Spectroscopic Ellipsometer 장비일지

 기자재관리번호 : -
No 장비이용내역 이용내역 사용자 장비이용료
시작일 종료일 세부내용 기관명 부서(학과명) 성명 확정금액
1 2010-01-08 11시 12시 두께 측정 포항공과대학교 전자전기공학과 김성호 0원
2 2010-01-08 17시 18시 두께측정 포항공과대학교 전자전기공학과 김성호 0원
3 2010-01-23 15시 18시 두께 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 0원
4 2010-03-17 14시 15시 TIO2 박막분석 포스텍 환경공학부 김건우 60,000원
5 2010-03-19 10시 11시 parylene 두께측정 포항공과대학교 기계공학과 이승준 60,000원
6 2010-03-29 14시 16시 Silica필름 두께와 굴절률값측정 한국과학기술연구원 육주영 160,000원
7 2010-03-30 10시 11시 페럴린 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 이승준 60,000원
8 2010-03-30 13시 14시 두께 직접사용 전북대학교 전자공학부 김기현 45,000원
9 2010-04-05 14시 16시 굴절률, 두께
6개
silicon wafer/유기실리카코팅(organic modifed silica)		 한국과학기술연구원 육주영 108,000원
10 2010-04-07 13시 14시 Diamond thickness 포항공과대학교 기계공학과 강대실 45,000원
11 2010-04-07 21시 22시 SIO2 두께 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 0원
12 2010-04-12 13시 14시 ALD 기초 실험후 두께측정 삼성모바일디스플레이 Device Lab/기술연구소 서상준 45,000원
13 2010-04-12 14시 15시 ALD 기초 실험후 두께측정 삼성모바일디스플레이 Device Lab/기술연구소 서상준 45,000원
14 2010-04-12 15시 16시 ALD 기초 실험후 두께측정 삼성모바일디스플레이 Device Lab/기술연구소 서상준 45,000원
15 2010-04-13 17시 18시 두께 측정 직접사용 주식회사 아르케 SIC 생산본부 노병훈 0원
16 2010-04-21 15시 18시 두께 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 202,500원
17 2010-04-21 19시 21시 두께 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 0원
18 2010-04-22 11시 12시 두께 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 0원
19 2010-04-22 13시 14시 두께 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 0원
20 2010-04-22 16시 18시 두께 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 202,500원
21 2010-04-23 12시 14시 두께 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 112,500원
22 2010-04-27 10시 11시 두께 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 67,500원
23 2010-04-27 17시 18시 두께 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 0원
24 2010-04-28 20시 21시 두께 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 45,000원
25 2010-04-29 14시 15시 두께 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 0원
26 2010-05-05 01시 02시 두께 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 0원
27 2010-05-06 11시 12시 두께 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 0원
28 2010-05-06 14시 15시 두께 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 24,000원
29 2010-05-07 11시 12시 두께측정 전북대학교 전자공학부 김기현 0원
30 2010-05-10 15시 16시 두께 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 0원
31 2010-05-11 20시 21시 두께 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 72,000원
32 2010-05-13 11시 12시 두께측정 전북대학교 전자공학부 김기현 0원
33 2010-05-13 13시 14시 두께 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 72,000원
34 2010-05-19 15시 16시 두께 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 24,000원
35 2010-05-19 22시 23시 두께 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 24,000원
36 2010-05-24 15시 16시 AIN 두께 측정 (주)SPT 개발부 오종섭 90,000원
37 2010-05-24 16시 18시 SILICA 두께 측정 한국과학기술연구원 육주영 81,000원
38 2010-05-30 16시 17시 두께 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 0원
39 2010-06-16 14시 18시 sillica thickness 한국과학기술연구원 고분자하이브리드 이희승 270,000원
40 2010-06-25 16시 17시 두께측정 포항공과대학교 전자전기 박찬훈 72,000원
41 2010-06-29 17시 18시 두께 측정 포항공과대학교 전자전기 박찬훈 24,000원
42 2010-06-30 11시 12시 두께 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 24,000원
43 2010-07-13 11시 12시 두께측정 전북대학교 전자공학부 김기현 48,000원
44 2010-07-14 19시 20시 두께 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 15,000원
45 2010-07-16 09시 12시 두께 및 굴절율 측정 한국과학기술연구원 고분자하이브리드 이희승 162,000원
46 2010-07-19 09시 20시 두께 측정 포항공과대학교 신소재공학과 이일환 504,000원
47 2010-07-21 09시 20시 두께 측정 포항공과대학교 신소재공학과 이일환 528,000원
48 2010-07-23 09시 18시 두께 측정 대구가톨릭대학교 전자공학과 김화민 120,000원
49 2010-08-10 14시 17시 al2o3 thk, ri 측정 삼성모바일디스플레이 Device Lab/기술연구소 서상준 135,000원
50 2010-08-11 09시 12시 두께 측정 삼성모바일디스플레이 Device Lab/기술연구소 서상준 112,500원
51 2010-08-11 13시 14시 두께 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 24,000원
52 2010-08-12 14시 15시 두께측정 전북대학교 전자공학부 김기현 24,000원
53 2010-08-18 16시 17시 두께 측정 포항공과대학교 화학공학과 윤원민 48,000원
54 2010-08-19 18시 19시 두께측정 포항공과대학교 화학공학과 윤원민 24,000원
55 2010-08-31 13시 18시 두께 측정 삼성모바일디스플레이 Device Lab/기술연구소 서상준 240,000원
56 2010-09-01 13시 18시 AL2O3 박막 두께 측정 삼성모바일디스플레이 Device Lab/기술연구소 서상준 225,000원
57 2010-09-06 09시 18시 sillica thk 측정 한국과학기술연구원 고분자하이브리드 이희승 216,000원
58 2010-09-08 20시 21시 두께측정 포항공과대학교 전자전기 박찬훈 30,000원
59 2010-09-09 11시 12시 두께 측정 포항공과대학교 화학공학과 윤원민 24,000원
60 2010-09-10 16시 17시 두께 측정 포항공과대학교 화학공학과 윤원민 24,000원
61 2010-09-13 20시 21시 두께측정 전북대학교 전자공학부 김기현 15,000원
62 2010-09-16 18시 21시 두께측정 포항공과대학교 화학공학과 윤원민 72,000원
63 2010-09-30 10시 11시 두께 측정 포항공과대학교 화학공학과 윤원민 24,000원
64 2010-10-11 16시 18시 실리카 두께 및 굴절율 측정 한국과학기술연구원 고분자하이브리드 이희승 108,000원
65 2010-10-12 14시 15시 두께 측정 포항공과대학교 화학공학과 윤원민 24,000원
66 2010-10-21 09시 12시 AL2O3 두께 측정 삼성모바일디스플레이 Device Lab/기술연구소 서상준 112,500원
67 2010-10-25 17시 18시 두께 측정 포항공과대학교 화학공학과 윤원민 24,000원
68 2010-10-26 14시 14시 nitride 두께 측정 삼성종합기술원 반도체 랩 하종봉 51,000원
69 2010-11-02 14시 15시 두께 측정 포항공과대학교 화학공학과 윤원민 24,000원
70 2010-11-03 11시 12시 두께 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 48,000원
71 2010-11-04 11시 12시 두께 측정 포항공과대학교 전자전기 박찬훈 24,000원
72 2010-11-08 13시 14시 두께 측정 포항공과대학교 화학공학과 윤원민 24,000원
73 2010-11-08 16시 17시 두께 측정 포항공과대학교 전자전기 박찬훈 24,000원
74 2010-11-10 11시 12시 두께 측정 포항공과대학교 화학공학과 윤원민 24,000원
75 2010-11-11 13시 14시 두께 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 24,000원
76 2010-11-16 16시 17시 두께 측정 및 교육 포항공과대학교 전자전기공학과 김성호 24,000원
77 2010-11-19 16시 18시 두께 측정 포항공과대학교 신소재공학과 하우진 48,000원
78 2010-11-22 13시 15시 두께 측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 48,000원
79 2010-11-23 10시 11시 두께 측정 포항공과대학교 전자전기공학과 김성호 24,000원
80 2010-11-24 16시 17시 두께 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 24,000원
81 2010-11-25 10시 12시 두께 측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 24,000원
82 2010-11-25 14시 15시 두께 측정 포항공과대학교 전자전기공학과 김성호 24,000원
83 2010-11-29 13시 14시 두께 측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 48,000원
84 2010-12-01 10시 11시 두께측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 24,000원
85 2010-12-01 15시 16시 두께 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 24,000원
86 2010-12-03 13시 14시 두께 측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 24,000원
87 2010-12-03 23시 24시 두께 측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 15,000원
88 2010-12-07 11시 12시 두께 측정 포항공과대학교 전자전기공학과 김성호 24,000원
89 2010-12-13 14시 16시 두께 측정 (주)알파플러스 김창도 108,000원
90 2010-12-14 14시 16시 두께 측정 (주)알파플러스 김창도 108,000원
91 2010-12-17 14시 15시 두께 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 24,000원
92 2010-12-20 11시 12시 두께 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 24,000원
93 2010-12-27 15시 16시 두께 측정 삼성종합기술원 반도체 랩 하종봉 45,000원
94 2010-12-28 11시 12시 두께 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 24,000원
95 2010-12-28 16시 17시 두께측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 24,000원
96 2010-12-29 14시 15시 두께 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 24,000원
97 2010-12-29 22시 23시 두께 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 15,000원
98 2010-12-30 14시 15시 두께측정 전북대학교 전자공학부 김기현 24,000원
99 2011-01-04 16시 17시 Oxide thickness 측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 24,000원
100 2011-01-11 14시 15시 SiO2 and Si3N4 mea. 포항공과대학교 전자전기공학과 강대건 24,000원
101 2011-01-13 14시 16시 Si, SiO2, SiN 측정 포항공과대학교 전자전기공학과 조동환 48,000원
102 2011-01-17 16시 17시 SiN,SiO2 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 24,000원
103 2011-01-18 10시 11시 Nitride& Oxide 두께 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 24,000원
104 2011-01-18 14시 16시 Porous Alumina의 두께에 따른 굴절율 측정 포항공과대학교 기계공학과 이상민 24,000원
105 2011-01-21 16시 18시 ITO 측정 포항공과대학교 신소재공학과 하우진 120,000원
106 2011-01-26 16시 17시 SiN Mea. 전북대학교 전자공학부 김기현 24,000원
107 2011-01-27 17시 18시 SiN Mea. 전북대학교 전자공학부 김기현 24,000원
108 2011-01-31 13시 15시 Al2O3 RI 측정 포항공과대학교 기계공학과 이상민 192,000원
109 2011-02-09 18시 19시 Ox thickness 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 15,000원
110 2011-02-10 14시 15시 Oxide 두께 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 24,000원
111 2011-02-23 10시 11시 Solor cell용 단결정 wafer RI 측정 테스트 나노융합기술원 기술지원팀 강민재 0원
112 2011-02-24 11시 12시 태양전지 wafer상의 SiO2 박막 두께 측정테스트 세미머티리얼즈 연구소 장영훈 0원
113 2011-03-02 15시 16시 SiO2 박막 두께 측정 세미머티리얼즈 연구소 장영훈 90,000원
114 2011-03-02 17시 18시 Nitride Meas. 전북대학교 전자공학부 김기현 16,000원
115 2011-03-03 10시 11시 Ox Meas. 전북대학교 전자공학부 김기현 16,000원
116 2011-03-08 11시 12시 Oxide Thickness, RI 측정 세미머티리얼즈 연구소 장영훈 90,000원
117 2011-03-09 20시 21시 thickness 측정 포항공과대학교 화학공학과 윤원민 48,000원
118 2011-03-11 11시 12시 SiO2 측정 세미머티리얼즈 연구소 장영훈 90,000원
119 2011-03-15 11시 12시 SiO2 Meas. 세미머티리얼즈 연구소 장영훈 90,000원
120 2011-03-17 15시 16시 Oxide thickness Meas. 세미머티리얼즈 연구소 장영훈 180,000원
121 2011-03-21 10시 11시 Oxide 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 16,000원
122 2011-03-21 15시 16시 Nitride 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 16,000원
123 2011-03-22 14시 16시 Ox Meas. 세미머티리얼즈 연구소 장영훈 120,000원
124 2011-03-23 21시 22시 SiN Meas. 전북대학교 전자공학부 김기현 10,000원
125 2011-03-24 14시 15시 Oxide Meas. 세미머티리얼즈 연구소 장영훈 120,000원
126 2011-03-24 16시 17시 SiN Meas. 전북대학교 전자공학부 김기현 16,000원
127 2011-03-25 09시 12시 8" partterned wafer band gap energy 분석 지엠티 박은화 600,000원
128 2011-03-28 15시 16시 Oxide_Nitride Meas. 포항공과대학교 전자전기공학과 조동환 16,000원
129 2011-03-29 10시 11시 Si/ SiO2/ SiN thickness measurement 포항공과대학교 전자전기공학과 조동환 48,000원
130 2011-03-29 20시 21시 Si/SiO2/Si3N4 Meas. 포항공과대학교 전자전기공학과 조동환 30,000원
131 2011-03-31 14시 15시 Oxide Meas. 전북대학교 전자공학부 김기현 32,000원
132 2011-04-13 10시 11시 Thickness, RI Meas. 세미머티리얼즈 연구소 장영훈 60,000원
133 2011-04-15 10시 11시 SiO2 layer 두께 및 굴절률 측정 세미머티리얼즈 연구소 장영훈 60,000원
134 2011-04-25 13시 16시 8인치 patterned wafer Band Gap Energy 크린콜비지니스 신명환 600,000원
135 2011-04-28 16시 17시 SiN thickness measurement 포항공과대학교 전자전기공학과 조동환 16,000원
136 2011-04-29 15시 16시 ITO Meas. 포항공과대학교 신소재공학과 하우진 96,000원
137 2011-05-04 11시 12시 Nitride Meas. 포항공과대학교 전자전기공학과 조동환 16,000원
138 2011-05-09 11시 12시 Nitride Meas. 포항공과대학교 대외협력팀 김인철 24,000원
139 2011-05-10 09시 12시 8인치 patterned wafer band gap energy 메이플세미컨덕터 정은식 600,000원
140 2011-05-11 16시 17시 RI Meas. 포항공과대학교 신소재공학과 하우진 16,000원
141 2011-05-12 10시 11시 ITO RI Meas. 포항공과대학교 신소재공학과 하우진 32,000원
142 2011-05-15 16시 17시 Oxide Meas. 포항공과대학교 전자전기공학과 강대건 16,000원
143 2011-05-23 15시 16시 SiO2 Meas. 포항공과대학교 전자전기공학과 강대건 16,000원
144 2011-05-24 09시 12시 8inch patterned wafer Band Gap Energy 엔씨케이(주) 신상순 600,000원
145 2011-05-27 13시 16시 8" patterned wafer Band Gap Energy 제위드 대표자 조상호 600,000원
146 2011-06-02 09시 10시 TiN RI Meas. 포항공과대학교 신소재공학과 김효은 48,000원
147 2011-06-02 16시 17시 TiN RI Meas. 포항공과대학교 HaiDang Ngo 24,000원
148 2011-06-03 11시 12시 Nitride Meas. 포항공과대학교 전자전기공학과 강대건 16,000원
149 2011-06-03 17시 18시 Al2O3_ZnO RI Meas. 포항공과대학교 신소재공학과 김효은 48,000원
150 2011-06-08 10시 11시 Oxide Meas. 포항공과대학교 전자전기공학과 조동환 64,000원
151 2011-06-09 13시 16시 8inch patterned wafer Band Gap Energy 엔씨케이(주) 신상순 600,000원
152 2011-06-09 16시 17시 RI Meas. 포항공과대학교 신소재공학과 김효은 24,000원
153 2011-06-22 09시 12시 8inch patterned wafer Band Gap Energy (주)에이팸 조미옥 600,000원
154 2011-06-22 17시 18시 Si, Si3N4, SiO2 두께 측정_power device 포항공과대학교 전자전기공학과 조동환 48,000원
155 2011-06-23 14시 16시 실리카 RI 측정 한국과학기술연구원 고분자하이브리드 이희승 243,000원
156 2011-06-23 17시 18시 RI 측정 이코니 AMT연구소 정은경 108,000원
157 2011-06-29 14시 15시 Thickness Meas. 포항공과대학교 화학공학과 윤원민 16,000원
158 2011-06-29 15시 17시 Nitride depo Split_LED_thickness Meas 삼성종합기술원 반도체 랩 하종봉 157,500원
159 2011-07-15 09시 11시 RI Meas. 4ea 한국과학기술연구원 고분자하이브리드 이희승 108,000원
160 2011-07-22 16시 17시 Oxide Nitride Meas. 전북대학교 전자공학부 김기현 16,000원
161 2011-08-01 17시 18시 RI Meas. 한국과학기술연구원 고분자하이브리드 이희승 81,000원
162 2011-08-08 17시 18시 RI 측정 포항공과대학교 화학공학과 윤원민 16,000원
163 2011-08-10 13시 16시 S13 Gate Ox etch test 전후 Meas. 삼성종합기술원 반도체 랩 하종봉 270,000원
164 2011-08-18 11시 12시 Oxide_Nitride Meas. 전북대학교 전자공학부 김기현 32,000원
165 2011-08-29 14시 18시 RI 측정 영남대학교 전자과 이규락 0원
166 2011-09-07 17시 20시 RI meas. 포항공과대학교 화학공학과 윤원민 48,000원
167 2011-09-07 20시 21시 Oxide Meas. 전북대학교 전자공학부 김기현 20,000원
168 2011-09-13 09시 12시 8" patterned wafer band gap energy (주)브라이트일렉트로닉스 백승찬 600,000원
169 2011-09-20 14시 18시 8" patterned wafer Band Gap Energy 넥스원코퍼레이션 변응균 600,000원
170 2011-09-23 09시 12시 Oxide Meas 3ea, Nitride Meas 3ea, Al2O3 3ea 포항공과대학교 대외협력팀 김인철 270,000원
171 2011-09-29 15시 16시 Al2O3 meas. 포항공과대학교 ITCE 정새벽 16,000원
172 2011-10-07 14시 15시 Oxide, Nitride Meas. 전북대학교 전자공학부 김기현 32,000원
173 2011-10-10 09시 10시 0-2-2 Buffer Ox Meas. 삼성전기 AMD랩 한승훈 120,000원
174 2011-10-11 13시 18시 8" patterned wafer band gap energy (주)브라이트일렉트로닉스 백승찬 600,000원
175 2011-10-11 16시 17시 Oxidation Meas. 삼성전기 AMD랩 한승훈 30,000원
176 2011-10-18 15시 16시 thickness meas 전북대학교 전자공학부 김기현 32,000원
177 2011-10-20 09시 12시 8인치 patterned wafer Band Gap Energy 넥스원코퍼레이션 변응균 600,000원
178 2011-10-26 18시 19시 Thickness Meas 포항공과대학교 화학공학과 윤원민 48,000원
179 2011-11-02 15시 16시 RI 측정 세미머티리얼즈 연구소 장영훈 40,000원
180 2011-11-03 14시 16시 8인치 patterned wafer Band Gap Energy (주)좋은램프 최근철 300,000원
181 2011-11-09 13시 18시 Wet Ox 및 RTP 진행 후 Thickness 측정 삼성전기 AMD랩 한승훈 240,000원
182 2011-11-14 15시 18시 RI 측정 아이컴포넌트 임성택 330,000원
183 2011-11-22 14시 15시 SM04_SiN etch test_PE-SiN meas 삼성종합기술원 반도체 랩 하종봉 135,000원
184 2011-11-23 09시 12시 8" patterned wafer Band Gap Energy 저스트코퍼레이션 이병설 600,000원
185 2011-11-24 15시 17시 SM04_SiN etch test_S/D cont etch SiN meas. 삼성종합기술원 반도체 랩 하종봉 112,500원
186 2011-11-25 09시 13시 RI Meas. 아이컴포넌트 임성택 1,620,000원
187 2011-11-28 13시 16시 RI Meas. 아이컴포넌트 임성택 330,000원
188 2011-11-29 10시 10시 Thickness Meas. 포항공과대학교 화학공학과 김래호 16,000원
189 2011-12-01 10시 11시 Thickness Meas. 포항공과대학교 화학공학과 김래호 16,000원
190 2011-12-02 17시 18시 Thickness Meas. 포항공과대학교 화학공학과 김래호 16,000원
191 2011-12-07 10시 11시 Thickness 측정 포항공과대학교 화학공학과 김래호 16,000원
192 2011-12-12 17시 18시 두께 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 16,000원
193 2011-12-13 11시 12시 Thickness 측정 포항공과대학교 화학공학과 김래호 16,000원
194 2011-12-13 19시 20시 Thickness 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 10,000원
195 2011-12-13 22시 23시 Thickness 측정 포항공과대학교 전자전기공학과 김태희 16,000원
196 2011-12-15 17시 18시 Thickness 측정 포항공과대학교 화학공학과 김래호 16,000원
197 2011-12-19 21시 22시 Thickness 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 10,000원
198 2011-12-22 09시 12시 8" patterned wafer Band Gap Energy (주)유시스텍 최승훈 600,000원
199 2011-12-22 15시 16시 THickness 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 16,000원
200 2011-12-26 21시 22시 Thickness 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 10,000원
201 2012-01-08 14시 17시 Thickness 측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 16,000원
202 2012-01-09 10시 11시 thickness 측정 포항공과대학교 화학공학과 김래호 16,000원
203 2012-01-09 11시 12시 0-2-3 Poly-Si Thick Meas. (주)디엠에스 김성해 81,000원
204 2012-01-09 15시 17시 Thickness 측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 16,000원
205 2012-01-11 10시 11시 thickness 측정 포항공과대학교 화학공학과 김래호 16,000원
206 2012-01-11 14시 15시 고분자 박막 시편 thickness 측정 포항공과대학교 화학과 김지훈 432,000원
207 2012-01-12 16시 17시 thickness 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 64,000원
208 2012-01-16 14시 15시 고분자 박막 thickness 측정 포항공과대학교 화학과 김지훈 144,000원
209 2012-01-18 18시 19시 thickness 측정 포항공과대학교 화학공학과 김래호 16,000원
210 2012-02-06 14시 15시 thickness 측정 포항공과대학교 화학공학과 김래호 80,000원
211 2012-02-20 13시 14시 고분자 thickness 측정 포항공과대학교 화학과 김지훈 144,000원
212 2012-02-22 14시 15시 고분자 박막 두께 증착 포항공과대학교 화학과 김지훈 72,000원
213 2012-02-23 10시 11시 Nano wire Sensor 개발
1-3-3. Thick. Meas (BOE 전후 잔막및 SI 두께 측정)		 전자부품연구원 메디컬IT융합 이국녕 180,000원
214 2012-02-23 11시 12시 thickness 증착 포항공과대학교 ITCE 박현진 16,000원
215 2012-02-23 15시 16시 thickness 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 16,000원
216 2012-02-29 16시 17시 Thickness 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 16,000원
217 2012-03-02 15시 16시 Oxide 두께 측정 포항공과대학교 ITCE 박현진 16,000원
218 2012-03-05 20시 21시 thickness 측정 포항공과대학교 화학공학과 김래호 16,000원
219 2012-03-06 14시 15시 thickness 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 16,000원
220 2012-03-07 10시 11시 두께 측정 포항공과대학교 전자과 백상원 16,000원
221 2012-03-07 11시 12시 두께 측정 포항공과대학교 화학공학과 김래호 10,000원
222 2012-03-08 14시 15시 두께 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 16,000원
223 2012-03-08 16시 17시 두께 측정 포항공과대학교 화학공학과 김래호 16,000원
224 2012-03-08 20시 21시 두께 측정 포항공과대학교 전자전기공학과 고명동 10,000원
225 2012-03-09 09시 12시 3-5-2 Dop Anneal Thick. Mean. 전자부품연구원 메디컬IT융합 이국녕 120,000원
226 2012-03-12 16시 18시 1-3-3 Pyro Furnace Thick. Meas. 전자부품연구원 메디컬IT융합 이국녕 150,000원
227 2012-03-13 10시 12시 1-4-4 Thinning Ox Strip Thick. Meas. 전자부품연구원 메디컬IT융합 이국녕 150,000원
228 2012-03-13 12시 13시 thickness 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 16,000원
229 2012-03-13 15시 16시 Thickness 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 16,000원
230 2012-03-15 17시 18시 thickness 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 16,000원
231 2012-03-16 11시 12시 thickness 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 16,000원
232 2012-03-19 17시 18시 K03

