	66,400원
6748	2024-07-15 14시	15시	장비 라이센스 교육 3회차	포항공과대학교 대학원	기계공학과	김태일	120,000원
6749	2024-07-15 15시	16시	0-1-4 SPM	삼성전자	Power device팀	박종원	210,000원
6750	2024-07-15 18시	19시	장비 라이센스 교육 1회차	포항공과대학교 대학원	IT융합공학과	김기영	66,400원
6751	2024-07-15 9시	10시	0-0-3 SPM ICT 제품화 지원사업	(주)엔디디	연구소	최영환	170,000원
6752	2024-07-16 1시	2시	장비 라이센스 교육 1회차	포항공과대학교 대학원	기계공학과	김준형	80,000원
6753	2024-07-17 12시	13시	담당 연구원 : 도정현 (010-6370-5281) 8inch Si wafer 1ea, dHf	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	66,400원
6754	2024-07-17 16시	17시	2-1-2 Pre Cleaning SPM	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6755	2024-07-17 7시	8시	.	포항공과대학교 대학원	기계공학과	김우현	66,400원
6756	2024-07-17 8시	10시	장비 라이센스 교육 1회차	주식회사 아르케	SIC 생산본부	노병훈	108,000원
6757	2024-07-18 13시	14시	0-1-1 Pre Cleaning SPM	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6758	2024-07-18 14시	15시	0-1-2 Pre Cleaning DHF	삼성전자	Power device팀	박종원	120,000원
6759	2024-07-18 15시	16시	0-1-2 Pre Cleaning TMAH	삼성전자	Power device팀	박종원	320,000원
6760	2024-07-19 19시	20시	7-3-4 Ox Wet Strip	삼성전자	DS	김태훈	0원
6761	2024-07-19 9시	11시	7-3-1 DHF /TMAH	삼성전자	DS	김태훈	0원
6762	2024-07-19 9시	10시	0-1-1 DHF(100:1) 1min	포항공과대학교 대학원	반도체대학원	박휘승	96,000원
6763	2024-07-22 10시	11시	8-1-2 DHF	삼성전자	DS	김태훈	0원
6764	2024-07-22 10시	11시	SPM 10min	LG전자	차세대디스플레이연구소	장성규	170,000원
6765	2024-07-22 11시	12시	SC1 10min	LG전자	차세대디스플레이연구소	장성규	170,000원
6766	2024-07-22 11시	12시	8-1-3 TMAH	삼성전자	DS	김태훈	0원
6767	2024-07-22 9시	10시	8-1-1 SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6768	2024-07-23 13시	14시	0-1-2 Pre Cleaning SPM	코닝정밀소재주식회사	S&C	송창원	170,000원
6769	2024-07-23 15시	16시	3-1-3 PR Strip SPM	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6770	2024-07-23 16시	17시	0-1-1 PR Strip SPM	AP시스템(주)	디스플레이 장비사업본부	최동혁	170,000원
6771	2024-07-23 17시	18시	0-1-2 Pre Cleaning SC1	AP시스템(주)	디스플레이 장비사업본부	최동혁	170,000원
6772	2024-07-23 18시	19시	0-1-3 Pre Cleaning BOE	AP시스템(주)	디스플레이 장비사업본부	최동혁	320,000원
6773	2024-07-23 19시	20시	1-1-1 Pre Cleaning DHF	삼성전자	DS	김태훈	120,000원
6774	2024-07-23 20시	21시	1-1-3 Nitric Acid Treatment SC1	삼성전자	DS	김태훈	170,000원
6775	2024-07-24 15시	16시	1-3-2 PR Strip SPM	코닝정밀소재주식회사	S&C	송창원	170,000원
6776	2024-07-25 18시	19시	SiO2 식각 직접 장비 이용 교육 #2	포항공과대학교 대학원	IT융합공학과	김기영	216,400원
6777	2024-07-26 14시	16시	2-1-1 Oxide Wet Etch BOE	삼성전자	Power device팀	박종원	320,000원
6778	2024-07-28 19시	20시	Metal이라 다 쓰고 옆에 폐액통에 놓겠습니다	포항공과대학교 대학원	기계공학과	김우현	66,400원
6779	2024-07-29 13시	14시	0-1-1 Pre Cleaning DHF	포항공과대학교 대학원	반도체대학원	박휘승	96,000원
6780	2024-07-29 14시	15시	DHF	포항공과대학교	반도체기술융합센터	김준	96,000원
6781	2024-07-29 16시	17시	0-2-1 Pre Cleaning SPM	한국과학기술원	기계공학과	김태영	170,000원
6782	2024-07-29 17시	18시	0-1-1 Pre Cleaning SPM	삼성전자	Power device팀	박종원	290,000원
6783	2024-07-29 18시	19시	0-1-2 Pre Cleaning SC-1	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6784	2024-07-29 7시	8시	SPM, DHF 사용 담당 연구원 : 최재용/010-2123-3062/jychoieee@postech.ac.kr	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	160,000원
6785	2024-07-30 13시	14시	1-2-1 Oxide Etch BOE	포항공과대학교 대학원	반도체대학원	박휘승	256,000원
6786	2024-07-30 14시	15시	0-1-3 Pre Cleaning DHF	삼성전자	Power device팀	박종원	120,000원
6787	2024-07-30 15시	16시	0-2-2 Pre Cleaning DHF	한국과학기술원	기계공학과	김태영	120,000원
6788	2024-07-31 13시	16시	SPM을 통한 Pre Cleaning 진행 후, Backside의 Oxide 6150A를 DHF를 통해 제거하고싶습니다. (DHF 148분) DI water 말릴 때는 장비 사용 말고 에어건으로 요청드립니다.	전북대학교	전자정보공학부	박선영	120,000원
6789	2024-07-31 13시	16시	SPM을 통한 Pre Cleaning 진행 후, Backside의 Oxide 6150A를 DHF를 통해 제거하고싶습니다. (DHF 148분) DI water 말릴 때는 장비 사용 말고 에어건으로 요청드립니다.	전북대학교	전자정보공학부	박선영	170,000원
6790	2024-07-31 16시	17시	3-1-3 PR Strip SPM	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6791	2024-07-31 17시	18시	0-1-1 Pre Cleaning SPM	삼성전자	Power device팀	박종원	970,000원
6792	2024-07-31 18시	19시	0-1-2 Pre Cleaning SC-1	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6793	2024-07-31 19시	20시	0-1-3 Pre Cleaning DHF	삼성전자	Power device팀	박종원	120,000원
6794	2024-07-31 20시	21시	DHF	삼성전자	Power device팀	박종원	120,000원
6795	2024-07-31 21시	22시	2-1-1 Pre Cleaning SC-1	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6796	2024-08-01 12시	13시	1-0-2 Pre Cleaning DHF	포항공과대학교 대학원	반도체대학원	박휘승	96,000원
6797	2024-08-02 14시	16시	1-3-1 DHF	포항공과대학교 대학원	반도체대학원	박휘승	192,000원
6798	2024-08-02 19시	20시	3-1-3 SPM	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6799	2024-08-03 17시	18시	SOI웨이퍼의 device layer를 식각하기 위해 신청합니다	포항공과대학교 대학원	기계공학과	노재관	60,000원
6800	2024-08-03 17시	18시	8-2-1 act. area field oxid pre cleaning sc1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6801	2024-08-03 17시	18시	4-3-5 p+block npuls mask photo remove pr strip spm	삼성전자	DS	김태훈	0원
6802	2024-08-05 14시	15시	11-2-3 PR Strip SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6803	2024-08-05 20시	21시	11-5-1 SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6804	2024-08-05 21시	22시	5-3-4 SPM	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	136,000원
6805	2024-08-06 11시	12시	8-4-4 PR Strip SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6806	2024-08-06 13시	14시	9-1-1 Pre Cleaning DHF	삼성전자	DS	김태훈	0원
6807	2024-08-06 14시	15시	9-1-2 Pre Cleaning TMAH	삼성전자	DS	김태훈	0원