3-1-2 RTO 선행 thickness 측정		 전자부품연구원 메디컬IT융합 이국녕 30,000원
233 2012-03-20 11시 12시 thickness 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 16,000원
234 2012-03-20 15시 16시 thickness 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 16,000원
235 2012-03-21 10시 11시 thickness 측정 포항공과대학교 화학공학과 김래호 24,000원
236 2012-03-21 11시 12시 thickness 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 24,000원
237 2012-03-21 14시 15시 K01
P04번 wafer 재처리 작업
-Oxidation 후 test wafer thickness 측정		 전자부품연구원 메디컬IT융합 이국녕 30,000원
238 2012-03-26 15시 16시 두께 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 24,000원
239 2012-03-27 11시 12시 thickness 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 24,000원
240 2012-04-02 14시 15시 thickness 측정 포항공과대학교 화학공학과 박세열 16,000원
241 2012-04-04 11시 12시 thickness 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 16,000원
242 2012-04-05 13시 14시 3-4-2 DOP Anneal Thick. Meas. 전자부품연구원 메디컬IT융합 이국녕 30,000원
243 2012-04-05 15시 17시 Thickness 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 32,000원
244 2012-04-11 14시 15시 thickness 측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 16,000원
245 2012-04-11 21시 22시 Thickness 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 30,000원
246 2012-04-13 17시 18시 thickness 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 32,000원
247 2012-04-17 11시 12시 thickness 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 16,000원
248 2012-04-18 12시 13시 thickness 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 16,000원
249 2012-04-21 03시 05시 thicknes 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 20,000원
250 2012-05-01 20시 21시 thickness 측정 포항공과대학교 화학공학과 박세열 16,000원
251 2012-05-02 11시 13시 1-3-3 Thinning Oxidation Thck. Meas. 전자부품연구원 메디컬IT융합 이국녕 60,000원
252 2012-05-02 15시 16시 thicknss 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 16,000원
253 2012-05-02 16시 17시 thickness 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 16,000원
254 2012-05-02 16시 17시 thickness 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 16,000원
255 2012-05-02 17시 19시 1-4-4 Thinning Ox Strip Thick. Meas. 전자부품연구원 메디컬IT융합 이국녕 60,000원
256 2012-05-02 20시 21시 thckness 측정 포항공과대학교 화학공학과 김래호 16,000원
257 2012-05-03 17시 18시 thickness 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 16,000원
258 2012-05-07 15시 16시 thickness 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 16,000원
259 2012-05-08 15시 16시 thickness 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 16,000원
260 2012-05-14 11시 12시 thickness 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 16,000원
261 2012-05-17 11시 12시 thickness 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 16,000원
262 2012-05-17 14시 15시 3-1-2 DOP Anneal Thick. Meas. 전자부품연구원 메디컬IT융합 이국녕 30,000원
263 2012-05-29 15시 16시 thickness 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 16,000원
264 2012-05-30 15시 16시 thickness 측정 포항공과대학교 전자전기공학과 고명동 16,000원
265 2012-06-01 09시 10시 Oxide thickness 및 굴절률 측정 이코니 AMT연구소 정은경 30,000원
266 2012-06-01 14시 15시 RTP 진행 전북대학교 전자공학부 김기현 116,000원
267 2012-06-19 11시 12시 thickness 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 16,000원
268 2012-06-19 20시 21시 thickness 측정 포항공과대학교 화학공학과 박세열 16,000원
269 2012-06-20 13시 14시 thickness 측정 포항공과대학교 화학공학과 박세열 16,000원
270 2012-06-20 19시 20시 thickness 측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 16,000원
271 2012-06-21 19시 20시 thickness 측정 포항공과대학교 화학공학과 박세열 16,000원
272 2012-06-26 10시 11시 thickness 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 16,000원
273 2012-06-26 13시 14시 thickness 측정 포항공과대학교 화학공학과 박세열 16,000원
274 2012-07-02 16시 17시 thickness 측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 16,000원
275 2012-07-11 14시 15시 Index 측정 의뢰 포항공과대학교 전자전기공학과 이원준 24,000원
276 2012-07-27 13시 14시 thickness 측정 포항공과대학교 화학공학과 김래호 16,000원
277 2012-07-29 09시 19시 GK_M01 STD Wafer 엠프리시젼 문우영 420,000원
278 2012-07-29 09시 19시 GK_M01 STD Wafer 엠프리시젼 문우영 420,000원
279 2012-08-03 15시 16시 0-3-1. SOI wafer initail thickness 측정 전자부품연구원 메디컬IT융합 이국녕 0원
280 2012-08-06 16시 17시 0-3-4. Oxidation thickness 측정 전자부품연구원 메디컬IT융합 이국녕 0원
281 2012-08-06 17시 18시 thickness 측정 포항공과대학교 화학공학과 김래호 16,000원
282 2012-08-07 11시 12시 0-4-3. Ox strip 후 Si thickness 측정 전자부품연구원 메디컬IT융합 이국녕 0원
283 2012-08-14 09시 19시 포스코 과제 관련 thickness 측정
(사용 기간은 2013년 8월)		 나노융합기술원 공정지원팀 김동은 1,000,000원
284 2012-08-17 11시 12시 thickness 측정 포항공과대학교 기계공학과 정화평 16,000원
285 2012-08-21 18시 19시 박막 두께 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 10,000원
286 2012-08-22 09시 10시 0-2-3 Oxidation Thick Meas 대구경북과학기술원 에너지연구부 백성호 81,000원
287 2012-08-28 17시 18시 Oxide, Nitride Thickness 측정 포항공과대학교 기계공학과 양성관 24,000원
288 2012-09-04 17시 18시 thickness 측정 포항공과대학교 ITCE 박현진 16,000원
289 2012-09-11 13시 15시 band gab energy 측정 (주)예스파워테크닉스 R&D 양창헌 600,000원
290 2012-09-12 16시 18시 band gab energy (주)예스파워테크닉스 R&D 양창헌 300,000원
291 2012-09-16 10시 11시 band gab energy (주)예스파워테크닉스 R&D 양창헌 300,000원
292 2012-09-17 20시 21시 n,k 측정 포항공과대학교 화학공학과 김래호 16,000원
293 2012-09-19 16시 17시 thickness 측정 포항공과대학교 ITCE 박현진 16,000원
294 2012-09-24 20시 21시 thickness 측정(야간 사용) 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 10,000원
295 2012-09-25 12시 14시 Band gap Energy (주)예스파워테크닉스 R&D 양창헌 600,000원
296 2012-09-27 10시 11시 Band gap Energy (주)예스파워테크닉스 R&D 양창헌 300,000원
297 2012-10-15 18시 19시 Oxide Thickness Meas. 전북대학교 전자공학부 김기현 10,000원
298 2012-10-22 19시 20시 thickness 측정 (야간 사용) 전북대학교 전자공학부 김기현 10,000원
299 2012-11-06 13시 14시 시편 thickness 측정 STX솔라 연구개발팀 최지환 81,000원
300 2012-11-09 13시 14시 Thickness 측정 STX솔라 연구개발팀 최지환 36,000원
301 2012-11-09 15시 16시 thickness 측정 포항공과대학교 기계공학과 정화평 16,000원
302 2012-11-15 15시 16시 0-2-3 Gate Oxidation Thick Meas 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 30,000원
303 2012-11-20 09시 10시 0-4-1. Thinning Oxidation
Thick. Meas.		 (주)아이엠헬스케어 이인제 30,000원
304 2012-11-20 18시 19시 0-3-4 Thinning Oxidation
Thick. Meas.		 (주)아이엠헬스케어 이인제 30,000원
305 2012-11-21 11시 12시 0-4-3 Thinning Oxidation
Thick. Meas.		 (주)아이엠헬스케어 이인제 30,000원
306 2012-11-21 15시 16시 thickness 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 16,000원
307 2012-11-29 09시 10시 0-2-3 Gate Oxidation
Thick Meas		 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 30,000원
308 2012-11-29 14시 15시 SiO2 thickness 측정 STX솔라 연구개발팀 최지환 30,000원
309 2012-12-11 16시 17시 thickness 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 16,000원
310 2012-12-12 11시 12시 thickness 측정 포항공과대학교 기계공학과 정화평 16,000원
311 2012-12-12 13시 14시 0-3-1. Thinning Oxidation
Thick. Meas		 (주)아이엠헬스케어 이인제 30,000원
312 2012-12-13 15시 16시 3-4-3 DOP Anneal
Thick. Meas.		 (주)아이엠헬스케어 이인제 30,000원
313 2012-12-13 16시 17시 thickness 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 16,000원
314 2012-12-17 10시 11시 0-3-4. Thinning Oxidation
Thickness Meas.		 (주)아이엠헬스케어 이인제 30,000원
315 2012-12-17 17시 18시 0-4-3. Thinning Ox Strip
Thickness Meas.		 (주)아이엠헬스케어 이인제 30,000원
316 2012-12-18 12시 13시 thickness 측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 16,000원
317 2012-12-19 15시 16시 thickness 측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 16,000원
318 2012-12-21 13시 14시 SiO2 두께 측정 STX솔라 연구개발팀 최지환 90,000원
319 2012-12-26 17시 18시 3-4-3 DOP Anneal
Thick. Meas.		 (주)아이엠헬스케어 이인제 30,000원
320 2013-01-03 13시 14시 SiO2 thickness 측정 STX솔라 연구개발팀 최지환 240,000원
321 2013-01-03 15시 16시 SiC 과제 관련 Gate Oxidation thickness 측정 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 40,000원
322 2013-01-03 18시 19시 Ox Meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 90,000원
323 2013-01-08 15시 16시 1-2-2 Etch Thickness Meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 240,000원
324 2013-01-14 10시 11시 SiO2 파장별 굴절률 측정 이코니 AMT연구소 정은경 108,000원
325 2013-01-22 15시 17시 thickness 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 32,000원
326 2013-01-25 14시 16시 두께 측정 포항공과대학교 화학공학과 배두식 48,000원
327 2013-01-28 18시 19시 SiC MOSFET Process 단위 공정 평가_ P-Doped Poly-Si (DOE)
: Resistivity, Rs Uniformity 등 공정결과에 주요한 영향을 미치는 인자를 선별(Screening Test)
-Thickness Measurment(4inch_10mmEE_13pt) 8매		 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 240,000원
328 2013-02-01 17시 18시 ZrO2 두께 측정 포항공과대학교 화학공학과 원동찬 16,000원
329 2013-02-04 18시 19시 0-2-3 Gate Ox Meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 120,000원
330 2013-02-05 15시 16시 thickness 측정 포항공과대학교 화학공학과 원동찬 16,000원
331 2013-02-05 16시 16시 0-2-3. Gate Oxidation
Thickness Meas.		 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 30,000원
332 2013-02-07 10시 11시 1-2-2 Cont Etch_Meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 120,000원
333 2013-02-07 11시 12시 Electro Plating 제작
1-1-2. Oxidation Thickness 측정		 포항공과대학교 전자전기공학과 김지원 96,000원
334 2013-02-12 15시 16시 LE05 MET1 Etch Test 0-1-2 Thick Meas WF01~05 (5매) LG이노텍 차세대소자개발팀 서덕원 150,000원
335 2013-02-13 13시 14시 thickness 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 20,000원
336 2013-02-14 20시 21시 thickness 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 10,000원
337 2013-02-15 13시 14시 thickness 측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 16,000원
338 2013-02-27 13시 14시 SiO2 Thickness 측정 STX솔라 연구개발팀 최지환 135,000원
339 2013-03-01 1시 12시 산화막, 절연체, 얅은박막, 도핑박막 측정 전자과 이정수교수님 Lab. 1년사용료 전북대학교 전자공학부 김기현 2,400,000원
340 2013-03-19 13시 14시 LE07 PE-Ox M1OP Etch Test (0-2-2) 1st IMD Depo Thick Meas WF01~03 3매 LG이노텍 차세대소자개발팀 서덕원 90,000원
341 2013-03-19 15시 16시 Ox thickness 측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 16,000원
342 2013-04-10 11시 12시 LE10 Etch Polymer Test (0-2-2) 1st IMD Depo Thick Meas. 2매 LG이노텍 차세대소자개발팀 서덕원 60,000원
343 2013-05-13 16시 18시 LT05 ILD PE-Ox의 DHF Damage 평가 (1-1-2), (2-1-2) Thick. Meas. Ellipsometer DHF Etch 전후 7회 Total 14회 LG이노텍 차세대소자개발팀 서덕원 420,000원
344 2013-05-14 16시 17시 LT07 PE-Ox Reproducibility (1-1-3), (2-1-2), (3-1-3), (4-1-2) Thick. Meas. Ellipsometer
300/350C 조건별 4매를 DHF 전후 THK 측정 총16회		 LG이노텍 차세대소자개발팀 서덕원 480,000원
345 2013-06-14 13시 14시 L25-1 ILD First Full Run_6차 (6-5-2) 2nd IMD Depo Thick Meas 총 1매 1회 LG이노텍 차세대소자개발팀 서덕원 30,000원
346 2013-06-24 15시 16시 L26 ILD First Full Run_6차 (6-5-1) 2nd IMD Depo PE-Nit Depo. 총 1매 회 LG이노텍 차세대소자개발팀 서덕원 30,000원
347 2013-07-02 10시 11시 LT06 Al2O3 BV Measurement (2-1-2) Thick. Meas. WF01~05 5매 LG이노텍 차세대소자개발팀 서덕원 150,000원
348 2013-07-08 14시 15시 물질 Refractive Index 측정 포항공과대학교 전자전기공학과 이원준 24,000원
349 2013-07-12 18시 18시 L28 ILD First Full Run_7차 (6-5-2) 2nd IMD Depo Thick Meas 1회 LG이노텍 차세대소자개발팀 서덕원 30,000원
350 2013-07-19 15시 16시 물질 상수 측정 포항공과대학교 전자전기공학과 이원준 24,000원
351 2013-07-19 17시 18시 L29 Ohmic First Full Run_1차 (5-4-3) GOX ALD Thick. Meas. 총1회 1매 LG이노텍 차세대소자개발팀 서덕원 30,000원
352 2013-07-29 17시 18시 L02S Starting wafer 제작 (0-1-3) Thick. Meas. WF12,13 2매 LG이노텍 차세대소자개발팀 서덕원 60,000원
353 2013-07-30 11시 12시 L29 Ohmic First Full Run_1차 (6-7-2) 2nd IMD Depo Thick Meas(OP3260) WF24 1매 LG이노텍 차세대소자개발팀 서덕원 30,000원
354 2013-09-04 13시 17시 0-3-1 Thinning Oxidation Thickness Meas.(initial)
0-3-4 Thinning Oxidation Thickness Meas.(Oxidation)
0-4-3 Thinning Oxidation Thickness Meas.(BOE)		 (주)아이엠헬스케어 이인제 90,000원
355 2013-09-15 18시 19시 TEOS 두께 측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 14,000원
356 2013-09-27 16시 17시 PR 두께측정
 포항공과대학교 신소재공학과 홍현영 21,000원
357 2013-10-01 21시 22시 As ion implant 공정 진행 된 웨이퍼의 masking layer의 정확한 제거를 위하여 dHF 를 이용한 식각 도중 elipsometer를 이용하여 TEOS 층의 두께를 모니터링 하고자 합니다. 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 14,000원
358 2013-10-02 14시 15시 BioFET 제작에 있어 As 도핑은 전송선로의 저항을 줄이는 중요 기술입니다. 도핑을 위하여 실리콘 영역 위에 SiN을 증착시켜 As 이온이 빠져나가는 것을 막고, IIP hardmask 형성의 식각저지층으로 사용합니다. 본 실험은 IIP이후 기 증착된 SiN층 제거를 위한 두께 모니터링 공정으로 정확한 식각을 수행하고자 합니다. 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 14,000원
359 2013-10-07 08시 09시 <1차 나노스케일 High-K 산화막 최적화 실험(7월 장비사용료 청구)>
1. 실험 기간 : 7/10~7/31
2. 실험 및 장비 사용 내역
- Temperature Window Test: Thickness Meassurement 6회
- Thickness Control(Conformality) Test: Thickness Meassurement 4회
- Growth rates(TMA exposure time) Test: Thickness Meassurement 4회
- Growth rates(Reactant exposure time) Test: Thickness Meassurement 4회		 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 432,000원
360 2013-10-08 11시 12시 Nanowire 패턴에 옥사이드를 성장시키기 위하여 RTP를 하는데 이 때 결과 확인을 위하여 ellipsoometer를 측정함 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 14,000원
361 2013-10-11 15시 16시 3-4-3 DOP Anneal Thick. Meas. (주)아이엠헬스케어 이인제 30,000원
362 2013-10-14 08시 09시 <1차 나노스케일 High-K 산화막 최적화 실험(8월 장비사용료 청구)>
1. 실험 기간 : 8/1~8/30
2. 실험 및 장비 사용 내역
- SIMS measurement Test: Thickness Measurement 3회		 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 72,000원
363 2013-10-15 9시 10시 Measurement_Oxide Thickness LG이노텍 선행개발팀 조희진 90,000원
364 2013-10-18 14시 15시 L31 ILD First Full Run_9차 Thick. Meas. S.E 1회 1매 LG이노텍 차세대소자개발팀 서덕원 30,000원
365 2013-10-21 08시 09시 <1차 나노스케일 High-K 산화막 최적화 실험(9월 장비사용료 청구)>
1. 실험 기간 : 9/1~9/27
2. 실험 및 장비 사용 내역
- Recipe 변경 Test: Thickness Measurement 4회
- BV Measurement Test: Thickness Measurement 3회		 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 168,000원
366 2013-10-29 17시 18시 SC10 Well Hard Mask Module 개발 ILD Depo. Thick Meas 총3회 3매 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 72,000원
367 2013-11-05 16시 17시 Oxide Measurement LG이노텍 선행개발팀 이계진 180,000원
368 2013-11-05 9시 16시 0-3-1 Thining Oxidation Thick. Meas. 5회
0-3-4 Thining Oxidation Thick. Meas. 5회
0-4-3 Thining Oxidation Thick. Meas. 5회		 (주)아이엠헬스케어 이인제 450,000원
369 2013-11-06 13시 14시 SiC 측정 한국전기연구원 전력반도체연구단 차세대반도체연구센터 문정현 27,000원
370 2013-11-11 15시 16시 SiO2 on SiC 한국전기연구원 전력반도체연구단 차세대반도체연구센터 문정현 27,000원
371 2013-11-15 10시 12시 1. Galss 위에 SiO2 3000A 증착 된 시편8개의 박막두께확인 및 ,파장대별 굴절율(n)소멸 계수(k) 측정
2. Gass 위에 TiO2 3000A 증착된 시편8개의 박막 두께 확인 및 파장대별 굴절율(n), 소멸 계수(k) 측정

측정결과
1. SiO2시편의 박막두께는 전부 예상치 3000A 로 측정 되었으며, 각 파장대별 굴절률 값이 나왔으나 소멸계수는 전부 0으로 나옴
2. TiO2시편의 박막 두께는 전부 예상치 3000A로 측정되었으나 MSE가 높게 나와 신뢰성이 떨어짐. 표면 거칠기에 따른 영향으로 보여짐
각 파장대별 굴절률 값이 나왔으나 소멸계수는 전부 0으로 나옴. 이또한 표면 거칠기에 따른 영향으로 보여짐		 이코니 AMT연구소 정은경 480,000원
372 2013-11-18 11시 12시 L32 ILD First Full Run_10차 Fab-in Thick. Meas. 총 1매 1회 LG이노텍 차세대소자개발팀 서덕원 30,000원
373 2013-11-19 12시 13시 3-4-3 DOP Anneal Thick. Meas. 150A Tset (주)아이엠헬스케어 이인제 30,000원
374 2013-11-19 14시 15시 Hard mask를 지운 것을 확인하기 위해서 oxide 표면 두께를 측정하고자 합니다. 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 14,000원
375 2013-11-21 16시 17시 인산을 이용한 식각 중 SiN층의 두께를 모니터링을 일립소미터를 이용하여 시행함. 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 14,000원
376 2013-12-04 15시 16시 PE-CVD Oxdie 증착후, 두께 확인 한국전기연구원 전력반도체연구단 차세대반도체연구센터 문정현 27,000원
377 2013-12-05 10시 11시 Thick. meas. 한국전기연구원 전력반도체연구단 차세대반도체연구센터 문정현 27,000원
378 2013-12-06 11시 12시 0-3-1 SOI WF Initial Thick.
0-3-4 Thining Ox Thick.
0-4-3 Strip Ox Thick.		 (주)아이엠헬스케어 이인제 90,000원
379 2013-12-16 9시 10시 1-1-3 Gate Oxidation Thick. Meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 24,000원
380 2013-12-18 10시 12시 SiO2 on SiC 한국전기연구원 전력반도체연구단 차세대반도체연구센터 문정현 27,000원
381 2013-12-19 13시 16시 SC22 High-K 최적화 (1-1-2) Gate Oxide Deposition Measurement, Al2O3 13pts 12매 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 288,000원
382 2013-12-24 13시 16시 SC22 High-K 최적화 (1-4-4) Gate Oxide Anneal Measurement, Al2O3 half 9pts, 12매 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 288,000원
383 2013-12-24 16시 18시 SC-11 Poly Rs 최적화 Test (1-2-2) Gate Poly-Si Depo. Thickness measurement 14매 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 336,000원
384 2013-12-26 15시 17시 SiC Thickness. Meas.(임채용) 한국전기연구원 전력반도체연구단 차세대반도체연구센터 문정현 54,000원
385 2014-01-03 17시 18시 1-1-3 Gate Oxidation Thick. Meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 24,000원
386 2014-01-06 11시 12시 E1 wafer Sac ox thickness monitoring 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 14,000원
387 2014-01-06 13시 14시 SC-14 Poly Rs 최적화 Test 2차 (1-2-1) Gate Poly-Si Depo. Thickness Measurement 8매 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 192,000원
388 2014-01-07 17시 18시 Top Si 두께 측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 14,000원
389 2014-01-08 10시 11시 3-4-3 DOP Anneal Thick. Meas. (주)아이엠헬스케어 이인제 30,000원
390 2014-01-08 11시 12시 Gate metal deposition 이전 Gox 제거 공정 수행 중 oxide 두께 모니터링 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 14,000원
391 2014-01-09 10시 11시 SC-12 Contact Metal Module Test(구조 run) (4-13-2) Gate Poly-Si Depo. Thick. Measure. 10매 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 240,000원
392 2014-01-16 10시 11시 SC15 P-Doped Poly Rs 재현성 Test (1-2-3) Gate Poly-Si Depo.Thickness Measurement 8매 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 192,000원
393 2014-01-16 9시 11시 Al2O3 2매, SiON 5매 Thickness Measurement 삼성종합기술원 TFTU 박용영 210,000원
394 2014-01-20 11시 12시 SC23 Gate Oxide 최적화 (1-2-2) Gate ALD deposit Thickness Measurement 3매 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 72,000원
395 2014-01-20 15시 16시 SC23 Gate Oxide 최적화 (1-4-4) Gate oxide Anneal Thickness measurement 3매 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 72,000원
396 2014-01-20 17시 19시 Hall effect Measure Sample Test
(2-1-3) Sac Ox Thick Measurement 6회
(2-1-4) Sac Ox Remove Thick Measurement 6회		 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 288,000원
397 2014-01-20 9시 10시 SC23 Gate Oxide 최적화 (1-1-2) Gate Thin Ox , 850C, O2, Thin-Ox Thickness Measurement 3매 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 72,000원
398 2014-01-23 14시 18시 SC13 Gate Module Test Run
(0-6-3) Gate Oxidation 4매
(0-6-4) Oxide Depo.(ALD) 1매
(0-7-2) Gate Poly-Si Depo. 4매
 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 216,000원
399 2014-01-23 9시 10시 SC13 Gate Module Test Run (0-2-3) (0-3-2) (0-4-3) (0-5-2) Sac. Oxidation-1,2, Sac. Ox-1,2 Strip Thickness Measurement 4회
(0-6-3) Gate Oxidation Thickness Measurement 1회		 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 120,000원
400 2014-01-27 15시 16시 193nm의 굴절률(N,K) 및 두께측정을 의뢰드립니다.

추가적인 비용이 발생하지 않는다면 248nm에서 굴절률 및 두께측정도 부탁드립니다.