6808	2024-08-06 15시	16시	9-1-3 Nitric Acid Treatment SC-1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6809	2024-08-06 9시	10시	8-4-2 Oxide Wet etch BOE	삼성전자	DS	김태훈	0원
6810	2024-08-07 12시	13시	7-1-1 Oxide Remove BOE	삼성전자	Power device팀	박종원	320,000원
6811	2024-08-07 13시	14시	0-1-2 Pre Cleaning DHF	포항공과대학교	반도체공학과	이지원	540,000원
6812	2024-08-07 14시	15시	BOE 5min	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	256,000원
6813	2024-08-07 15시	16시	1-3-2 PR Strip SPM	코닝정밀소재주식회사	S&C	송창원	170,000원
6814	2024-08-07 16시	17시	9-2-1 DHF(800:1) 1min	삼성전자	DS	김태훈	0원
6815	2024-08-07 17시	18시	9-2-2 TMAH	삼성전자	DS	김태훈	0원
6816	2024-08-07 9시	10시	0-1-2 Pre Cleaning SPM	코닝정밀소재주식회사	S&C	송창원	170,000원
6817	2024-08-08 13시	14시	라이센스 획득을 위한 교육	포항공과대학교 대학원	기계공학과	김태일	136,000원
6818	2024-08-08 14시	15시	2-2-1 Pre Cleaning DHF	포항공과대학교 대학원	반도체대학원	박휘승	96,000원
6819	2024-08-08 15시	16시	0-1-5 Pre Cleaning DHF	삼성종합기술원	V-T/F	양성석	108,000원
6820	2024-08-08 16시	17시	9-3-1 Pre Cleaning SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6821	2024-08-08 17시	18시	9-3-1 Pre Cleaning SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6822	2024-08-09 14시	15시	SPM, DHF 사용 담당연구원 : 최재용/010-2123-3062/jychoieee@postech.ac.kr	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	150,000원
6823	2024-08-09 16시	17시	5-6-1 BOE	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	256,000원
6824	2024-08-09 16시	17시	DHF 2min	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	강보현	96,000원
6825	2024-08-12 15시	16시	0-0-2 DHF 5min	나노융합기술원	대외협력팀	양웅석	96,000원
6826	2024-08-12 18시	19시	SiO2 식각 직접 장비 이용 교육 #3	포항공과대학교 대학원	IT융합공학과	김기영	86,000원
6827	2024-08-12 9시	10시	DHF 공정 진행	(주)유우일렉트로닉스	(주)유우일렉트로닉스	박일몽	120,000원
6828	2024-08-13 17시	18시	0-1-3 DHF 1min	삼성전자	Power device팀	박종원	120,000원
6829	2024-08-13 17시	18시	0-1-2 SPM	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6830	2024-08-13 20시	21시	HF 용액 이용 예정입니다.	포항공과대학교	기계공학과	이상엽	60,000원
6831	2024-08-13 8시	9시	5-6-2 Pre Cleaning SC-1	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	136,000원
6832	2024-08-13 9시	10시	6-1-1 Pre Cleaning DHF	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	96,000원
6833	2024-08-14 13시	14시	1-3-3 Pre Cleaning SPM	한국과학기술원	기계공학과	김태영	170,000원
6834	2024-08-14 14시	15시	6-4-3 PR Strip SPM	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	136,000원
6835	2024-08-14 15시	16시	6-5-1 Pre Cleaning DHF	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	96,000원
6836	2024-08-14 16시	17시	9-3-5 Wet etch oxide BOE	삼성전자	DS	김태훈	0원
6837	2024-08-14 16시	17시	9-5-4 PR Strip SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6838	2024-08-14 16시	17시	9-3-5 Wet etch oxide BOE	삼성전자	DS	김태훈	0원
6839	2024-08-14 17시	18시	9-3-7 PR Strip SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6840	2024-08-14 17시	18시	9-3-7 PR Strip SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6841	2024-08-16 10시	11시	7-1-1 SPM 10min	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	136,000원
6842	2024-08-16 11시	12시	7-1-2 100:1 DHF 1min	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	96,000원
6843	2024-08-16 9시	10시	6-5-3 (BOE1:10)	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	256,000원
6844	2024-08-19 10시	11시	0-2-2 pre-cleaning fab-in dhf	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	96,000원
6845	2024-08-19 14시	15시	9-5-4 SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6846	2024-08-19 14시	15시	2-2-1 DHF(100:1) 1min WF04	포항공과대학교 대학원	반도체대학원	박휘승	96,000원
6847	2024-08-19 14시	15시	7-3-1 BOE(10:1) 8600A	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	256,000원
6848	2024-08-19 15시	16시	9-5-5 DHF(100:1)	삼성전자	DS	김태훈	0원
6849	2024-08-19 19시	20시	9-5-4 SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6850	2024-08-19 19시	20시	7-3-3 SPM 10min	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	136,000원
6851	2024-08-19 20시	21시	9-5-5 DHF	삼성전자	DS	김태훈	0원
6852	2024-08-19 9시	10시	0-2-1 pre-cleaning fab-in spm	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	136,000원
6853	2024-08-20 11시	12시	8-1-1 Pre Cleaning DHF	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	96,000원
6854	2024-08-20 11시	12시	8-1-2 Nitric Acid Treatment SC-1	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	136,000원
6855	2024-08-20 11시	12시	0-1-1 bare fab-in pre cleaning spm	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6856	2024-08-20 11시	12시	0-1-2 bare fab-in pre cleaning dhf	삼성전자	Power device팀	박종원	120,000원
6857	2024-08-20 11시	12시	0-1-1 Pre Cleaning SPM	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6858	2024-08-20 11시	12시	0-1-2 Pre Cleaning SC-1	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6859	2024-08-20 12시	13시	0-1-3 Pre Cleaning DHF	삼성전자	Power device팀	박종원	120,000원
6860	2024-08-20 14시	15시	2-2-3 PR Strip SPM	연세대학교	화공생명공학과	이승효	170,000원
6861	2024-08-20 15시	16시	담당 연구원 : 도정현 (010-6370-5281) 8inch Si test wafer PR strip SPM 사용	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	86,000원
6862	2024-08-21 13시	14시	11-2-3 PR Strip SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6863	2024-08-21 13시	14시	11-2-3 PR Strip SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6864	2024-08-21 14시	15시	11-2-3 PR Strip SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6865	2024-08-21 15시	16시	담당 연구원 : 도정현 (010-6370-5281) 8inch test wafer oxidation 제거 dHf	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	60,000원