Sample정보: 스핀코터를 사용하여 실리콘웨이퍼에 유기폴리머를 코팅한 Sample이며, 유기재료는 합성을 통해 올려진 고분자폴리머 입니다.
--> Wafer위에 여러 종류의 유기 폴리머 증착 되어 있는 시편에 대하여 두께는 n,k값을 측정함
 DCT Material S-B DCT Material 180,000원
401 2014-01-28 11시 13시 저온 PE-SiON Split Test(RF, Gas, Pressure) Thickness & RI measurement 15매 삼성종합기술원 TFTU 박용영 450,000원
402 2014-02-03 13시 14시 0-2-3 Thickness Measurement 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 24,000원
403 2014-02-06 10시 11시 2-5-2 PWEL Thickness Meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 24,000원
404 2014-02-06 16시 18시 SC24 Low Temp High-K (1-1-2) Gate oxide deposit Measurement 6매 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 144,000원
405 2014-02-06 17시 18시 2-6-3 Thickness Meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 48,000원
406 2014-02-10 13시 14시 3-5-2 P+ Thickness Meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 48,000원
407 2014-02-10 17시 18시 3-6-3 N+ Mask Thickness Meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 48,000원
408 2014-02-12 17시 18시 4-5-2 Thickness Meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 48,000원
409 2014-02-13 15시 18시 PE-CVD : 저온 SiON 3차 실험 完(2/10~13)
-Split(Gas, RF Power) Test 18매
-Thickness, RI & Stress measurement
 삼성종합기술원 TFTU 박용영 540,000원
410 2014-02-14 17시 18시 4-8-3 Thickness Meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 48,000원
411 2014-02-17 10시 11시 4-9-2 Thickness Meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 48,000원
412 2014-02-17 14시 15시 4-10-3 Thickness Meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 48,000원
413 2014-02-17 16시 17시 4-11-2 thickness Meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 48,000원
414 2014-02-18 9시 10시 4-12-3 Thickness Meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 48,000원
415 2014-03-03 13시 14시 1-2-2 Thickness Meas. 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 42,000원
416 2014-03-03 17시 18시 2-6-2 Thickness Measurement 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 42,000원
417 2014-03-04 14시 15시 Si-sub / SiO2 (300nm) /undoped poly-Si (200nm) /SiO2 (CVD 방식으로 5nm) /Pt (150nm) 형태의 구조
Thickness measurement 3회		 포항공과대학교 화학공학과 박진주 48,000원
418 2014-03-10 14시 15시 4-2-2 Thickness Measurement 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 34,000원
419 2014-03-11 15시 16시 2-3-2 Thickness Meas. 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 48,000원
420 2014-03-12 13시 14시 두께측정
Oxide thickness meas.		 그린사이언스 기술지원팀 옥창우 40,000원
421 2014-03-14 11시 12시 두께 측정 그린사이언스 기술지원팀 옥창우 40,000원
422 2014-03-17 14시 16시 두께 측정 그린사이언스 기술지원팀 옥창우 40,000원
423 2014-03-20 15시 18시 PE-SiON 4차 THK & RI Measurement 20 매 삼성종합기술원 TFTU 박용영 600,000원
424 2014-04-01 10시 11시 두께 측정 그린사이언스 기술지원팀 옥창우 40,000원
425 2014-04-14 14시 15시 박막두께 측정 그린사이언스 기술지원팀 옥창우 40,000원
426 2014-04-14 16시 17시 1-1-2 Oxide Thickness Measurement
- Thermal Oxide Thickness 측정
- 13point
 디지탈지노믹스 연구2팀 김수진 300,000원
427 2014-04-15 16시 17시 BiO FET_1차 Test RUN (1-2-2) PE-Oxide Depo 200A Thickness measurement 1매 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 14,000원
428 2014-04-15 17시 18시 Tunnel oxide defect test (0-1-5)PAD oxide, (0-2-3)Channel Doped Poly Depo.,(0-4-3) Tunnel oxide thickness Measurement 3회 포항공과대학교 화학공학과 박진주 48,000원
429 2014-04-18 14시 15시 Bio FET_1차 Test Run 1-5-2 Hard Mask Thick. Meas. 총 1매 1회 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 14,000원
430 2014-04-28 13시 14시 SiC 2차 Test run (0-2-4)Initial Oxide Thick Meas 총 1매 1회 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 14,000원
431 2014-05-08 18시 18시 Bio FET_2차 Test run (1-2-2) Active formation Thick. Meas. 총1매 1회 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 34,000원
432 2014-05-09 10시 11시 Top Si Meas. 그린사이언스 기술지원팀 옥창우 40,000원
433 2014-05-13 14시 15시 1-5-2 Hard Mask Thick Meas 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 14,000원
434 2014-05-15 13시 14시 2-4-2 Anneal Thick. Meas. 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 34,000원
435 2014-05-16 10시 11시 c-Si / thermal oxide(100nm) / a-Si
superk0911@gmail.com		 그린사이언스 기술지원팀 옥창우 80,000원
436 2014-05-16 15시 18시 1-5-1 Thickness Measurement RTP 전/후 THK & RI Measurement 16회 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 244,000원
437 2014-05-21 16시 17시 1-1-2 Oxide Thickness Measurement - Thermal Oxide Thickness 측정 - 13point 디지탈지노믹스 연구2팀 김수진 240,000원
438 2014-05-23 10시 12시 3-5-2 Thick. Meas.
3-6-2 Thick. Meas.		 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 68,000원
439 2014-05-26 9시 10시 3-7-2 Gate Oxide Meas. 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 34,000원
440 2014-05-29 10시 11시 300nm 산화 측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 34,000원
441 2014-05-29 16시 17시 실리콘 8인치 웨이퍼 4매
5/29 LP-CVD n-poly Si 50nm 2장, poly Si 50nm 2장 + E.S 두께 측정		 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 56,000원
442 2014-05-30 12시 14시 Wet, 50A, 2m
SiO2 on n-doping poly-si
SiO2 on poly-si
Oxidation thick. meas.		 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 34,000원
443 2014-06-05 14시 16시 4-13-2 Gate Poly-Si Depo. Thick. Meas.(Gate Ox 1매, Poly-Si 선행 포함 4매) 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 160,000원
444 2014-06-10 10시 12시 1-1-2 Gate oxide deposit Measurment Ellipsometer 16매 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 244,000원
445 2014-06-10 14시 15시 1-1-7 Gate Thick. meas. 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 102,000원
446 2014-06-10 16시 18시 1-2-3 Gate oxide deposit Measurment Ellipsometer 16매 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 244,000원
447 2014-06-16 14시 15시 0-2-3 두께측정Ellipsometer Measurement Thick Average = SiN 6807 / SiO2 5218A 40,000원
448 2014-06-16 14시 15시 3-5-2 P+ Mask Remove Thick. Meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
449 2014-06-16 15시 16시 dry oxide thick. meas. 50A 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 34,000원
450 2014-06-23 10시 11시 1-1-7 oxide thick. meas. 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 34,000원
451 2014-06-24 18시 19시 4-5-2 N+ Mask Remove Thick. Meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 112,000원
452 2014-07-01 17시 17시 0-2-4 Initial Oxide Thick Meas 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 14,000원
453 2014-07-07 15시 16시 Thickness Measurement ☆측정 결과 저장
포항공과대학교 기술지원팀 최경근 48,000원
454 2014-07-08 14시 14시 1-4-4 PWEL Mask Formation Thick Meas 1매 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 14,000원
455 2014-07-10 14시 15시 pe-oxide meas. 포항공과대학교 화학공학과 박진주 36,000원
456 2014-07-11 10시 11시 thermal-oxide 1000A meas. 포항공과대학교 화학공학과 박진주 36,000원
457 2014-07-16 11시 12시 3-7-2 gate oxide thick. meas. 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 34,000원
458 2014-07-24 10시 11시 oxide thick. meas. 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 34,000원
459 2014-07-28 9시 10시 glass, Si wafer 위에 증착된 ITO박막 두께 및 굴절율 측정 그린사이언스 기업부설연구소 장현석 54,000원
460 2014-08-01 15시 16시 (4-13-2) Gate Oxide Thickness Measurement 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
461 2014-08-01 16시 17시 SOI 두께 측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 27,000원
462 2014-08-01 18시 19시 (4-13-2) Gate Poly-Si Depo. Thickness Measurement 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
463 2014-08-06 14시 15시 SOI WF 두께 확인 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 34,000원
464 2014-08-08 10시 14시 SOI sac ox test
선행 2회(1400A, 1600A)
본런 2회 측정(산화 전.후, TP, sac ox strip)
산화 전 (top si 1000A, box 4000A)
산화 후 (sio2 1600A, top si 250A)
sac ox strip (top si 250A)		 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 136,000원
465 2014-08-08 15시 16시 5-4-5 ILD Depo. thickness measurement 1회 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
466 2014-08-11 13시 14시 2-5-2 Pwell Mask Remove Thick. Meas 1회 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
467 2014-08-11 16시 17시 2-6-3 P+ Mask Depo Thick Meas 1회 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
468 2014-08-11 16시 17시 doning WF 50A NO Furnace meas.
57A		 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 34,000원
469 2014-08-12 10시 11시 glass와 Si 기판위에 증착된 ITO 박막 두께 및 굴절율 측정 그린사이언스 기업부설연구소 장현석 84,000원
470 2014-08-12 15시 16시 thickness monitoring 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 27,000원
471 2014-08-12 17시 18시 Gate Ox(NO Furnace 50A) 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 34,000원
472 2014-08-12 9시 10시 doping wafer oxidation 50A meas.
avg : 56.4(3.4%)		 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 34,000원
473 2014-08-13 10시 13시 SOI wafer native ox remove meas. 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 48,000원
474 2014-08-19 11시 12시 3-5-2 P+ Mask Remove Thick. Meas 1회 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
475 2014-08-20 17시 18시 4-5-2 N+ Mask Remove Thick. Meas 1회 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
476 2014-08-20 9시 10시 Glass 기판위에 증착된 ITO 박막 두께 및 굴절율 측정 그린사이언스 기업부설연구소 장현석 38,000원
477 2014-08-22 18시 19시 SC33_ Sac oxide 두께 측정 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 28,000원
478 2014-08-22 19시 20시 SC33_ Sac oxide remove 후 remain oxide 확인 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 28,000원
479 2014-08-26 16시 17시 4-13-2 Gate Poly Si-Depo Thick. Meas 1회 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
480 2014-08-26 18시 19시 SC33_Gate oxidation 후 두께 측정 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 28,000원
481 2014-09-01 10시 11시 Glass 기판 위에 증착된 ITO 박막의 두께와 굴절률 측정 그린사이언스 기술지원팀 옥창우 40,000원
482 2014-09-03 11시 12시 AL203 SPM 데미지 테스트 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 48,000원
483 2014-09-04 14시 15시 Glass 기판 위에 증착된 ITO 박막의 두께 및 굴절율 측정 그린사이언스 기술지원팀 옥창우 20,000원
484 2014-09-04 15시 16시 두께 측정 Nano Electronic Materials & Devices Lab, Prof. Jang-Sik Lee Materials Science & Engineering Masoud Akbari 76,000원
485 2014-09-11 14시 15시 두께 측정 Nano Electronic Materials & Devices Lab, Prof. Jang-Sik Lee Materials Science & Engineering Masoud Akbari 56,000원
486 2014-09-12 11시 12시 3000A 두께측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 34,000원
487 2014-09-16 13시 14시 0-2-4 initial oxide thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
488 2014-09-19 15시 16시 1-4-4 PWEL mask formation thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
489 2014-09-22 10시 11시 2-5-2 pwel mask remove thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
490 2014-09-22 14시 15시 2-6-3 p mask depo. thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
491 2014-09-23 10시 11시 3-5-2 p mask remove thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
492 2014-09-23 12시 13시 2-2-2 hard mask thick. meas. 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 34,000원
493 2014-09-23 14시 15시 0-2-3 thick. meas. 60,000원
494 2014-09-24 10시 11시 4-5-2 n mask remove thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
495 2014-09-25 10시 11시 Glass 기판 위에 증착된 ITO 박막의 두께 및 굴절율 측정 그린사이언스 기업부설연구소 장현석 54,000원
496 2014-09-25 11시 12시 4-9-2 sac. ox strip thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 48,000원
497 2014-09-25 14시 15시 4-13-2 gate oxide thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
498 2014-09-25 16시 17시 4-13-2 gate poly-si depo. thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
499 2014-09-25 20시 21시 4-8-3 sac. oxidation thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 48,000원
500 2014-09-26 17시 18시 5-4-4 ild depo. thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
501 2014-09-29 12시 13시 0-2-4 initial oxide thck. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
502 2014-09-29 14시 15시 0-2-3 절연막 증착 두께 측정 나노융합기술원 기술지원팀 강민재 120,000원
503 2014-09-29 15시 16시 Glass 기판 위에 PR 증착 물질의 파장대별 n,k값 및 두께 측정
Glass 기판은 총 3개 진행을 함
관련 Data는 담당자에게 이메일로 송부함.		 DCT Material S-B DCT Material 60,000원
504 2014-10-02 11시 11시 Glass 기판 위에 증착된 ITO 박막의 두께 및 굴절율 측정 그린사이언스 기업부설연구소 장현석 72,000원
505 2014-10-06 13시 13시 Glass 기판 위에 증착한 ITO 박막의 두께 및 굴절율 측정 그린사이언스 기업부설연구소 장현석 126,000원
506 2014-10-06 15시 16시 poly-si, al2o3, sio2 BOE 10: 1 Etch test
dipping 전,후 		포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 118,000원
507 2014-10-07 11시 12시 2-1-2 IIP thick. meas. 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 76,000원
508 2014-10-07 17시 18시 1-4-4 AKEY PWEL Mask formation thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
509 2014-10-08 12시 15시 poly BOE etch test 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 132,000원
510 2014-10-08 17시 18시 0-2-3 두께 측정 60,000원
511 2014-10-16 16시 17시 Al2O3 Anneal Test (Al2O3 Etch Test)
Anneal 및 Etch 후 thickness 측정
 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 76,000원
512 2014-10-17 11시 12시 Al2O3 Anneal Test (Al2O3 Etch Test) - 2차 Test
Anneal 및 etch 후 두께 측정		 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 90,000원
513 2014-10-17 11시 12시 al2o3 anneal etch test 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 34,000원
514 2014-10-20 11시 12시 2-5-2 Pwell mask remove thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
515 2014-10-20 14시 15시 2-6-3 p+ mask depo. thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
516 2014-10-21 10시 11시 3-5-2 p+ mask remove thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
517 2014-10-21 11시 12시 4-5-2 n+ mask remove thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
518 2014-10-21 14시 15시 al2o3 etch test 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 34,000원
519 2014-10-22 10시 11시 al2o3(anneal) etch test 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 34,000원
520 2014-10-22 16시 17시 al2o3(anneal) etch spm 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 34,000원
521 2014-10-23 15시 16시 al2o3(anneal) etch thick. meas. 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 34,000원
522 2014-10-23 9시 10시 5-1-4 Gate Oxide
Thickness meas.		 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 76,000원
523 2014-10-24 17시 18시 al2o3(anneal) dhf etch thick meas. 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 34,000원
524 2014-10-24 18시 19시 4-8-3 Sac. oxidation -1
Thickness Meas.		 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 48,000원
525 2014-10-27 10시 11시 4-9-2 Sac. Ox-1 Srip
Thickness Meas.		 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 48,000원
526 2014-10-27 15시 16시 4-13-2 gate poly-si depo. thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
527 2014-10-28 13시 14시 5-4-4 contact ild depo. thick. meas 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
528 2014-10-28 14시 15시 SiO2 두께 측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 27,000원
529 2014-10-28 16시 17시 0-1-4 pad oxide thick. meas. 포항공과대학교 화학공학과 송홍선 36,000원
530 2014-10-28 9시 10시 4-12-2 Gate Oxide
Thickness Meas.		 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 48,000원
531 2014-10-29 11시 12시 0-3-3 tunnel oxide thick. meas. 포항공과대학교 화학공학과 송홍선 36,000원
532 2014-10-29 18시 19시 0-2-2 channel undoped poly depo. thick. meas. 포항공과대학교 화학공학과 송홍선 36,000원
533 2014-11-04 10시 12시 al2o3 20nm thick. meas
al2o3 20nm anneal thick. meas		 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 104,000원
534 2014-11-04 14시 15시 al2o3(anneal) dhf etch thick meas. 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 104,000원
535 2014-11-04 17시 18시 0-2-4 initial oxide thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
536 2014-11-10 10시 11시 thermal-ox boe etch test thick. meas. 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 48,000원
537 2014-11-14 15시 16시 1-4-4 akey pwel mask formation thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
538 2014-11-17 11시 12시 1-2-2 IPP thick. meas 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 48,000원
539 2014-11-17 11시 12시 1-2-2 IPP thick. meas. 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 62,000원
540 2014-11-19 10시 11시 2-5-2 pwell mask remove thick. meas.
포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
541 2014-11-19 11시 12시 2-6-3 p+ mask depo. thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
542 2014-11-19 15시 16시 Measure the thickness of Al2O3 or HfO2 deposited on SiO2/Si Nano Electronic Materials & Devices Lab, Prof. Jang-Sik Lee Materials Science & Engineering Masoud Akbari 76,000원
543 2014-11-19 15시 16시 Measure the thickness of Al2O3 or HfO2 deposited on SiO2/Si Nano Electronic Materials & Devices Lab, Prof. Jang-Sik Lee Materials Science & Engineering Masoud Akbari 76,000원
544 2014-11-19 16시 17시 BIOFET 2차 1-3-6 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 42,000원
545 2014-11-19 17시 17시 BIOFET 3차 1-3-4 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 28,000원
546 2014-11-21 10시 11시 3-5-2 p+ mask remove thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
547 2014-11-24 10시 11시 4-5-2 n+ mask remove thick. meas 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
548 2014-11-25 16시 17시 1-2-2 protect mask thick. meas. 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 34,000원
549 2014-11-25 16시 17시 4-8-3 Sac Oxidation
Thickness Meas.		 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
550 2014-11-26 12시 13시 4-13-3 gate poly-si depo. thick .meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
551 2014-11-26 16시 17시 4-13-2 Gate Oxidation
Thickness Meas.		 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
552 2014-11-26 16시 17시 1-3-6 ION implantation (BioFET 2차 추가분)
Thickness Meas.		 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 34,000원
553 2014-11-27 14시 15시 5-4-4 cont ild depo. thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
554 2014-12-01 11시 12시 4-13-2 Gate
Thick,meas S.E		 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 14,000원
555 2014-12-01 18시 19시 4-13-2 gate poly-si depo. thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
556 2014-12-01 19시 20시 4-13-2 gate oxide thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
557 2014-12-01 20시 21시 4-13-2 gate poly-si depo. thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
558 2014-12-03 11시 12시 5-4-4 cont ild depo. thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
559 2014-12-04 13시 14시 전기적 특성 검토를 위한 Sample 제작
SiO2 및 Al2O3 증착 후 Layer별 Thickness 측정
측정 결과 SiO2 1500A, Al2O3는 500A 측정 됨 (평균 thickness)
 (주)피코셈 관리 김용국 300,000원
560 2014-12-10 13시 14시 0-2-4 initial oxide thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
561 2014-12-10 16시 18시 0-2-3 thick meas. SiO2 2회/SiN 2회 100,000원
562 2014-12-11 11시 12시 4-5-2 n+ mask remove thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
563 2014-12-12 12시 13시 4-13-2 GATE
Thick,meas S.E		 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 28,000원
564 2014-12-12 14시 15시 4-9-2 Sac Oxidation-1 Strip
Thick.meas S.E		 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 28,000원
565 2014-12-12 14시 15시 4-8-3 Sac Oxidation-1
Thick measure S.E		 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 28,000원
566 2014-12-12 17시 18시 4-13-2 gate poly0si depo. thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
567 2014-12-15 18시 19시 5-4-4 cont ild depo. thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
568 2014-12-16 17시 18시 1-4-4 akey pwel mask formation thick. meas 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
569 2014-12-19 10시 11시 2-5-2 pwell mask remvoe thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
570 2014-12-19 12시 13시 2-6-3 p+ mask depo. thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
571 2014-12-22 12시 13시 3-5-2 p+ mask remove thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
572 2014-12-23 11시 12시 0-1-5 pad oxide thick. meas. 포항공과대학교 화학공학과 송홍선 36,000원
573 2014-12-23 13시 14시 0-2-3 절연막 증착 두께 측정 40,000원
574 2014-12-23 13시 14시 0-2-3 sub poly channel undoped poly depo. thick. meas.
 포항공과대학교 화학공학과 송홍선 36,000원
575 2014-12-24 11시 12시 4-5-2 n+ mask remove thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 35,000원
576 2014-12-24 13시 14시 1-2-2 gate oxide meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 48,000원
577 2014-12-26 16시 17시 4-8-3 Sac Oxidation
Thickness Meas.		 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 33,600원
578 2014-12-26 16시 17시 4-9-2 Sac Ox Strip
Thickness Meas		 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 48,000원
579 2014-12-26 18시 19시 4-13-2 gate poly-si depo. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
580 2014-12-27 9시 10시 4-13-2 Gate Ox
Thickness Meas.		 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 48,000원
581 2014-12-29 13시 14시 5-4-4 cont ild depo. thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
582 2014-12-30 14시 14시 4-2-2 S.E Elipso pattern thickness 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 0원
583 2014-12-30 14시 14시 4-2-2 S.E Elipso pattern thickness 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 0원
584 2014-12-30 14시 15시 5-2-3 S.E (Elipso pattern thickness 9p) 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 0원
585 2015-01-02 10시 11시 6-2-2- passi layer depo. thick. meas. 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 0원
586 2015-01-02 11시 12시 SiO2 두께 측정 포항공과대학교 전자전기공학과 김동훈 27,000원
587 2015-01-08 10시 12시 1. Silicon wafer 산화두께 측정 (SiO, SiO2)
2. Copper sampler 산화두께 측정 (CuO, Cu2O)		 포항공과대학교 기계공학과 서창호 96,000원
588 2015-01-27 16시 17시 1-2-2 gate oxide meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
589 2015-01-27 9시 10시 1-1-2 gate oxide meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
590 2015-02-02 14시 14시 박막 두께 측정 포항공과대학교 화학공학과 김래호 27,000원
591 2015-02-03 10시 12시 1-1-2 metal meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
592 2015-02-03 16시 17시 2-1-2 insulator meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
593 2015-02-03 18시 19시 2-2-2 insulator meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
594 2015-02-04 14시 16시 ITO 두께 측정 1차 + 2차 그린사이언스 기업부설연구소 장현석 40,000원
595 2015-02-05 11시 12시 2-4-2 insulator meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
596 2015-02-13 9시 10시 1-1-2 Gate Oxide
Measurment 		포항공과대학교 기술지원팀 최경근 76,000원
597 2015-02-17 14시 15시 1-2-2 protect mask thick. meas. 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 0원
598 2015-02-24 12시 13시 1-2-2 protect mask thick. meas. 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 0원
599 2015-02-24 13시 14시 엘립소 미터 두께측정 LG전자 SIC센터 ICS팀 최원석 116,000원
600 2015-02-25 9시 12시 ma-P1240 조건 test 두께 측정 3매 전북대학교 전자공학부 김기현 42,000원
601 2015-02-26 17시 18시 두께측정 LG전자 SIC센터 ICS팀 최원석 116,000원
602 2015-02-26 9시 10시 두께측정 LG전자 SIC센터 ICS팀 최원석 116,000원
603 2015-03-03 10시 11시 4-2-2 Gate Oxide Thickness Measurement 2매 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 0원
604 2015-03-03 11시 12시 4-2-4 Gate Oxide Thickness Measurement 2매 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 0원
605 2015-03-05 16시 17시 1-3-4 S.E 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 0원
606 2015-03-05 16시 17시 Oxide on SiC Thickness 측정 LG 전자 ICS 팀 황의진 36,000원
607 2015-03-06 17시 18시 1-3-5 Thickness Meas. 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 0원
608 2015-03-09 11시 12시 6-2-2 passi layer depo. thick. meas. 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 0원
609 2015-03-09 14시 15시 2-2-2 insulator meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
610 2015-03-09 15시 16시 2-3-2 insulator meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
611 2015-03-10 10시 11시 sio2 두께 측정 포항공과대학교 전자전기공학과 김동훈 27,000원
612 2015-03-17 11시 12시 2-3-5 Active pr remove thick. meas. 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 0원
613 2015-03-17 16시 17시 3-1-4 SD.IIP hard mask thick. meas. 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 14,000원
614 2015-03-17 17시 18시 3-1-4 SD.IIP protect mask thick. meas. 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 0원
615 2015-03-20 10시 11시 1-2-2 insulator measment 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
616 2015-03-20 12시 13시 6-2-2 passi layer depo. 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 0원
617 2015-03-20 15시 16시 1-5-2 etching 전 pe oxide 측정
 전북대학교 전자공학부 김기현 0원
618 2015-03-20 16시 17시 1-5-4 etching 후 pe oxide 측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 0원
619 2015-03-23 11시 12시 1-1-5 oxide thick. meas. 포항공과대학교 화학공학과 송홍선 36,000원
620 2015-03-25 14시 15시 3-5-2 sd.iip protect mask thick. meas. 3회
 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 0원
621 2015-03-25 15시 16시 3-6-2 sd.iip protect mask thick. meas. 3회
 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 0원
622 2015-03-26 15시 16시 oxide 두께 측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 조현수 0원
623 2015-03-30 16시 17시 Spectroscopic Ellipsometer 사용
유진테크 머티리얼즈에서 Si 기판위에 polymer 증착 조건별 굴절률 측정
- 200nm 이하의 파장대에서의 optical constant (n,k값) 확인		 (주) 유진테크 머티리얼즈 연구소 김혜지 180,000원
624 2015-03-31 10시 11시 SOI wafer Top Si thinning Oxidation 관련 Si Thickness 측정
 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 0원
625 2015-03-31 16시 17시 4-2-3 thickness measurement by ellipsometer 3points average 2매 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 0원
626 2015-04-01 11시 12시 Top Si thickness 측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 조현수 0원
627 2015-04-02 11시 12시 Thick Meas. S.E (SOI_W01,02) 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 0원
628 2015-04-03 15시 16시 샘플두께측정 포항공과대학교 화학공학과 장진혁 27,000원
629 2015-04-06 14시 15시 샘플 두께 측정 포항공과대학교 화학공학과 김래호 27,000원
630 2015-04-06 15시 16시 PECVD SiO2 증착 후 SiO2두께 측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 조현수 0원
631 2015-04-13 14시 15시 Top Si measurement 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 0원
632 2015-04-15 11시 12시 Buffer layer(SiO2) 제거 후 두께 측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 조현수 0원
633 2015-04-15 16시 17시 oxide 두께 측정 포항공과대학교 전자전기공학과 윤솔 0원
634 2015-04-15 17시 18시 buffer layer(SiO2) 제거 후 두께 측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 조현수 0원
635 2015-04-21 9시 12시 0-1-2 oxide thickness
1-1-2 poly si depo.		 전북대학교 전자공학부 김기현 0원
636 2015-04-24 17시 18시 2-1-3 Oxidation 두께 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 0원
637 2015-04-24 9시 10시 유기물질의 광학상수 계산
 한양대학교 화학공학과 최경환 60,000원
638 2015-04-28 15시 16시 1-1-5 oxide thick. lp-cvd 150 포항공과대학교 전자전기공학과 김동훈 34,000원
639 2015-04-28 9시 10시 Oxide/Nitride Quality test
1-1-5 S.E		 포항공과대학교 전자전기공학과 김동훈 34,000원
640 2015-04-29 20시 21시 lec 연구 포항공과대학교 화학공학과 장진혁 27,000원
641 2015-04-29 9시 11시 ellipsometry 박막측정 포항공과대학교 기계공학과 석세영 27,000원
642 2015-05-04 14시 15시 VW Oxide Test_Thickness Measurement (주)유우일렉트로닉스 부설연구소 김형원 60,000원
643 2015-05-04 15시 16시 Oxdie thickness 측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 조현수 0원
644 2015-05-04 15시 16시 VW Oxide Test_Thickness Measurement (주)유우일렉트로닉스 부설연구소 김형원 60,000원
645 2015-05-06 20시 21시 조각 웨이퍼 ITO 두께 측정 포항공과대학교 전자전기공학과 윤솔 0원
646 2015-05-07 13시 14시 SiN CVD 평가_Thickness Measurement (주)유우일렉트로닉스 부설연구소 김형원 60,000원
647 2015-05-13 14시 15시 1-1-5 gate oxide thick. meas. 포항공과대학교 화학공학과 송홍선 52,000원
648 2015-05-13 20시 21시 유기층두께측정 포항공과대학교 화학공학과 장진혁 27,000원
649 2015-05-14 15시 16시 SiO2 두께 측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 0원
650 2015-05-15 15시 16시 SiO2 두께 측정 포항공과대학교 전자전기공학과 이승호 0원
651 2015-05-15 9시 10시 Oxide 두께측정 포항공과대학교 전자전기공학과 윤솔 0원
652 2015-05-18 17시 18시 oxide 두께 측정 포항공과대학교 전자전기공학과 이승호 27,000원
653 2015-05-19 11시 12시 doped & undoped thick. meas. 전북대학교 전자공학부 김기현 90,000원
654 2015-05-20 11시 12시 Buffer Layer 제거 후 SiO2 두께 측정
SOI Wafer 조각 시편 3매		 포항공과대학교 창의IT융합공학과 조현수 41,000원
655 2015-05-20 15시 16시 dHF 측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 27,000원
656 2015-05-21 10시 11시 1-2-2 Oxide 두께 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 104,000원
657 2015-05-21 12시 13시 1-2-4 poly_SOP thick. meas. 전북대학교 전자공학부 김기현 104,000원
658 2015-05-27 15시 16시 oxide thickness 측정 포항공과대학교 전자전기공학과 이승호 27,000원
659 2015-06-01 16시 17시 1-2-2 DIEL Gate oxide Thick. Meas. S.E 6/1 17:00 1
Elipso패턴 thickness 측정 : imp1=82A/imp2=87A, no imp1=96A, no imp2=92A 		전북대학교 전자공학부 김기현 34,000원
660 2015-06-02 10시 11시 1-2-4 DIEL Gate dielectric Thick. Meas. S.E 06월 02일 11:00 1
Elipso패턴 thickness 측정 : imp1=77A/imp2=76A, no imp1=78A, no imp2=87A 		전북대학교 전자공학부 김기현 34,000원
661 2015-06-04 10시 11시 대학원 신입생인데 장비 사용법을 배우고자 합니다. 포항공과대학교 기계공학과 윤관호 27,000원
662 2015-06-05 11시 12시 SiO2 두께 측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 27,000원
663 2015-06-05 14시 15시 3-1-4 NW hard mask thick. meas. 전북대학교 전자공학부 김기현 48,000원
664 2015-06-08 10시 11시 5-1-5 Elipso Pattern Thick 측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 104,000원
665 2015-06-08 15시 16시 2-2-3 S.E 패턴 Thickness측정 전북대학교 전자공학부 김기현 48,000원
666 2015-06-10 14시 15시 6-1-7 Elipso 패턴 thickness 측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 104,000원
667 2015-06-15 10시 11시 3-5-2 NW hard mask remove thick. meas. 전북대학교 전자공학부 김기현 48,000원
668 2015-06-18 13시 15시 1-2-4 Substrate Poly_SOI Thick. Meas. S.E 6/18 ~15:00 4매 Poly와 Oxide 두께 측정, 13 pt, 데이터값 별지 기재 전북대학교 전자공학부 김기현 56,000원
669 2015-06-18 9시 10시 1-2-2 Thick Meas S.E 13pt 전북대학교 전자공학부 김기현 76,000원
670 2015-06-23 11시 12시 ITO 두께 측정
이미 사용하였습니다. 예약없이 사용하여 죄송합니다.		 포항공과대학교 전자전기공학과 윤솔 41,000원
671 2015-06-24 16시 17시 3-1-4 hard mask thick. meas. 전북대학교 전자공학부 김기현 76,000원
672 2015-07-07 15시 16시 PR 두께 측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 27,000원
673 2015-07-08 16시 18시 샘플 두께 측정 포항공과대학교 화학공학과 김래호 55,000원
674 2015-07-17 9시 10시 dHF 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 27,000원
675 2015-07-20 19시 20시 dHF 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 27,000원
676 2015-07-21 16시 18시 샘플 두께 측정 포항공과대학교 화학공학과 김래호 55,000원
677 2015-07-21 18시 20시 PR 두께 측정 전북대학교 전자공학부 김기현 48,000원
678 2015-07-23 16시 17시 5-1-9 DIEL Gate dielectric Thick. Meas. S.E
 전북대학교 전자공학부 김기현 48,000원
679 2015-07-23 18시 19시 1-3-2 DIEL protect mask thick. meas. 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 62,000원
680 2015-07-23 9시 10시 5-1-4 Gate dielectric Thick meas.
(P1,P3,T1,T2)		 전북대학교 전자공학부 김기현 76,000원
681 2015-08-03 14시 15시 샘플 두께 측정 포항공과대학교 화학공학과 김래호 49,000원
682 2015-08-06 15시 16시 1-1-2 thickness measure (주)유우일렉트로닉스 부설연구소 김형원 270,000원
683 2015-08-10 11시 12시 6-2-3 Gate dielectric S.E pattern Thick meas. 전북대학교 전자공학부 김기현 48,000원
684 2015-08-12 11시 12시 thined SOI wafer 초기 박막 test 포항공과대학교 창의IT융합공학과 조현수 27,000원
685 2015-08-12 12시 13시 sio2 thickness measure 포항공과대학교 전자전기공학과 윤솔 34,000원
686 2015-08-12 15시 17시 SOI W61,W62,W63
총 3매 thick. meas.		 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 62,000원
687 2015-08-13 9시 11시 thinning SOI slot 14-25 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 202,000원
688 2015-08-19 10시 11시 1-2-4. Wafer Thinning
BOE 후 Top Si thickness 측정		 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 62,000원
689 2015-08-19 19시 20시 1-2-4 Ch.IIP Wafer Thinning Thick. Meas. 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 62,000원
690 2015-08-19 20시 21시 4-4-2 GATE IMD Depo. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
691 2015-08-19 9시 10시 1-2-2. Wafer Thinning
Thinning Ox Thick. Meas.		 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 62,000원
692 2015-08-20 16시 17시 SOI (Top Si 850A/Box 2000A)6매 thinning Ox 진행
900도 31분 진행 후 6매 hickness 측정 		포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 104,000원
693 2015-08-20 16시 17시 SOI (Top Si 850A/Box 2000A)6매 thinning Ox 진행
BOE 5분 진행 후 Top Si thickness 측정		 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 104,000원
694 2015-08-21 12시 13시 SiO2 두께 측정 포항공과대학교 전자전기공학과 윤솔 55,000원
695 2015-08-21 15시 16시 1-4-5 Ch.IIP ION implant Thick. Meas.
포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 62,000원
696 2015-08-27 11시 12시 3-1-4 SD.IIP Protect Mask thick. meas. 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 34,000원
697 2015-08-27 15시 16시 6-5-2 M1 2nd IMD Depo Thick. Meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 48,000원
698 2015-09-01 10시 11시 Meausre PECVD SiO2 thicnkness 포항공과대학교 창의IT융합공학과 조현수 27,000원
699 2015-09-03 9시 10시 thermal Oxidation 후 두께 측정 (Ox 3000A)
data 송부		 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 118,000원
700 2015-09-04 15시 15시 3-6-2 S.E test wafer oxide 측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 34,000원
701 2015-09-07 11시 12시 6-5-2 m1 2nnd imd depo. thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
702 2015-09-08 12시 13시 PECVD sio2 20nm 제거 확인 포항공과대학교 창의IT융합공학과 조현수 41,000원
703 2015-09-09 11시 12시 PR 두께 측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 27,000원
704 2015-09-11 10시 11시 poly si on sio2 2ea meas.
13pp		 한국전기연구원 전력반도체연구센터 문정현 56,000원
705 2015-09-15 19시 20시 SiO2 두께 측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 27,000원
706 2015-09-16 11시 12시 Patterned SOI wafer 2 포항공과대학교 창의IT융합공학과 조현수 41,000원
707 2015-09-16 12시 13시 Oxide 두께 측정 포항공과대학교 전자전기공학과 윤솔 27,000원
708 2015-09-17 16시 18시 SiO2 두께 측정 포항공과대학교 전자전기공학과 윤솔 27,000원
709 2015-09-23 10시 12시 PeOxide 제거 후 두께 측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 조현수 48,000원
710 2015-09-23 12시 13시 PEOxide 두께 측정 포항공과대학교 전자전기공학과 윤솔 41,000원
711 2015-09-24 13시 14시 5-1-4 Gate Ox
Ox Thickness Meas. T61,T62		 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 48,000원
712 2015-09-24 15시 17시 샘플 두께 측정 포항공과대학교 화학공학과 김래호 0원
713 2015-09-24 18시 19시 SiO2 Thickness Measurement 포항공과대학교 창의IT융합공학과 조현수 27,000원
714 2015-09-25 10시 12시 Si 두께 측정 포항공과대학교 전자전기공학과 윤솔 27,000원
715 2015-09-25 12시 13시 5-2-3 S.E test wafer thickness 측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 34,000원
716 2015-09-30 11시 12시 SOI Wafer Initial thickness Measurement 포항공과대학교 창의IT융합공학과 조현수 41,000원
717 2015-10-02 15시 16시 샘플 두께 측정 포항공과대학교 화학공학과 김래호 90,000원
718 2015-10-02 16시 17시 PECVD Oxide 제거 확인 포항공과대학교 창의IT융합공학과 조현수 41,000원
719 2015-10-05 10시 13시 PEOxide removal

DHF+ SPM		 포항공과대학교 전자전기공학과 윤솔 27,000원
720 2015-10-07 11시 12시 PR두께측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 27,000원
721 2015-10-07 13시 14시 Patterned SOI Wafer Top silicon thickness measurement 포항공과대학교 미래IT융합연구원 김유미 27,000원
722 2015-10-13 15시 16시 Ta2Ox 박막의 굴절율(n)을 측정
- 3mT Ta2Ox 두께: 약 9300A
- 5mT Ta2Ox 두께: 약 7643A
결과는 정리하여 메일로 송부하였습니다.
 지멕(주) 기술개발팀 홍석경 80,000원
723 2015-10-16 12시 13시 Oxide thickness measurement
SiO2 on patterned SOI wafer (3ea)		 포항공과대학교 미래IT융합연구원 김유미 27,000원
724 2015-10-16 17시 18시 샘플 두께 측정 포항공과대학교 화학공학과 김래호 90,000원
725 2015-10-19 14시 15시 두께 측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 27,000원
726 2015-10-21 15시 16시 Thickness measurement before/after SiO2 remove
(4 points /wafer)		 포항공과대학교 미래IT융합연구원 김유미 27,000원
727 2015-10-22 14시 15시 SOI wafer (6inch) 5ea
top silicon thickness measuremnet		 포항공과대학교 미래IT융합연구원 김유미 27,000원
728 2015-10-22 17시 18시 SOI wafer (6inch) 5ea
SiO2 thickness measurement (after PECVD)		 포항공과대학교 미래IT융합연구원 김유미 27,000원
729 2015-10-26 16시 17시 SOI wafer (6inch) 2ea
SiO2 thickness measurment		 포항공과대학교 미래IT융합연구원 김유미 27,000원
730 2015-10-28 13시 14시 - 포항공과대학교 미래IT융합연구원 김유미 27,000원
731 2015-10-28 19시 20시 polymer 두께 측정 포항공과대학교 화학공학과 장진혁 27,000원
732 2015-10-29 14시 15시 Al2O3/SiO2 thcikness measurement 포항공과대학교 미래IT융합연구원 김유미 41,000원
733 2015-11-03 13시 14시 PEOxide 두께측정 포항공과대학교 전자전기공학과 윤솔 48,000원
734 2015-11-04 13시 14시 6inch SOI wafer 2ea 포항공과대학교 미래IT융합연구원 김유미 34,000원
735 2015-11-09 17시 18시 8-5-2 G_P 2nd IMD Depo. thick. meas 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
736 2015-11-11 16시 17시 SiO2 Thickness Measurement 포항공과대학교 미래IT융합연구원 김유미 27,000원
737 2015-11-12 16시 17시 - 포항공과대학교 미래IT융합연구원 김유미 27,000원
738 2015-11-13 11시 12시 -
 포항공과대학교 미래IT융합연구원 김유미 27,000원
739 2015-11-16 14시 15시 - 포항공과대학교 미래IT융합연구원 김유미 27,000원
740 2015-11-17 11시 12시 샘플 두께 측정 포항공과대학교 화학공학과 김래호 90,000원
741 2015-11-17 16시 17시 - SOI WF Thining bf,after 측정 포항공과대학교 미래IT융합연구원 김유미 48,000원
742 2015-11-27 16시 17시 - 포항공과대학교 미래IT융합연구원 김유미 34,000원
743 2015-12-07 13시 14시 4-8-3 Sac Ox Thick meas. S.E Before BOE 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 48,000원
744 2015-12-07 14시 15시 4-9-2 Sac Ox Thick meas. S.E After BOE 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 48,000원
745 2015-12-09 13시 14시 - 포항공과대학교 미래IT융합연구원 김유미 27,000원
746 2015-12-10 11시 12시 1-3-2 gate oxide depo. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 62,000원
747 2015-12-10 14시 15시 4-10-7 gate oxide thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 48,000원
748 2015-12-10 16시 19시 4-11-1 GATE Gate Poly-Si Depo. Thick. Meas. 3회(test wf 포함) 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 42,000원
749 2015-12-14 13시 14시 -
 포항공과대학교 미래IT융합연구원 김유미 27,000원
750 2015-12-14 16시 17시 SiO2 thickness 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 27,000원
751 2015-12-18 13시 14시 - 포항공과대학교 미래IT융합연구원 김유미 27,000원
752 2015-12-21 14시 15시 - 포항공과대학교 미래IT융합연구원 김유미 27,000원
753 2015-12-24 11시 12시 PEOxide 제거 확인 포항공과대학교 창의IT융합공학과 조현수 27,000원
754 2015-12-30 9시 13시 미래부 전문인력양성_소자공정 실습 (Thinfilm) 나노융합기술원 교육홍보팀 김병수 400,000원
755 2016-01-06 13시 14시 Al2O3 e두께 측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 27,000원
756 2016-01-11 13시 14시 SiO2 5nm Thickness measurement 포항공과대학교 창의IT융합공학과 조현수 27,000원
757 2016-01-13 16시 17시 1-1-3 SiN Depo. thick. meas. 고려대학교 전기전자공학부 장환준 38,000원
758 2016-01-14 14시 18시 삼성 test 공정 나노융합기술원 공정지원팀 김동은 0원
759 2016-01-19 10시 11시 박막 밀도 Test
웻 웨칭 전/후값 측정		 포스코 성능연구그룹 정현주 52,000원
760 2016-01-26 17시 18시 Backside SiO2 thickness measurement 포항공과대학교 창의IT융합공학과 조현수 27,000원
761 2016-01-29 10시 11시 Backside SiO2 Measurement 포항공과대학교 창의IT융합공학과 조현수 27,000원
762 2016-02-01 15시 16시 Al2O3/SiO2 thickness measurement 포항공과대학교 창의IT융합공학과 조현수 27,000원
763 2016-02-02 14시 15시 Si wafer에 올라간 MoO3의 dielectric constant(n, k)를 측정하기 위해 문의드립니다.
논문 리비젼 때문에 급작스럽게 하게되어 급히 부탁드립니다.
 포항공과대학교 화학공학과 이윤호 36,000원
764 2016-02-23 13시 14시 연구용
사파이어 기판위 레진 두께 측정		 (주)에스에스에이디티 공정기술팀 조정민 0원
765 2016-02-24 16시 17시 SiO2 박막 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 김인기 36,000원
766 2016-02-24 20시 21시 SiO2 박막 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 김인기 27,000원
767 2016-02-26 13시 14시 Si 기판위의 SiO2 박막 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 김인기 28,000원
768 2016-02-29 17시 18시 ITO 박막 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 김인기 28,000원
769 2016-03-01 17시 18시 Al2O3 박막 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 김인기 28,000원
770 2016-03-03 10시 11시 0-1-2 oxide 2nd nitirde thick. meas. 4회