6866	2024-08-21 16시	17시	2-1-2 SPM - WF02	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6867	2024-08-21 20시	21시	11-4-3 SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6868	2024-08-21 9시	10시	ICT 제품화 지원사업	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	170,000원
6869	2024-08-22 10시	11시	1-3-5 SPM	포항공과대학교 대학원	반도체대학원	박휘승	136,000원
6870	2024-08-22 11시	12시	0-1-1 SPM	그래핀스퀘어주식회사	기획관리팀	권회창	170,000원
6871	2024-08-22 14시	16시	-	주식회사 아르케	SIC 생산본부	노병훈	103,000원
6872	2024-08-23 10시	11시	11-5-1 cont salicide etch tin etch spm	삼성전자	DS	김태훈	0원
6873	2024-08-23 11시	12시	3-1-3 PR Strip SPM	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6874	2024-08-23 13시	14시	SPM, DHF 사용 담당연구원 : 최재용/010-2123-3062/jychoieee@postech.ac.kr	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	86,000원
6875	2024-08-26 13시	14시	ICT 제품화 지원사업 silicon 1매 sic 1매	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	320,000원
6876	2024-08-26 15시	16시	담당 연구원 : 도정현 (010-6370-5281) 8inch test wafer pr strip SPM	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	86,000원
6877	2024-08-26 16시	17시	ICT 제품화 지원사업	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	320,000원
6878	2024-08-27 10시	11시	1-0-0 Pre Cleaning DHF	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	96,000원
6879	2024-08-27 10시	11시	ICT 제품화 지원사업	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	120,000원
6880	2024-08-27 14시	15시	담당 연구원 : 도정현 (010 6370 5281) 8inch test wafer 1ea deoxidation dHf	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	60,000원
6881	2024-08-27 9시	10시	ICT 제품화 지원사업 spm + apm	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	340,000원
6882	2024-08-27 9시	10시	1-0-0 Pre Cleaning SPM	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	136,000원
6883	2024-08-28 8시	9시	SPM 15min	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	136,000원
6884	2024-08-28 9시	10시	DHF 1min	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	96,000원
6885	2024-08-29 13시	15시	2-1-1 DHF(100:1) 1min	포항공과대학교	반도체공학과	이지원	60,000원
6886	2024-08-29 15시	16시	담당 연구원 : 도정현 (010 6370 5281) 8inch test wafer 2ea pr strip SPM	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	86,000원
6887	2024-08-30 14시	16시	TMAH 25% poly-si etching	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	256,000원
6888	2024-08-30 15시	17시	4-4-1 Oxide Remove BOE	삼성전자	DS	김태훈	0원
6889	2024-09-02 10시	11시	SPM 2회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	272,000원
6890	2024-09-02 10시	11시	SC1 2회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	272,000원
6891	2024-09-02 11시	13시	2-2-3 SPM	포항공과대학교	반도체공학과	이지원	85,000원
6892	2024-09-02 14시	15시	DHF 사용 담당연구원 : 최재용/010-2123-3062/jychoieee@postech.ac.kr	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	60,000원
6893	2024-09-02 15시	16시	담당 연구원 : 도정현 (010-6370-5281) 8inch test wafer 1ea dHF	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	60,000원
6894	2024-09-02 16시	17시	담당 연구원 : 도정현 (010-6370-5281) 8inch SOI 3ea pr strip SPM	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	86,000원
6895	2024-09-02 18시	19시	1-4-2 PR Strip SPM	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	136,000원
6896	2024-09-02 7시	8시	BOE(10:1) 2회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	512,000원
6897	2024-09-02 8시	10시	5-1-1 SC1	삼성전자	DS	김태훈	0원
6898	2024-09-03 10시	11시	SPM 2회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	272,000원
6899	2024-09-03 11시	12시	SC1 2회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	272,000원
6900	2024-09-03 11시	12시	BOE(10:1) 2회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	512,000원
6901	2024-09-03 16시	17시	2-3-2 TEOS Wet Etch BOE	포항공과대학교	반도체공학과	이지원	160,000원
6902	2024-09-03 17시	18시	2-3-3 SiN Wet Etch H3PO4	포항공과대학교	반도체공학과	이지원	160,000원
6903	2024-09-03 19시	20시	3-1-1 Pre Cleaning DHF	포항공과대학교	반도체공학과	이지원	60,000원
6904	2024-09-04 10시	11시	SPM 2회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	272,000원
6905	2024-09-04 11시	12시	SC1 2회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	272,000원
6906	2024-09-04 13시	14시	8-4-2 Oxide Wet Etch BOE	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	256,000원
6907	2024-09-04 15시	16시	8-4-4 PR Strip SPM	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	136,000원
6908	2024-09-04 9시	10시	BOE(10:1) 2회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	512,000원
6909	2024-09-05 10시	11시	SC1 2회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	272,000원
6910	2024-09-05 11시	12시	BOE(10:1) 2회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	512,000원
6911	2024-09-05 11시	12시	SPM 사용 담당연구원 : 최재용/010-2123-3062/jychoieee@postech.ac.kr	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	86,000원
6912	2024-09-05 12시	13시	DHF 사용 담당연구원 : 최재용/010-2123-3062/jychoieee@postech.ac.kr	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	60,000원
6913	2024-09-05 14시	15시	6-2-3 PR Strip SPM	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	0원
6914	2024-09-05 15시	16시	6-2-3 Pre Cleaning DHF	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	0원
6915	2024-09-05 9시	10시	SPM 2회	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	272,000원
6916	2024-09-06 10시	11시	9-2-1 salicide pre cleaning dhf 1min	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	0원
6917	2024-09-06 13시	14시	9-3-1 Salicide Etch SPM	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	0원
6918	2024-09-06 16시	17시	0-0-1 Pre Cleaning BOE	포항공과대학교 대학원	반도체대학원	박휘승	256,000원
6919	2024-09-06 17시	18시	0-0-2 Pre Cleaning SC-1	포항공과대학교 대학원	반도체대학원	박휘승	136,000원
6920	2024-09-06 18시	19시	0-0-2 Pre Cleaning DHF	포항공과대학교 대학원	반도체대학원	박휘승	96,000원
6921	2024-09-06 19시	20시	0-0-2 Pre Cleaning SPM	포항공과대학교 대학원	반도체대학원	박휘승	136,000원
6922	2024-09-06 20시	21시	3-4-2 PR Strip SPM	포항공과대학교	반도체공학과	이지원	85,000원
6923	2024-09-09 10시	11시	0-1-1 activate cleaning dhf	삼성전자	Power device팀	박종원	120,000원
6924	2024-09-09 10시	11시	0-0-3 0 fab-in prd cleaning dhf	포항공과대학교 대학원	반도체대학원	박휘승	96,000원
6925	2024-09-09 10시	12시	0-1-2 activate cleaning tmah 2.38%	삼성전자	Power device팀	박종원	320,000원
6926	2024-09-09 11시	12시	5-4-1 P+ IMP pplus mask remv. pr strip spm	삼성전자	DS	김태훈	0원
6927	2024-09-09 13시	14시	조각	포항공과대학교 대학원	기계공학과	윤정환	0원
6928	2024-09-09 14시	15시	8-6-5 DHF(100:1) 1min	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	96,000원
6929	2024-09-09 14시	15시	8-6-5 SPM	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	136,000원
6930	2024-09-09 15시	16시	4-2-0 Oxide Wet Etch BOE	포항공과대학교 대학원	반도체대학원	박휘승	256,000원
6931	2024-09-09 16시	17시	4-2-0 Oxide Wet Etch BOE	포항공과대학교 대학원	반도체대학원	박휘승	256,000원
6932	2024-09-09 7시	8시	0-1-3 DHF 100:1 1min / 2회	삼성전자	Power device팀	박종원	240,000원
6933	2024-09-09 8시	9시	0-1-2 SC-1 10min / 2회	삼성전자	Power device팀	박종원	340,000원
6934	2024-09-09 9시	10시	0-1-1 SPM 10min / 2회	삼성전자	Power device팀	박종원	1,110,000원
6935	2024-09-10 10시	11시	2-1-2 PR Strip SPM	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6936	2024-09-10 15시	16시	2-2-2 PR Strip SPM	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6937	2024-09-10 9시	10시	2-2-1 backside mc m depositon oxide etching boe	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	256,000원
6938	2024-09-10 9시	10시	9-1-1 ild depo. pre cleaning dhf	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	96,000원
6939	2024-09-11 13시	14시	0-2-1 SPM 15min	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	136,000원
6940	2024-09-11 14시	15시	0-2-2 DHF 1min	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	96,000원
6941	2024-09-11 15시	16시	0-2-3 TMAH	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	256,000원
6942	2024-09-11 16시	17시	1-2-2 SPM	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6943	2024-09-11 17시	18시	2-1-1 DHF	삼성전자	Power device팀	박종원	120,000원
6944	2024-09-11 18시	19시	3-1-3 PR Strip SPM	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6945	2024-09-12 11시	12시	5-1-1 gox cleaning pre cleaning dhf 100:1 10min	포항공과대학교	반도체공학과	이지원	60,000원
6946	2024-09-12 13시	14시	SPM 진행하고 싶습니다. 진행 후 시편은 확산공정팀에 전달해주시면 감사하겠습니다.	전북대학교	전자정보공학부	김인화	170,000원
6947	2024-09-12 14시	15시	1-3-2 SPM PR Strip	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	136,000원
6948	2024-09-12 15시	16시	3-1-3 SPM WF02	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6949	2024-09-12 18시	19시	1-1-1 Pre Cleaning DHF	삼성전자	Power device팀	박종원	360,000원
6950	2024-09-12 19시	20시	1-1-2 Pre Cleaning TMAH	삼성전자	Power device팀	박종원	640,000원
6951	2024-09-13 10시	11시	2-0-1 Cleaning TMAH	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	256,000원
6952	2024-09-13 11시	12시	2-0-2 Cleaning DHF	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	96,000원
6953	2024-09-13 8시	9시	2-1-3 Oxide Wet Etch BOE	삼성전자	Power device팀	박종원	320,000원
6954	2024-09-13 8시	9시	1-4-2 Cleaning DHF	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	96,000원
6955	2024-09-13 9시	10시	1-4-3 Cleaning SPM	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	136,000원
6956	2024-09-19 10시	11시	2-2-0	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	256,000원
6957	2024-09-19 14시	15시	2-0-2 DHF(100:1) 1min	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	96,000원
6958	2024-09-19 15시	17시	5-4-2 BOE	포항공과대학교	반도체공학과	이지원	160,000원
6959	2024-09-19 18시	19시	SPM	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	136,000원
6960	2024-09-19 19시	20시	DHF	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	96,000원
6961	2024-09-20 13시	14시	6-2-3 PR Strip SPM	포항공과대학교	반도체공학과	이지원	0원
6962	2024-09-20 14시	15시	6-2-3 Pre Cleaning DHF	포항공과대학교	반도체공학과	이지원	0원
6963	2024-09-20 15시	16시	1-1-3 Nitric Acid Treatment SC-1	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6964	2024-09-20 16시	17시	담당 연구원 : 도정현 (010-6370-5281) 8inch SOI 1ea dHF deoxidation	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	96,000원
6965	2024-09-20 17시	18시	6-2-3 PR Strip SPM	포항공과대학교	반도체공학과	이지원	85,000원
6966	2024-09-20 18시	19시	6-2-3 Pre Cleaning DHF	포항공과대학교	반도체공학과	이지원	60,000원
6967	2024-09-20 8시	9시	3-1-3 PR Strip SPM (9매)	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
6968	2024-09-20 9시	10시	5-4-4 PR Strip SPM	포항공과대학교	반도체공학과	이지원	85,000원
6969	2024-09-23 11시	13시	6-1-1 Pre Cleaning SC-1 (APM)	삼성전자	DS	김태훈	0원