 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 76,000원
771 2016-03-03 12시 13시 0-2-2 oxide 2nd nitirde thick. meas. 1회
 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
772 2016-03-03 15시 16시 0-3-2 oxide 2nd nitirde thick. meas. 1회
 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
773 2016-03-14 10시 11시 0-1-2 oxide 2nd nitride thick meas. 1ea
재투입		 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
774 2016-03-14 14시 17시 0-2-4 initial Oxide THK Measurement 3매
0-2-6 initial Oxide THK Measurement 2매
0-2-8 Bottom Poly THK Measurement 1매		 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 84,000원
775 2016-03-14 21시 22시 0-3-2 hard mask thick meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 0원
776 2016-03-18 16시 18시 0-2-2 oxide 2nd nitride thick meas.
 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
777 2016-03-21 8시 9시 0-3-2 oxide 2nd nitride thick meas.
 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
778 2016-03-21 9시 10시 0-4-2 oxide 2nd oxide thick meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
779 2016-03-23 10시 11시 TiO2 두께를 측정하고자 함 한동대학교 전산전자공학부 이민교 56,000원
780 2016-03-24 14시 18시 1-1-2 Cap Poly Thick Meas 3회 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 42,000원
781 2016-03-25 12시 13시 To obtain optical parameters (n, k value) of ZnO 포항공과대학교 신소재공학과 김호범 28,000원
782 2016-03-28 12시 13시 2-1-2 2nd lp nitride thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
783 2016-03-28 13시 14시 2-2-2 2nd pw nitride thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
784 2016-03-28 14시 15시 2-3-2 2nd lp oxide thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 48,000원
785 2016-03-29 9시 10시 Au 박막 두께 및 index of refraction 측정 한동대학교 첨단그린에너지환경학과 이진석 38,000원
786 2016-04-07 15시 16시 PR 두께 측정 포항공과대학교 전자전기공학과 윤솔 48,000원
787 2016-04-07 21시 22시 PR 두께 포항공과대학교 전자전기공학과 윤솔 27,000원
788 2016-04-08 16시 17시 SiO2 두께 측정 포항공과대학교 전자전기공학과 윤솔 27,000원
789 2016-04-14 13시 14시 필름의 굴절률을 측정하기 위하여 부산대학교 유기소재시스템공학과 조국현 38,000원
790 2016-04-14 16시 17시 dielectric constant, n,k 값을 구하고 싶습니다.
유기물 층을 측정하고 싶습니다.
셈플은 Si wafer (자연산화층) 에 코팅하여서 전달드리곘습니다.
급하게 필요하게 되어서 갑작스레 예약 하였습니다.
감사합니다.		 포항공과대학교 화학공학과 이윤호 36,000원
791 2016-04-15 17시 18시 SiO2 두께 측정 포항공과대학교 전자전기공학과 윤솔 34,000원
792 2016-04-27 9시 11시 Poly Si, Oxide,Nitride etch 평가를 위한 두께 측정
300,mm wafer 50매 측정		 (주) 테스 부설연구소 권성수 1,020,000원
793 2016-05-03 15시 17시 PR and OXIDE 두께 측정. 포항공과대학교 창의IT융합공학과 서명해 27,000원
794 2016-05-12 13시 14시 0-2-4 initial oxide thick. meas.
 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
795 2016-05-12 16시 17시 0-2-6 initial oxide thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
796 2016-05-18 17시 18시 1-1-3 SiN Depo. thick. meas. 고려대학교 전기전자공학부 장환준 0원
797 2016-06-02 22시 23시 oxide 두께 측정 포항공과대학교 전자전기공학과 윤솔 27,000원
798 2016-06-03 15시 16시 박막 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 윤관호 36,000원
799 2016-06-09 16시 17시 물질의 가시광선 영역대의 파장별 n,k 값 (dielectric constant)을 측정하고 싶습니다.

항상 감사드립니다.