6970	2024-09-23 14시	15시	0-2-1 Pre Cleaning SPM	포항공과대학교	선행기술팀	한성웅	136,000원
6971	2024-09-23 15시	16시	0-2-2 Pre Cleaning DHF 100:1	포항공과대학교	선행기술팀	한성웅	96,000원
6972	2024-09-23 15시	16시	0-2-3 Pre Cleaning TMAH	포항공과대학교	선행기술팀	한성웅	256,000원
6973	2024-09-23 8시	10시	5-5-2 Oxide Remove BOE	삼성전자	DS	김태훈	0원
6974	2024-09-24 14시	15시	10-2-2 Wet Etch Oxide BOE (1:10)	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	256,000원
6975	2024-09-24 14시	15시	2-1-5 Oxide Remove BOE (10:1)	한국과학기술원	기계공학과	김태영	320,000원
6976	2024-09-24 15시	17시	.	주식회사 아르케	SIC 생산본부	노병훈	120,700원
6977	2024-09-24 17시	18시	10-2-4 SPM PR Strip (SPM)	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	136,000원
6978	2024-09-24 17시	18시	1-3-2 Carbon Strip SPM	포항공과대학교 대학원	반도체대학원	박휘승	136,000원
6979	2024-09-24 18시	19시	1-3-3 Pre Cleaning DHF	포항공과대학교 대학원	반도체대학원	박휘승	96,000원
6980	2024-09-24 19시	20시	1-3-3 Pre Cleaning TMAH	포항공과대학교 대학원	반도체대학원	박휘승	256,000원
6981	2024-09-24 9시	10시	7-1-1 Cleaning DHF 100:1	포항공과대학교	반도체공학과	이지원	60,000원
6982	2024-09-24 9시	10시	2-1-4 PR Cleaning SPM	한국과학기술원	기계공학과	김태영	170,000원
6983	2024-09-25 14시	15시	6-3-8 PR Strip SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
6984	2024-09-25 14시	15시	10-5-1 TiN Etch SPM	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	136,000원
6985	2024-09-25 8시	9시	1-4-2 Oxide Wet Strip BOE (10:1)	포항공과대학교 대학원	반도체대학원	박휘승	256,000원
6986	2024-09-25 9시	10시	1-1-1 Oxide Wet Strip BOE 1:10	현대모비스	전력반도체팀	강민기	320,000원
6987	2024-09-26 10시	11시	1-2-3 Wet Etch Oxide BOE 1:10	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	256,000원
6988	2024-09-26 11시	12시	1-2-4 PR Strip SPM	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	136,000원
6989	2024-09-26 11시	12시	2-1-3 Pre Cleaning DHF 1:100	현대모비스	전력반도체팀	강민기	120,000원
6990	2024-09-26 13시	14시	11-2-2 Wet Etch Oxide BOE 1:10	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	256,000원
6991	2024-09-26 14시	15시	담당 연구원 : 도정현 (010-6370-5281) 8inch SOI 1ea dHF	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	60,000원
6992	2024-09-26 15시	16시	0-0-2 Pre Cleaning DHF 1:100	나노융합기술원	대외협력팀	양웅석	96,000원
6993	2024-09-26 19시	20시	p+GaN 20nm p-GaN 300nm n-GaN3.2um 사파이어 기판 4개와 GaN 기판 1개(테두리 부분 시편), Si bare 1개(*두께 확인및 Mg 특성 확인용) 총 6개의 1cm x 1cm 시편 마그네슘 증착 직전 BOE 1:10으로 60초 산처리 후, 1분 DIW rinsing, 시편 붙여서 Mg 50nm 증착 의뢰드립니다.	홍익대학교 산학협력단	전자전기공학과	김민정	320,000원
6994	2024-09-26 9시	11시	2-1-1 Pre Cleaning SC1	현대모비스	전력반도체팀	강민기	210,000원
6995	2024-09-26 9시	10시	1-1-3 Oxide Wet Strip BOE 1:10	현대모비스	전력반도체팀	강민기	320,000원
6996	2024-09-26 9시	11시	2-1-2 Pre Cleaning SC2	현대모비스	전력반도체팀	강민기	320,000원
6997	2024-09-27 10시	11시	2-1-2 Oxide Etch DHF 1:100	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	96,000원
6998	2024-09-27 20시	21시	2-3-1 PR Strip SPM	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	136,000원
6999	2024-09-28 11시	12시	SOI 웨이퍼의 box layer를 HF로 식각할 계획입니다.	포항공과대학교 대학원	기계공학과	노재관	60,000원
7000	2024-09-30 10시	10시	0-2-2 Pre Cleaning DHF 1:100	주식회사 아르케	SIC 생산본부	노병훈	120,000원
7001	2024-09-30 10시	10시	0-2-1 Pre Cleaning SPM	주식회사 아르케	SIC 생산본부	노병훈	170,000원
7002	2024-09-30 10시	10시	7-4-2 PR Strip SPM	포항공과대학교	반도체공학과	이지원	85,000원
7003	2024-09-30 15시	16시	담당 연구원 : 도정현 (010-6370-5281) 8inch SOI 1ea SPM 메탈 제거용 (따로 통에 담아서 진행)	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	86,000원
7004	2024-10-02 10시	12시	3-3-2 SPM 15min	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	136,000원
7005	2024-10-02 19시	20시	1-3-2 akey pr remove spm pr strip	포항공과대학교	선행기술팀	한성웅	136,000원
7006	2024-10-04 10시	10시	1-4-1 Cleaning DHF 100:1	포항공과대학교	선행기술팀	한성웅	96,000원
7007	2024-10-04 10시	12시	1-3-2 BOE 900A	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	256,000원
7008	2024-10-04 10시	10시	2-1-1 Cleaning TMAH Mixture	포항공과대학교	선행기술팀	한성웅	256,000원
7009	2024-10-04 10시	10시	2-1-2 Cleaning DHF 100:1	포항공과대학교	선행기술팀	한성웅	96,000원
7010	2024-10-04 10시	10시	1-4-2 Cleaning SPM	포항공과대학교	선행기술팀	한성웅	136,000원
7011	2024-10-04 14시	15시	담당 연구원 : 도정현 (010-6370-5281) 8inch SOI 1ea dHF	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	60,000원
7012	2024-10-04 15시	17시	1-3-4 SPM	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	136,000원
7013	2024-10-04 18시	19시	1-3-1 akey pr remove spm pr strip	주식회사 아르케	SIC 생산본부	노병훈	170,000원
7014	2024-10-05 13시	14시	.	포항공과대학교 대학원	기계공학과	김우현	60,000원
7015	2024-10-07 10시	10시	1-3-4 PR Strip SPM	주식회사 아르케	SIC 생산본부	노병훈	170,000원
7016	2024-10-07 14시	15시	DHF 사용 담당연구원 : 최재용/010-2123-3062	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	60,000원
7017	2024-10-07 17시	18시	담당연구원 : 도정현 (010-6370-5281) 8inch SOI 1ea dHF	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	60,000원
7018	2024-10-07 9시	9시	4-3-2 PR Cleaning SPM	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	136,000원
7019	2024-10-08 14시	14시	1-1-2 Pre Cleaning SC-2	현대모비스	전력반도체팀	강민기	320,000원
7020	2024-10-08 14시	14시	0-2-1 Oxide Wet Strip BOE 1:10	현대모비스	전력반도체팀	강민기	320,000원
7021	2024-10-08 14시	14시	1-1-1 Pre Cleaning SC-1	현대모비스	전력반도체팀	강민기	210,000원
7022	2024-10-08 14시	14시	1-1-3 Pre Cleaning DHF 100:1	현대모비스	전력반도체팀	강민기	120,000원
7023	2024-10-08 15시	16시	담당 연구원 : 도정현 (010-6370-5281) 8inch SOI 1ea dHF	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	60,000원
7024	2024-10-08 9시	9시	8-3-2 PR Strip SPM	포항공과대학교	반도체공학과	이지원	85,000원
7025	2024-10-08 9시	9시	0-1-2 Pre Cleaning DHF 100:1	포항공과대학교	반도체공학과	이지원	540,000원
7026	2024-10-10 11시	12시	5-3-2 SPM 15min	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	136,000원
7027	2024-10-10 13시	13시	1-3-2 Wet Etch Oxide BOE 10:1	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	256,000원
7028	2024-10-10 14시	14시	1-3-4 PR Strip SPM	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	136,000원
7029	2024-10-10 8시	9시	DHF 사용 담당연구원 : 최재용/010-2123-3062/jychoieee@postech.ac.kr	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	60,000원
7030	2024-10-11 10시	10시	BOE 10:1 (150Å / 5% Over Etch)	포항공과대학교	반도체공학과	이지원	160,000원
7031	2024-10-11 10시	10시	1-1-1 Cleaning SPM	현대모비스	전력반도체팀	강민기	170,000원
7032	2024-10-11 12시	13시	담당 연구원 : 도정현 (010-6370-5281) 8inch SOi 1ea dHF	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	60,000원
7033	2024-10-11 9시	9시	0-2-1 Oxide Wet Strip BOE 10:1	현대모비스	전력반도체팀	강민기	360,000원
7034	2024-10-14 10시	10시	6-5-2 Oxide Remove BOE 1:10	삼성전자	DS	김태훈	0원
7035	2024-10-14 10시	10시	7-1-1 Pre Cleaning DHF 100:1	삼성전자	DS	김태훈	0원
7036	2024-10-14 13시	13시	7-1-2 Pre Cleaning TMAH	삼성전자	DS	김태훈	0원
7037	2024-10-14 14시	15시	DHF 사용 담당연구원 : 최재용/010-2123-3062	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	60,000원
7038	2024-10-14 16시	18시	2-2-1 fox active area oxid etching wet etch oxide 100sec 3회 진행	현대모비스	전력반도체팀	강민기	960,000원
7039	2024-10-14 16시	16시	2-3-1 Wet Etch SPM	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	136,000원
7040	2024-10-14 18시	20시	3-2-3 fox active area oxid etching wet etch oxide boe 1540 100% over etch E/R : 13A/sec	현대모비스	전력반도체팀	강민기	320,000원
7041	2024-10-14 19시	20시	-	포항공과대학교 대학원	IT융합공학과	김기영	86,000원
7042	2024-10-15 10시	10시	0-1-1 Pre Cleaning DHF 100:1	(주)모이모션	(주) 모이모션	최정례	200,000원
7043	2024-10-15 10시	10시	2-2 SPM	현대모비스	전력반도체팀	강민기	170,000원
7044	2024-10-15 11시	13시	SPM 담당연구원 : 최재용/010-2123-3062	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	86,000원
7045	2024-10-15 13시	14시	DHF 담당연구원 : 최재용/010-2123-3062	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	60,000원
7046	2024-10-15 14시	16시	.	주식회사 아르케	SIC 생산본부	노병훈	103,000원
7047	2024-10-15 18시	19시	4-1-1 gate poly cleaning sc1 10min	현대모비스	전력반도체팀	강민기	170,000원
7048	2024-10-15 18시	19시	4-1-2 gate poly cleaning sc2 10min	현대모비스	전력반도체팀	강민기	320,000원
7049	2024-10-16 14시	14시	1-4-1 Cleaning SPM	현대모비스	전력반도체팀	강민기	170,000원
7050	2024-10-16 16시	18시	1-1-3 bm backmetal nitric acid treatment dhf	삼성전자	Power device팀	박종원	120,000원
7051	2024-10-16 16시	17시	1-1-1 bm backmetal precleaning tmah2.8% 1min	삼성전자	Power device팀	박종원	320,000원
7052	2024-10-16 16시	17시	1-1-2 bm backmetal precleaning sc1 10min	삼성전자	Power device팀	박종원	170,000원
7053	2024-10-16 18시	20시	6-3-2 nwell_imp nwell mask remv. pr cleaning spm 15min	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	136,000원
7054	2024-10-16 8시	9시	7-2-6 SPM PR Strip	삼성전자	DS	김태훈	0원
7055	2024-10-16 9시	10시	7-3-1 Pre Cleaning, DHF 100:1	삼성전자	DS	김태훈	0원
7056	2024-10-17 10시	12시	BOE(10:1) 10min	삼성전자	DS	김태훈	0원
7057	2024-10-17 13시	13시	7-1-1 Scattering Oxide Remove SPM	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	136,000원
7058	2024-10-17 13시	13시	7-1-2 Scattering Oxide Remove BOE	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	256,000원
7059	2024-10-17 13시	13시	7-3-4 Oxide Wet Strip BOE10:1	삼성전자	DS	김태훈	0원
7060	2024-10-17 13시	13시	8-1-1 Pre Cleaning SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
7061	2024-10-17 14시	14시	8-1-3 Pre Cleaning TMAH 2.38%	삼성전자	DS	김태훈	0원
7062	2024-10-17 14시	14시	8-1-2 Pre Cleaning DHF 100:1	삼성전자	DS	김태훈	0원
7063	2024-10-18 16시	16시	2-4-2 Oxide Remove BOE 10:1	주식회사 아르케	SIC 생산본부	노병훈	320,000원
7064	2024-10-18 16시	16시	2-4-1 PR Cleaning SPM	주식회사 아르케	SIC 생산본부	노병훈	170,000원
7065	2024-10-18 9시	9시	8-1-2 Pre Cleaning DHF 100:1	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	96,000원
7066	2024-10-18 9시	9시	8-1-1 Pre Cleaning TMAH	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	256,000원
7067	2024-10-18 9시	9시	8-2-1 Pre Cleaning SC-1	삼성전자	DS	김태훈	0원
7068	2024-10-18 9시	9시	ICT 1-2-3 PR Remove SPM	(주)모이모션	(주) 모이모션	최정례	170,000원
7069	2024-10-20 9시	10시	SOI 웨이퍼의 box layer 식각 예정입니다.	포항공과대학교 대학원	기계공학과	노재관	60,000원
7070	2024-10-21 10시	11시	DHF 담당연구원 : 최재용/010-2123-3062	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	60,000원
7071	2024-10-21 20시	21시	8-4-2 act. area field oxid etching wet etch oxide boe 975sec	삼성전자	DS	김태훈	0원
7072	2024-10-21 8시	8시	8-4-4 PR Strip SPM	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	136,000원
7073	2024-10-21 8시	8시	8-4-5 Pre Cleaning DHF 100:1	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	96,000원
7074	2024-10-21 8시	8시	8-4-6 Pre Cleaning TMAH	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	256,000원
7075	2024-10-21 8시	8시	8-4-5 Pre Cleaning DHF 100:1	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	96,000원
7076	2024-10-21 9시	10시	SPM 담당연구원 : 최재용/010-2123-3062	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	86,000원
7077	2024-10-22 10시	10시	9-1-1 Pre Cleaning SPM	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	136,000원