Data 전달함		 포항공과대학교 화학공학과 이윤호 36,000원
800 2016-06-20 15시 16시 PR 두께 측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 서명해 34,000원
801 2016-06-28 13시 14시 slide cutting 포항공과대학교 화학과 배영인 52,000원
802 2016-06-29 9시 11시 ITO glass 위에 TiO2 막 증착 두께 및 굴절률 측정 영남대학교 물리학과 최찬호 340,000원
803 2016-07-04 16시 17시 SiO2 두께 측정. 포항공과대학교 기계공학과 김인기 28,000원
804 2016-07-11 19시 20시 샘플 두께 측정 포항공과대학교 화학공학과 김래호 55,000원
805 2016-08-09 18시 19시 Si thickness 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 27,000원
806 2016-08-16 17시 18시 샘플 두께 측정 포항공과대학교 화학공학과 김래호 41,000원
807 2016-10-05 15시 16시 두께측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 27,000원
808 2016-10-06 11시 12시 PR thickness 포항공과대학교 창의IT융합공학과 임태욱 27,000원
809 2016-10-14 16시 17시 film thickness measurement 상지대학교 산학협력단 반도체에너지공학과 손선영 62,000원
810 2016-10-20 14시 16시 -InP에 증착된 SiNx의 두께 및 굴절률 측정 한국전자통신연구원 광융합부품연구그룹 심재식 60,000원
811 2016-10-20 16시 17시 n,k값 측정 포항공과대학교 기계공학과 조용준 36,000원
812 2016-11-01 18시 19시 0-2-4 thick meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 14,000원
813 2016-11-02 13시 14시 두께 측정 상지대학교 산학협력단 반도체에너지공학과 손선영 48,000원
814 2016-11-15 16시 17시 3-4-1 contact ild depo. thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
815 2016-11-15 17시 18시 0-2-4 initial oxide thick meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
816 2016-11-16 17시 18시 두께측정 포스텍 물리학과 신원철 36,000원
817 2016-11-28 14시 15시 두께측정 상지대학교 산학협력단 반도체에너지공학과 손선영 48,000원
818 2016-12-05 12시 13시 0-2-2 thickness meas. 4ea
 광운대학교 전자과 김병목 120,000원
819 2016-12-15 9시 10시 AlOx (ALD로 증착한) 두께 측정 포항공과대학교 신소재공학과 황보희 34,000원
820 2016-12-16 13시 14시 AlOx 박막 두께측정 포항공과대학교 신소재공학과 황보희 34,000원
821 2016-12-19 13시 15시 -InP 에 증착된 SiNx의 두께 및 굴절률 측정 한국전자통신연구원 광융합부품연구그룹 심재식 120,000원
822 2016-12-19 15시 16시 poly-Si 210nm on Si substrate 샘플 n,k 값 측정 포항공과대학교 기계공학과 김인기 36,000원
823 2017-01-11 11시 12시 3-4-1 contact ILD Depo. Thick. Meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
824 2017-01-12 14시 15시 굴절률측정 포항공과대학교 기계공학과 윤관호 27,000원
825 2017-02-07 13시 14시 샘플 두께 측정 포항공과대학교 화학공학과 김래호 27,000원
826 2017-02-24 21시 22시 두께 분석 포항공과대학교 화학과 김지홍 34,000원
827 2017-02-25 10시 11시 Al2O3 HfO2 박막 직접 측정 포항공과대학교 신소재 김민규 34,000원
828 2017-03-08 14시 15시 n, k value 측정 포항공과대학교 기계공학과 이다솔 36,000원
829 2017-03-10 14시 15시 3-4-1 contact ILD Depo. Thick. Meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 34,000원
830 2017-03-17 10시 11시 Si 위 SiO2 thermal oxidation. 그 위 IGZO sputtering으로 대략 50 ~ 100 nm 증착. 포항공과대학교 전자전기공학과 박성민 68,000원
831 2017-03-23 14시 15시 IGZO 포항공과대학교 전자전기공학과 박혁 68,000원
832 2017-04-18 7시 8시 . 포항공과대학교 물리학과 하창우 35,000원
833 2017-04-24 9시 11시 이원범 연구원과 연락하여 진행.
12inch wafer 25ea
SiO2 film의 두께 측정		 TES 선행개발 서경천 520,000원
834 2017-05-17 12시 13시 3-4-1 contact ild depo. thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 35,000원
835 2017-05-19 11시 12시 박막 두께 평가 포항공과대학교 신소재 김민규 28,500원
836 2017-05-19 9시 10시 두께측정 나노융합기술원 기술지원팀 황현주 200,000원
837 2017-06-01 15시 16시 0-2-8 poly thick meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 50,000원
838 2017-06-01 9시 10시 0-2-3 initial oxide thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 50,000원
839 2017-06-05 14시 15시 없음 포항공과대학교 신소재 김민규 28,500원
840 2017-06-12 14시 15시 Thickness, Refractive Index, Roughness, Band Gap Energy 포항공과대학교 NEML Niloufar 35,000원
841 2017-06-16 9시 10시 0-2-2 Thickness Meas. (주) 이너센서 이너센서 강문식 80,000원
842 2017-06-21 14시 15시 thickness 포항공과대학교 NEML Niloufar 50,000원
843 2017-07-03 10시 11시 0-2-3 initial oxide thick meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 50,000원
844 2017-07-13 10시 11시 SOI Wafer Tahick. Meas. 포스텍 물리학과 신원철 35,000원
845 2017-07-13 16시 17시 si두께측정 포스텍 물리학과 신원철 42,500원
846 2017-07-18 10시 18시 MEMS 기술사업화 계약_Thinfilm 나노융합기술원 기술지원팀 황현주 1,220,000원
847 2017-07-25 15시 16시 0-2-4 initial oxide thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 35,000원
848 2017-07-26 11시 12시 SiO2 film Thickness 계측 TES 선행개발 서경천 220,000원
849 2017-08-18 11시 14시 2 장의 6 인치 silicon wafer에 위에 증착된 Si3N4의 박막의 두께, 굴절율, 소강계수, 표면 거칠기, Band Gap Energy 측정
1 장의 6 인치 silicon wafer에 wet oxidation의 박막의 두께, 굴절율, 소강계수, 표면 거칠기, Band Gap Energy 측정
1 장의 6 인치 silicon wafer에 wet oxidation을 한 위에 증착된 Si3N4의 박막의 두께, 굴절율, 소강계수, 표면 거칠기, Band Gap Energy 측정		 한국전자통신연구원 광통신부품연구그룹 김갑중 100,000원
850 2017-08-21 13시 15시 SiN / SiO2 Thickness measurement 6inch wafer 4매 한국전자통신연구원 광통신부품연구그룹 김갑중 80,000원
851 2017-08-25 16시 17시 Ellipsometer 장비를 통한 oxide thickness measurement 포항공과대학교 신소재공학과 김동휘 35,000원
852 2017-08-25 17시 18시 SOI wafwer inital thickness 측정 전자부품연구원 메디컬IT융합 이국녕 220,000원
853 2017-08-28 13시 18시 MEMS 기술사업화 계약_Thinfilm 나노융합기술원 기술지원팀 황현주 1,020,000원
854 2017-08-29 16시 17시 0-4-2 thinning ox strip thick. meas. 전자부품연구원 메디컬IT융합 이국녕 80,000원
855 2017-08-30 10시 12시 Ellipsometer사용. 포항공과대학교 전자전기공학과 박혁 71,000원
856 2017-08-30 13시 14시 두께측정 나노융합기술원 기술지원팀 황현주 40,000원
857 2017-08-31 17시 18시 0-2-4 initial oxide thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 35,000원
858 2017-09-05 13시 15시 ZrO2 on Si by ALD의 두께 측정 포항공과대학교 신소재공학과 김동휘 35,000원
859 2017-09-05 16시 18시 silicon wafer위에 증착한 Silicon nitride 박막 입니다.

두께는 350~800A 으로 추정하고 있습니다.
9/5일 : 16ea
9/6일 : 20ea		 아이씨디 EN 개발팀 장근수 100,000원
860 2017-09-11 15시 16시 SiC Wafer Meas. 3ea LG 이노텍 소자개발팀 정지철 80,000원
861 2017-09-13 10시 11시 1~12 샘플 모두 SiNx 박막 입니다.
4차,5차 샘플 총 5회로 청구 합니다.		 아이씨디 EN 개발팀 장근수 120,000원
862 2017-09-13 17시 18시 Al2O3 기판위에 증착한 약 50nm 내외의 박막에 대한 특성을 보고자합니다.
각각의 박막들은 증착한 조건이 다르고 간략한 정보는 아래와 같습니다.

#1: SiO2(~50nm) on Al2O3
#2: SiO2(~50nm) on Al2O3
#3: SiO2(~50nm) on Al2O3
#4: SiO2(~25nm) on Al2O3
#5: SiO2(~50nm) on Al2O3
#6: SiO2(~50nm) on Al2O3
#7: ZrO2H(~40nm) on Al2O3
#8: ZrO2H(~??nm) on Al2O3
#9: SiO2(~50nm) on Al2O3		 포항공과대학교 신소재공학과 조민국 54,000원
863 2017-09-19 10시 11시 Silicon nitride 박막

400~600 A 추정
6,7,8차 sample 측정		 아이씨디 EN 개발팀 장근수 100,000원
864 2017-09-19 11시 12시 3-4-1 contact ild depo. thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 35,000원
865 2017-09-22 10시 11시 Al2O3 기판위에 증착한 약 50nm 내외의 SiO2박막에 대한 특성을 보고자합니다.
10개의 박막들은 증착한 조건만 다르고 두께는 거의 유사합니다.

샘플은 샘플 보관함에 넣어두겠습니다.		 포항공과대학교 신소재공학과 조민국 54,000원
866 2017-10-13 11시 12시 SiO2 on Si 측정 포항공과대학교 기계공학과 김인기 27,500원
867 2017-10-16 15시 16시 furnace, pe-oxide thick. meas. LG 이노텍 소자개발팀 정지철 80,000원
868 2017-10-25 13시 14시 190 nm ~ 900 nm 영역에서 thickness, n, k, index 측정이 목적 서울대학교 화학부 구자정 40,000원
869 2017-10-31 11시 12시 0-3-2(0) thinning oxidation thick. meas. 전자부품연구원 메디컬IT융합 이국녕 80,000원
870 2017-11-01 16시 17시 0-4-3 thinning oxidation thick. meas. 전자부품연구원 메디컬IT융합 이국녕 80,000원
871 2017-11-02 10시 11시 Au 위에 올라간 organic layer 의 두께, n, k 값을 구하고자 합니다.
190nm ~ 900nm 까지 찍으면 좋을것 같습니다.		 서울대학교 화학부 구자정 40,000원
872 2017-11-02 12시 13시 직접 사용 포항공과대학교 기계공학과 정헌영 27,500원
873 2017-11-02 13시 17시 전문인력양성사업 교육_Diffusion 나노융합기술원 교육홍보팀 이현규 300,000원
874 2017-11-03 14시 15시 Sputter로 증착한 SiTe 2원계 박막의 k값, n값을 Ellipsometer로 측정하고자 합니다. 샘플은 3개정도로 각각 조성비가 다르게하여 Si 기판 위에 수십nm 내외로 증착하여 제작할 예정입니다.
위즈옵틱스 쪽에 연락하여 측정시 필요한 모델을 받았으며, 해당 모델을 측정시 사용할 수 있을 것 입니다.		 포항공과대학교 신소재공학과 구윤모 35,000원
875 2017-11-06 14시 15시 나노센터 시편보관함(공정의뢰)에 PGB라고 적힌 페트리 디쉬에 샘플 2개있습니다. 포항공과대학교 신소재공학과 박경배 37,000원
876 2017-11-29 12시 13시 SiC Thcik. Meas. LG전자 ICS팀 김기민 54,000원
877 2017-12-05 12시 13시 SiO2 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 김인기 27,500원
878 2018-01-09 10시 11시 n,k dct 머티리얼 경영지원팀 이나래 140,000원
879 2018-01-10 10시 18시 전문인력양성교육_소자공정_Thinfilm 나노융합기술원 교육홍보팀 이현규 800,000원
880 2018-01-29 15시 17시 . 포항공과대학교 전자전기공학과 박혁 28,500원
881 2018-02-02 11시 12시 3회 dct 머티리얼 경영지원팀 이나래 50,000원
882 2018-02-02 16시 17시 glass wafer에 spin on glass coating 되어 있습니다.
spin on glass가 두 종류이고 각각 두께 측정 부탁드립니다.

금요일 오후 중 연구원님 편하신 시간에 방문하여 측정과 동시에 기기 조작법에 대해서 배우고자 하는데 가능할까요?
010 - 5161 - 1192 로 연락 부탁드립니다.
감사합니다. 		포항공과대학교 기계공학과 김정현 35,000원
883 2018-02-07 15시 16시 직접 이용하겠습니다. 포항공과대학교 기계공학과 김정현 27,500원
884 2018-02-20 9시 18시 실리콘 기반 센서 제작_Measurement (과제번호:4.0015206.01) 포항공과대학교 대외협력팀 김인철 400,000원
885 2018-03-14 11시 12시 측정방법을 배워서 직접이용하고 싶습니다.
가능한가요?		 부산대학교 유기소재시스템공학과 이시우 56,000원
886 2018-03-23 15시 16시 3-4-1 contact ild depo. thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 35,000원
887 2018-03-28 14시 15시 시료 두께 및 n,k 값, e1,e2값 측정 부산대학교 유기소재시스템공학과 이시우 56,000원
888 2018-04-04 15시 16시 SOI initial 값 측정 전자부품연구원 메디컬IT융합 이국녕 100,000원
889 2018-04-05 10시 12시 - 한양대학교 화학공학과 최경환 100,000원
890 2018-04-05 10시 11시 Oxide 후 SOI wafer 두게 측정 전자부품연구원 메디컬IT융합 이국녕 100,000원
891 2018-04-05 14시 14시 0-4-3 thinning oxidation thick. meas. 전자부품연구원 메디컬IT융합 이국녕 100,000원
892 2018-04-12 9시 10시 A-Si Thick. Meas. 포항공과대학교 기계공학과 윤관호 35,000원
893 2018-04-17 10시 11시 두가지 층의 파장별 dielectric constant를 측정하고 싶습니다.

Si wafer 위에 코팅해서 샘플링을 하고자 하며, 두께도 측정 후 바로 말씀드리겠습니다.		 포항공과대학교 화학공학과 이윤호 54,000원
894 2018-04-23 9시 18시 Wet etch condition : HF 200 : 1
박막 종류 : SiN (Silicon nitride)
박막 두께 : 150~350Å
Sample 수량 : 50mm*50mm size 15EA		 (주)디엔에프 반도체재료연구센터 박건주 400,000원
895 2018-05-01 11시 12시 SiO2 두께 측정 포항공과대학교 화학공학과 양성준 37,000원
896 2018-05-23 13시 14시 a-Si characterization 포항공과대학교 기계공학과 윤관호 27,500원
897 2018-06-04 14시 15시 3-4-1 Contact ILD Depo. Thick. Meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 35,000원
898 2018-06-14 13시 15시 Al2O3 (1-3nm) / SiO2 (1-3nm) / Si (100) wafer
HfO2 (3-6nm) / SiO2 (1-3nm) / Si (100) wafer
ZrO2 (3-6nm) / SiO2 (1-3nm) / Si (100) wafer

다층막 두께, (유전율, Band Gap Energy.)		 나노종합기술원 특성분석팀 박윤창 38,000원
899 2018-06-15 9시 10시 Thick. meas. 포항공과대학교 전자전기공학과 윤길상 35,000원
900 2018-06-18 15시 17시 Glass 위에 코팅된 titania 층의 굴절률을 측정하고자 합니다.
코팅된 titania 층의 두께는 알고 있는 상태입니다.		 포항공과대학교 화학과 홍승화 37,000원
901 2018-06-18 17시 18시 0-1-1 Fab-in Nitride Thcikmeas 포항공과대학교 대외협력팀 김인철 0원
902 2018-06-21 13시 14시 Thick. meas. 파워마스터반도체 주식회사 제조 공정기술팀장 손춘배 0원
903 2018-06-22 17시 18시 Mica 기질 위에 올라간 TiO2 의 두께와 굴절률을 측정하고자 합니다. 포항공과대학교 화학과 홍승화 37,000원
904 2018-06-27 11시 15시 SiO2/SiOCN sample 측정 (주)디엔에프 반도체재료연구센터 박건주 200,000원
905 2018-07-04 9시 11시 Etching 전후 Oxide thickness 측정 (주) 테스 부설연구소 권성수 220,000원
906 2018-07-12 14시 15시 chip 구성은 다음과 같습니다.

Si wafer/SiO2/Si3N4 이며, 두께는 SiO2의 경우 약 8.1 um, Si3N4의 경우 500 nm이며 이 두 물질의 두께를 측정하고 싶습니다.
 포항공과대학교 물리학과 권기원 35,000원
907 2018-07-12 9시 10시 3-4-3 thickness meas. (RTO & After DHF) 전자부품연구원 메디컬IT융합 이국녕 0원
908 2018-07-13 10시 11시 두께측정 포항공과대학교 전자전기공학과 윤길상 27,500원
909 2018-07-16 17시 19시 SOI (SiO2 300nm on Si wafer) 위에

ITO 100nm 를 증착하였습니다.

총 4가지 sample로 각각 열처리를 다르게 하였습니다.

1. E-beam ITO 600 Air
2. Sputter ITO as-dep
3. Sputter ITO 600 Air
4. Sputter ITO 600 N2

위 네가지 300-1100nm 파장에서의

raw data 및 광학상수(n,k) 피팅 부탁드립니다.

택배로 서비스 요청드리는데 따로 이메일로 연락드리겠습니다.