7078	2024-10-22 10시	10시	9-1-2 Pre Cleaning DHF 100:1	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	96,000원
7079	2024-10-22 10시	10시	8-4-4 PR Strip SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
7080	2024-10-22 10시	10시	8-5-3 Oxide Wet Strip BOE 10:1	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	256,000원
7081	2024-10-22 11시	11시	9-1-3 Pre Cleaning TMAH	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	256,000원
7082	2024-10-22 14시	16시	- 3cm * 3cm piece (Coupon wafer) 8ea - PR 성분 + Organic residue - Silicon substrate - Step 1 : SPM Cleaning [10min] - Step 2 : SC-1 Cleaning [10min] → 모든 시편에 동일하게 적용 -. 고객사로 웨이퍼 반환이 필요하여, 공정 완료 후 샘플 발송 해주시면 감사하겠습니다. -. 담당자 : 김재구(010-3190-1394)	피에스케이(주)	Application 1G	김재구	680,000원
7083	2024-10-22 16시	16시	9-1-3 Nitric Acid Treatment SC1	삼성전자	DS	김태훈	0원
7084	2024-10-22 16시	16시	9-1-2 Pre Cleaning TMAH	삼성전자	DS	김태훈	0원
7085	2024-10-22 16시	16시	9-1-1 Pre Cleaning DHF 1000:1	삼성전자	DS	김태훈	0원
7086	2024-10-22 8시	9시	BOE(10:1) 선행 웨이퍼	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	256,000원
7087	2024-10-23 14시	16시	.	주식회사 아르케	SIC 생산본부	노병훈	103,000원
7088	2024-10-23 18시	19시	Mg 식각을 위한 DHCL 1:4 사용	홍익대학교 산학협력단	전자전기공학과	김민정	170,000원
7089	2024-10-23 19시	20시	금속 증착전 native oxide 제거 목적 boe 1:10 1min 사용	홍익대학교 산학협력단	전자전기공학과	김민정	320,000원
7090	2024-10-24 15시	15시	1-3-1 PR Strip SPM	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	136,000원
7091	2024-10-24 9시	9시	0-1-3 Pre Cleaning DHF 100:1	삼성전자	Power device팀	박종원	120,000원
7092	2024-10-25 13시	15시	.	주식회사 아르케	SIC 생산본부	노병훈	103,000원
7093	2024-10-25 21시	22시	구리가 있어서 따로 뒤에 있는 폐액통 사용하겠습니다.	포항공과대학교 대학원	기계공학과	김우현	60,000원
7094	2024-10-28 14시	14시	1-1-1 Pre Cleaning DHF 100:1 (재진행)	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	96,000원
7095	2024-10-28 14시	14시	1-1-1 Pre Cleaning SPM (추가진행)	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	136,000원
7096	2024-10-28 14시	14시	1-1-1 Pre Cleaning DHF 100:1	포항공과대학교	기술지원팀	김성준	96,000원
7097	2024-10-29 14시	14시	9-3-1 Oxide Wet Etch BOE 10:1	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	256,000원
7098	2024-10-29 15시	15시	1-1-1 Pre Cleaning SPM	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	136,000원
7099	2024-10-29 15시	15시	1-1-2 Pre Cleaning DHF 100:1	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	96,000원
7100	2024-10-29 15시	15시	1-1-3 Pre Cleaning TMAH	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	256,000원
7101	2024-10-29 16시	16시	9-3-3 PR Strip SPM	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	136,000원
7102	2024-10-30 10시	10시	9-5-1 Wet Etch Oxide BOE 10:1	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	256,000원
7103	2024-10-30 13시	14시	10-1-2 Pre Cleaning TMAH	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	256,000원
7104	2024-10-30 13시	14시	10-1-1 Pre Cleaning DHF 100:1	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	96,000원
7105	2024-10-30 13시	14시	9-5-4 PR Strip SPM	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	136,000원
7106	2024-10-30 15시	16시	4-1-1 DHF	현대모비스	전력반도체팀	강민기	120,000원
7107	2024-10-30 15시	17시	.	주식회사 아르케	SIC 생산본부	노병훈	103,000원
7108	2024-10-31 13시	13시	2-1-5 Oxide Remove BOE 10:1	한국과학기술원	기계공학과	김태영	320,000원
7109	2024-10-31 16시	16시	2-1-1 Cleaning SC-1	현대모비스	전력반도체팀	강민기	170,000원
7110	2024-10-31 16시	16시	1-1-2 Oxide Wet Strip BOE 10:1	현대모비스	전력반도체팀	강민기	320,000원
7111	2024-10-31 16시	16시	5-1-2 Cleaning SPM	현대모비스	전력반도체팀	강민기	170,000원
7112	2024-10-31 16시	16시	5-1-1 Cleaning SC-1	현대모비스	전력반도체팀	강민기	170,000원
7113	2024-11-04 10시	11시	DHF 100	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	96,000원
7114	2024-11-04 10시	10시	3-1-1 Cleaning SPM	현대모비스	전력반도체팀	강민기	170,000원
7115	2024-11-04 11시	12시	8inch SPM,SC-1,DHF,Spin Dry (Oxide Depo 전 cleaning Step) 저희는 10시 30분 부터도 가능합니다! 최선영 : 010-6510-8507	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	272,000원
7116	2024-11-04 13시	14시	없음	포항공과대학교 대학원	기계공학과	김우현	60,000원
7117	2024-11-04 15시	16시	SPM 사용 담당연구원:최재용/010-2123-3062/jychoieee@postech.ac.kr	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	86,000원
7118	2024-11-04 16시	17시	DHF 사용 담당연구원:최재용/010-2123-3062/jychoieee@postech.ac.kr	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	60,000원
7119	2024-11-04 19시	20시	5-3-2 Backside etch BOE	현대모비스	전력반도체팀	강민기	320,000원
7120	2024-11-05 10시	10시	5-3-4 PR Strip SPM	현대모비스	전력반도체팀	강민기	170,000원
7121	2024-11-05 15시	15시	3-4-2 PR Cleaning SPM	주식회사 아르케	SIC 생산본부	노병훈	170,000원
7122	2024-11-05 15시	15시	3-4-3 Oxide Remove BOE 10:1	주식회사 아르케	SIC 생산본부	노병훈	320,000원
7123	2024-11-05 20시	21시	DHF	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	96,000원
7124	2024-11-06 10시	10시	2-1-2 Cleaning DHF 100:1	(주)모이모션	(주) 모이모션	최정례	120,000원
7125	2024-11-06 10시	10시	2-1-2 Cleaning SPM	(주)모이모션	(주) 모이모션	최정례	170,000원
7126	2024-11-06 14시	14시	2-1-5 Oxide Remove BOE 10:1	한국과학기술원	기계공학과	김태영	320,000원
7127	2024-11-06 15시	16시	SPM 사용 담당연구원:최재용/010-2123-3062/jychoieee@postech.ac.kr	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	86,000원
7128	2024-11-06 16시	17시	DHF 담당연구원:최재용/010-2123-3062	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	60,000원
7129	2024-11-06 17시	18시	PR Strip 6매	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	136,000원
7130	2024-11-07 15시	17시	.	주식회사 아르케	SIC 생산본부	노병훈	103,000원
7131	2024-11-08 1시	2시	BOE 10,000A + Cleaning(SPM + SC1 + DHF + Spin Dry)	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	272,000원
7132	2024-11-08 10시	11시	Source 및 Drain 영역의 도펀트 확산공정 이후, Si 표면 찌꺼기 제거를 위해 SPM을 통한 클리닝 공정 의뢰드립니다. 조각 시편 2개이며, 크기는 대략 2x2 cm^2 입니다.	포항공과대학교 대학원	전자전기공학과	박수현	136,000원
7133	2024-11-08 15시	15시	SiC 8\" 6ea BOE 10:1	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	256,000원
7134	2024-11-08 15시	15시	7-1-1 Cleaning SC-2	포항공과대학교	기술지원팀	최경근	256,000원
7135	2024-11-08 15시	15시	SiC 8\" 6ea DHF 100:1	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	96,000원
7136	2024-11-08 16시	17시	SPM 담당연구원:최재용/010-2123-3062	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	86,000원
7137	2024-11-08 17시	18시	DHF 담당연구원:최재용/010-2123-3062	포항공과대학교	전자전기공학과	이정수	60,000원
7138	2024-11-10 11시	12시	없음	포항공과대학교 대학원	기계공학과	김우현	0원
7139	2024-11-12 10시	12시	.	주식회사 아르케	SIC 생산본부	노병훈	103,000원
7140	2024-11-12 17시	18시	6-2-5 PR Strip SPM	현대모비스	전력반도체팀	강민기	170,000원
7141	2024-11-12 18시	19시	6-2-6 PR Strip DHF	현대모비스	전력반도체팀	강민기	120,000원
7142	2024-11-12 20시	21시	7-1-1 Pre Cleaning SC1	현대모비스	전력반도체팀	강민기	170,000원
7143	2024-11-13 10시	10시	2-3-2 PR Strip SPM	포항공과대학교	선행기술팀	한성웅	136,000원
7144	2024-11-13 15시	16시	oxide remove (BOE)1매	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	256,000원
7145	2024-11-13 16시	17시	1-6-1 Oxide Remove BOE	현대모비스	전력반도체팀	강민기	320,000원
7146	2024-11-13 17시	18시	2-1-1 Cleaning SPM	현대모비스	전력반도체팀	강민기	170,000원
7147	2024-11-13 18시	19시	2-3-3 PR Remove SPM	(주)모이모션	(주) 모이모션	최정례	170,000원
7148	2024-11-14 14시	14시	11-3-6 PR Strip SPM	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	136,000원
7149	2024-11-14 14시	14시	11-3-5 Wet Etch Oxide BOE 10:1	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	256,000원
7150	2024-11-14 15시	16시	WBG 과제_SiC Silicide 평가 BOE	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	256,000원
7151	2024-11-14 15시	16시	2-3-5 Carbon Strip SPM	현대모비스	전력반도체팀	강민기	170,000원
7152	2024-11-14 16시	17시	3-1-1 Pre Cleaning SC-1	현대모비스	전력반도체팀	강민기	170,000원
7153	2024-11-14 17시	18시	3-1-2 Pre Cleaning SC-2	현대모비스	전력반도체팀	강민기	320,000원
7154	2024-11-14 18시	19시	3-1-3 Pre Cleaning DHF	현대모비스	전력반도체팀	강민기	120,000원
7155	2024-11-15 13시	15시	.	주식회사 아르케	SIC 생산본부	노병훈	103,000원
7156	2024-11-16 11시	13시	3-4-3 FOX wet oxide etch	현대모비스	전력반도체팀	강민기	800,000원
7157	2024-11-16 9시	10시	Oxide Remove(BOE)	주식회사 아이큐랩	제품기술	민영미	640,000원
7158	2024-11-16 9시	11시	8-2-5 CONT SPM 10min	현대모비스	전력반도체팀	강민기	170,000원
7159	2024-11-16 9시	11시	3-4-1 FOX Wet oxide etch 3-4-2 FOX Thick meas.	현대모비스	전력반도체팀	강민기	950,000원
7160	2024-11-18 13시	15시	- 3cm * 3cm piece (Coupon wafer) 8ea - PR 성분 + Organic residue - Silicon substrate - Step 1 : SPM Cleaning [10min] - Step 2 : SC-1 Cleaning [10min] → 모든 시편에 동일하게 적용 -. 고객사로 웨이퍼 반환이 필요하여, 공정 완료 후 샘플 발송 해주시면 감사하겠습니다. -. 담당자 : 김재구(010-3190-1394)	피에스케이(주)	Application 1G	김재구	340,000원
7161	2024-11-18 15시	17시	9-4-4 SPM	현대모비스	전력반도체팀	강민기	425,000원
7162	2024-11-18 9시	11시	3-4-6 FOX SPM PR Strip	현대모비스	전력반도체팀	강민기	425,000원
7163	2024-11-19 11시	11시	WBG 과제_SiC Silicide 평가 - SPM	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	136,000원
7164	2024-11-19 16시	16시	1-2-5 PR Strip SPM	나노융합기술원	기술지원팀	강민재	136,000원
7165	2024-11-25 15시	17시	.	주식회사 아르케	SIC 생산본부	노병훈	103,000원
7166	2024-11-26 11시	11시	5-1-1 Cleaning SC-1	현대모비스	전력반도체팀	강민기	425,000원
7167	2024-11-26 15시	15시	6-1-1 Cleaning SC1	현대모비스	전력반도체팀	강민기	425,000원
7168	2024-11-26 15시	15시	6-1-2 Cleaning SPM	현대모비스	전력반도체팀	강민기	425,000원
7169	2024-11-26 15시	15시	11-5-5 PR Strip SPM	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	136,000원
7170	2024-11-27 10시	10시	3-1-1 pre Cleaning SC1	삼성전자	DS	김태훈	0원
7171	2024-11-27 12시	12시	6-3-1 Back side Etch BOE 10:1	현대모비스	전력반도체팀	강민기	800,000원
7172	2024-11-27 12시	12시	Oxide Remove BOE 10:1	나노융합기술원	대외협력팀	박영재	256,000원
7173	2024-11-27 13시	14시	- 3cm * 3cm piece (Coupon wafer) 8ea - PR 성분 + Organic residue - Silicon substrate - Step 1 : SPM Cleaning [10min] - Step 2 : SC-1 Cleaning [10min] → 모든 시편에 동일하게 적용 -. 고객사로 웨이퍼 반환이 필요하여, 공정 완료 후 샘플 발송 해주시면 감사하겠습니다. -. 담당자 : 김재구(010-3190-1394)	피에스케이(주)	Application 1G	김재구	340,000원
7174	2024-11-27 16시	16시	6-3-4 PR Strip SPM	현대모비스	전력반도체팀	강민기	425,000원
7175	2024-11-28 13시	13시	6-5-6 PR Strip DHF 100:1	현대모비스	전력반도체팀	강민기	300,000원
7176	2024-11-28 13시	13시	6-5-5 PR Strip SPM	현대모비스	전력반도체팀	강민기	425,000원
7177	2024-11-28 13시	13시	4-4-3 Oxide Remove BOE 10:1	주식회사 아르케	SIC 생산본부	노병훈	320,000원
7178	2024-11-28 13시	13시	4-4-2 PR Cleaning SPM	주식회사 아르케	SIC 생산본부	노병훈	170,000원
7179	2024-11-28 14시	15시	SPM 사용 담당연구원 : 최재용/010-2123-3062/jychoieee@postech.ac.kr	(주)아이제스트	연구개발팀	길연호	120,700원
7180	2024-11-28 15시	16시	DHF 사용 담당연구원 : 최재용/010-2123-3062/jychoieee@postech.ac.kr	(주)아이제스트	연구개발팀	길연호	80,400원
7181	2024-11-29 10시	10시	7-1-1 Pre Cleaning SC1	현대모비스	전력반도체팀	강민기	465,000원
7182	2024-11-29 16시	17시	3-3-8 PR Strip SPM	삼성전자	DS	김태훈	0원
7183	2024-12-27 1시	1시	[ICT 제품화 지원사업] 4inch 150ea Cleaning	알파그래핀 주식회사	알파그래핀 주식회사	이상경	720,000원
7184	2024-12-27 8시	15시	ICT 과제 공정비	주식회사 아르케	제조개발센터	사공성환	4,800,000원

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