감사합니다.		 고려대학교 신소재공학과 이세영 100,000원
910 2018-07-17 14시 14시 금일 유선상을오 요청드린것과 같이 측정 후 raw data 만 송부 요청드리오며
측정 후 샘플 반송을 요청드립니다.
 한양대학교 화학공학과 최경환 140,000원
911 2018-07-20 15시 16시 3-4-2 pc pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 36,000원
912 2018-07-30 17시 18시 3-4-2 PC pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 36,000원
913 2018-08-01 11시 12시 6-4-3 md pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 36,000원
914 2018-08-20 19시 20시 6-4-2 M0 pe-oxde thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 36,000원
915 2018-08-21 16시 17시 0-2-2 0 pe depo. thick. meas. 현대모비스 전력반도체팀 이정윤 50,000원
916 2018-08-23 16시 17시 8-5-2 m1 2nd imd depo. thick meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 36,000원
917 2018-08-24 10시 11시 6-4-3 m0 pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 36,000원
918 2018-08-30 9시 10시 8-4-2 m1 2nd imd depo. thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 36,000원
919 2018-09-04 16시 17시 HfOx 두께 측정 포항공과대학교 신소재 김민규 37,000원
920 2018-09-05 13시 14시 4-6-2 pc pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 36,000원
921 2018-09-07 13시 15시 Sapphire위 SiO2 300nm 1개
Sapphire위 Si3N4 300nm 1개		 고려대학교 신소재공학과 이세영 60,000원
922 2018-09-07 16시 17시 SOI thick. meas. 전자부품연구원 메디컬IT융합 이국녕 220,000원
923 2018-09-10 16시 17시 4-6-2 pc pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 36,000원
924 2018-09-11 13시 14시 4-6-2 pc pe-oxide thick.meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 36,000원
925 2018-09-11 15시 18시 SiO2 film 두께 측정 의뢰

FOUP1 #01~24 : 1000A
FOUP2 #01~08 : 1000A
FOUP2 #10~13 : 2000A

세부 사항은 메일드렸습니다.		 TES 연구소 김태윤 740,000원
926 2018-09-14 20시 21시 6-4-3 m0 pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 36,000원
927 2018-10-04 11시 12시 4-6-2 pc pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 36,000원
928 2018-10-05 12시 13시 4-6-2 pc pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 36,000원
929 2018-10-10 16시 17시 0-2-2 0 pe depo. thick. meas. 현대모비스 전력반도체팀 이정윤 35,000원
930 2018-10-11 14시 15시 4-6-1 pc pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 36,000원
931 2018-10-11 15시 16시 thick. meas. (SiO2 thick. meas.) 파워마스터반도체 주식회사 제조 공정기술팀장 손춘배 0원
932 2018-10-12 10시 11시 SiO2 thick. meas. 파워마스터반도체 주식회사 제조 공정기술팀장 손춘배 0원
933 2018-10-15 15시 16시 SiO2 thick. meas. 파워마스터반도체 주식회사 제조 공정기술팀장 손춘배 0원
934 2018-10-15 17시 18시 6-4-3 m0 pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 36,000원
935 2018-10-17 15시 16시 4-6-2 pc pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 36,000원
936 2018-10-17 17시 18시 6-4-3 m0 pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 36,000원
937 2018-10-19 11시 12시 4-2-3(4) pc gate hard mask oxide depo. thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
938 2018-10-19 16시 17시 0-3-1 0 thinning oxidation thik. meas. 전자부품연구원 메디컬IT융합 이국녕 100,000원
939 2018-10-22 17시 18시 6-4-3 m0 pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 36,000원
940 2018-10-23 9시 10시 4-6-2 pc pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 36,000원
941 2018-10-31 14시 15시 0-4-3 0 thinning oxidation thick. meas. 전자부품연구원 메디컬IT융합 이국녕 100,000원
942 2018-11-02 11시 12시 6-4-3 m0 pr-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 36,000원
943 2018-11-02 16시 17시 6-4-2 m0 pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 36,000원
944 2018-11-09 13시 14시 ox thick. meas. 파워마스터반도체 주식회사 제조 공정기술팀장 손춘배 0원
945 2018-11-09 15시 16시 4-6-2 pc peoxide depo. thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 36,000원
946 2018-11-12 17시 18시 8-4-2 m1 2nd imd depo. thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 36,000원
947 2018-11-20 13시 14시 4-6-2 pc pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 36,000원
948 2018-11-22 16시 17시 -- 0 2nd imd depo. thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 36,000원
949 2018-11-26 16시 17시 6-4-2 m0 pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 36,000원
950 2018-11-27 14시 18시 2개의 샘플 (SiO2, SiN)를 보내는데, 각 샘플의 여러면 (5포인트이상) 찍어주시면 감사드립니다.

파장별 n(굴절률), k(흡수계수) 값과 두께정보와 파장스캔한 값 보내주시면 감사드립니다.

어떤 분석법을 사용하는지도 알려주시면 감사드립니다.		 고려대학교 신소재공학과 이세영 40,000원
951 2018-11-28 16시 17시 8-4-2 m1 2nd imd depo. thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 36,000원
952 2018-11-29 17시 18시 8-4-2 m1 2nd imd depo. thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 36,000원
953 2018-11-30 14시 15시 Silicon 4'' 에 LPCVD Nitride 2um 가 올라가 있는 웨이퍼 입니다. 포항공과대학교 기계공학과 김준수 85,000원
954 2018-11-30 16시 17시 4-6-2 pc pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 36,000원
955 2018-12-04 11시 12시 4-4-2 pc pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 34,000원
956 2018-12-04 18시 19시 4-4-2 pc pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 36,000원
957 2018-12-05 17시 18시 8-4-2 m1 2nd imd depo. thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 36,000원
958 2018-12-06 11시 12시 4-6-2 pc pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 36,000원
959 2018-12-07 17시 18시 6-4-3 m0 pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 36,000원
960 2018-12-10 17시 18시 6-4-3 m0 pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 36,000원
961 2018-12-12 16시 17시 8-4-2 m1 2nd imd depo. thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 46,000원
962 2018-12-13 17시 18시 6-4-3 m0 pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 36,000원
963 2018-12-17 16시 17시 표면두께확인 포항공과대학교 전자전기공학과 윤길상 27,500원
964 2018-12-17 17시 18시 a-Si:H index measurement 포항공과대학교 기계공학과 윤관호 27,500원
965 2018-12-17 18시 19시 4-6-2 pc pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 52,000원
966 2018-12-20 17시 18시 6-4-3 m0 pe-oxide depo. thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 36,000원
967 2018-12-21 16시 17시 8-4-2 m1 2nd imd depo. thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 36,000원
968 2018-12-24 10시 11시 4-6-2 pc pe-pe-oxide thick .meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 36,000원
969 2018-12-26 15시 16시 boe etch test thick. meas 파워마스터반도체 주식회사 제조 공정기술팀장 손춘배 0원
970 2018-12-26 16시 17시 8-4-2 m1 2nd imd depo. thick.meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 36,000원
971 2018-12-27 17시 18시 8-4-2 m1 2nd imd depo. thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 36,000원
972 2018-12-28 16시 17시 8-4-1 m1 2nd imd dpeo. thick emas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 36,000원
973 2019-01-02 11시 12시 Gas Sensor 표면 가공 샘플 제작[4.0016655.01] : Thickness Measurement 포항공과대학교 대외협력팀 김인철 95,000원
974 2019-01-02 15시 16시 6-4-3 m0 pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
975 2019-01-04 17시 18시 4-6-2 pc pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
976 2019-01-07 16시 17시 TiO2 150nm on SOI wafer (SiO2 300nm on Si sub) 고려대학교 신소재공학과 이세영 20,000원
977 2019-01-08 11시 12시 4-4-2 pc pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
978 2019-01-08 11시 12시 4-6-2 pc pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 65,000원
979 2019-01-08 14시 15시 4-6-2 pc pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
980 2019-01-09 11시 12시 8-4-1 m1 2nd imd depo. thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 30,000원
981 2019-01-09 17시 18시 6-4-2 m0 pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
982 2019-01-11 15시 16시 8-4-1 m1 2nd imd depo. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
983 2019-01-14 18시 19시 6-4-3 m0 pe-oxide thick.meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
984 2019-01-15 17시 18시 8-1-1 m1 2nd imd depo. thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
985 2019-01-17 10시 11시 Slide glass 위에 올린 SiO2 층의 두께와 굴절률을 측정하고자 합니다. 포항공과대학교 화학과 홍승화 68,000원
986 2019-01-21 17시 18시 8-4-1 m1 2nd imd depo. thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
987 2019-01-22 16시 17시 6-4-3 m0 pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
988 2019-01-22 17시 18시 . 포항공과대학교 전자전기공학과 박혁 7,500원
989 2019-01-23 16시 17시 6-4-3 m0 pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
990 2019-01-24 10시 11시 4-6-2 pc pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 65,000원
991 2019-01-24 11시 12시 1-2-2 0 mask remove thick. meas. 광전자주식회사 SF개발1부 조민재 40,000원
992 2019-01-25 16시 17시 8-4-2 m1 2nd imd depo. thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
993 2019-01-29 17시 18시 4-6-2 pc pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
994 2019-02-01 14시 15시 Spectroscopic ellipsometery 측정 및 광학상수 분석
시편(두께) 총 4개 : a(amorphous)-Si_150nm, c(crystalline)-Si_40nm, a-Ge_180nm, c-Ge_105nm on (300nm SiO2/ Si substrate)

파장범위 250 ~ 1600 nm
시편은 택배로 배송하겠습니다.

의뢰자 및 데이터 수신 메일주소 : 고려대학교 임형섭 (010-4599-3913), ihs88@korea.ac.kr
 고려대학교 신소재공학과 이세영 80,000원
995 2019-02-01 15시 16시 4-6-2 THK Measurement 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
996 2019-02-07 18시 19시 8-4-1 m1 2nd imd depo. thick .meas 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
997 2019-02-11 17시 18시 6-4-3 m0 pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
998 2019-02-13 18시 19시 4-6-2 pc pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
999 2019-02-15 14시 15시 . 포항공과대학교 전자전기공학과 박혁 7,500원
1000 2019-02-15 17시 18시 4-7-2 pc pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
1001 2019-02-15 21시 22시 8-4-1 m1 2nd imd depo. thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
1002 2019-02-19 16시 17시 6-4-3 m0 pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
1003 2019-02-19 17시 18시 . 포항공과대학교 전자전기공학과 박혁 27,500원
1004 2019-02-20 17시 18시 6-4-3 Thickness Measure 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
1005 2019-02-21 12시 13시 4-6-2 pc pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
1006 2019-02-22 11시 12시 SiO2 두께 측정 한국전기연구원 전력반도체연구센터 문정현 110,000원
1007 2019-02-22 15시 16시 band gap 등을 분석하기 위해 파장에 따른 e2 (k)에 관계 포항공과대학교 화학공학과 송홍선 71,000원
1008 2019-02-25 14시 16시 고려대학교 성태연교수님 연구실의 이정원입니다. 사파이어(두께 465um) 위에 증착한 SiO의 굴절률과 두께, roughness 를 알아보려고 합니다. 시편은 택배를 통해서 금요일 오전에 보낼 예정입니다. 37673 경상북도 포항시 남구 청암로77(효자동 산31) 포항공과대학교 나노융합기술원으로 보내겠습니다.

공정이 끝난 후에 roughness 분석을 위해서 AFM 장비 담당자이신 이지은 선생님께 시편 전달을 부탁드립니다!! 세금계산서, 거래명세서는 고려대학교 산학협력단 이름으로 부탁 드립니다. 		고려대학교 나노포토닉스공학과 이정원 100,000원
1009 2019-02-25 18시 19시 6-4-3 m0 bow meas. stress meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
1010 2019-02-26 12시 13시 . 포항공과대학교 전자전기공학과 박혁 27,500원
1011 2019-02-26 16시 17시 8-4-1 m1 2nd imd depo. thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
1012 2019-02-28 17시 18시 8-4-1 m1 2nd imd depo. sl inspect 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
1013 2019-03-04 16시 17시 4-6-2 pc pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
1014 2019-03-05 12시 13시 4-6-2 pc pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
1015 2019-03-05 14시 16시 MICA 기질 위 SiO2 코팅한 샘플 : 1 ~ 7 이 정자로 쓰인 면이 코팅되지 않은 면입니다. (총 7매)
MICA 기질 위 TiO2 코팅한 샘플 : 9 A ~ 9 F 가 정자로 쓰인 면이 코팅되지 않은 면입니다. (총 6매)

코팅 면에서 흠집이 없는 중심부 위주로 코팅층의 두께와 굴절률 측정을 부탁드립니다.

(샘플은 1층 보관캐비넷에 보관해두었습니다.)		 포항공과대학교 화학과 한미래 254,000원
1016 2019-03-05 17시 18시 8-4-1 m1 2nd imd depo. thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
1017 2019-03-06 17시 18시 4-6-2 pc pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
1018 2019-03-07 13시 14시 0-3-2 0 thinning oxidation thick. meas. 전자부품연구원 메디컬IT융합 이국녕 100,000원
1019 2019-03-07 17시 18시 6-4-3 m0 pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
1020 2019-03-08 11시 12시 SiO2 in Si 두께 확인 한국전기연구원 전력반도체연구센터 문정현 96,000원
1021 2019-03-08 8시 10시 0-3-4 0 thinning oxidation thick. meas.
0-4-3 0 thinning oxidation thick. meas.		 전자부품연구원 메디컬IT융합 이국녕 260,000원
1022 2019-03-11 17시 18시 6-4-3 m0 pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
1023 2019-03-12 18시 19시 8-4-1 m1 2nd imd depo. thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
1024 2019-03-13 15시 16시 4-6-2 pc pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
1025 2019-03-13 17시 18시 6-4-3 m0 pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
1026 2019-03-14 17시 18시 8-4-1 Thick measure 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
1027 2019-03-15 8시 9시 4-6-2 pc pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
1028 2019-03-18 13시 14시 8-4-2 m1 2nd imd depo. thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
1029 2019-03-18 16시 18시 glass 기질 위 SiO2 코팅한 샘플 : 1 ~ 5 가 정자로 쓰인 면이 코팅되지 않은 면입니다. (총 5매)
Mica 기질 위 TiO2 코팅한 샘플 : 특정 숫자가 정자로 쓰인 면이 코팅되지 않은 면입니다. (총 5매) ~ 2000 / 2500 / 3000 / 3500 / 10M 2000
코팅 면에서 흠집이 없는 중심부 위주로 코팅층의 두께와 굴절률 측정을 부탁드립니다.
(샘플은 1층 보관캐비넷에 보관해두겠습니다.)		 포항공과대학교 화학과 한미래 200,000원
1030 2019-03-19 16시 17시 6-4-3 m0 pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
1031 2019-03-21 10시 11시 6-4-3 m0 pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
1032 2019-03-21 15시 16시 8-4-1 m1 2nd imd depo. thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
1033 2019-03-21 16시 17시 3월 18일 12시에 분석의뢰를 했는데, 택배가 오후 2시쯤 도착했다는 연락을 받았습니다. 공정 예약이 취소된 것 같아서 재신청합니다.
요청사항은 그 전에 요청한 사항과 동일합니다. (실리콘 위에 porous SiO2 증착, 이 물질의 굴절률 알고자 함.)		 고려대학교 나노포토닉스공학과 이정원 140,000원
1034 2019-03-25 16시 17시 1-1-2 sin depo. thickness measure 고려대학교 전기전자공학과 한규현 40,000원
1035 2019-03-25 17시 18시 4-6-2 pc pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
1036 2019-03-26 9시 10시 8-4-1 m1 2nd imd depo. thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
1037 2019-03-28 17시 18시 6-4-3 m0 pe-oxide thick. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 35,000원
1038 2019-04-04 15시 16시 glass 기질 위에 TiO2 layer가 코팅 된 샘플 1매, glass 기질 위에 SiO2 layer가 코팅 된 샘플 1매, glass 위에 TiO2/SiO2/TiO2 multilayer가 코팅 된 샘플 1매로 총 3매 샘플에 대한 두께 및 굴절율 측정을 부탁드립니다. 샘플은 예약 시간에 직접 들고 찾아 뵙겠습니다. 포항공과대학교 화학과 한미래 74,000원
1039 2019-04-04 16시 17시 0-1-1 0 thickness meas. thick.meas. 나노콘 나노콘 연구소 나노콘 56,000원
1040 2019-04-15 14시 15시 PR Thickness 측정 포항공과대학교 전자전기공학과 곽현탁 28,500원
1041 2019-04-17 10시 11시 2-1-2 insulator dep 증착 (주) 센텍코리아 생산기술연구팀 임채현 10,000원
1042 2019-04-26 16시 17시 . 포항공과대학교 전기전자공학부 고형민 29,000원
1043 2019-04-30 10시 11시 sio2 thcik. meas. 파워마스터반도체 주식회사 제조 공정기술팀장 손춘배 0원
1044 2019-05-13 10시 11시 2-4-2 ring oxide remove thick. meas. 나노융합기술원 기술지원팀 강민재 37,000원
1045 2019-05-13 11시 12시 oxide thick. meas. 파워마스터반도체 주식회사 제조 공정기술팀장 손춘배 0원
1046 2019-05-17 10시 11시 안녕하세요
포항공대 기계공학과 양영환입니다.

Glass 기판위에 aSi:H이 180 nm 증착되어 있습니다.
위 기판의 박막 aSi:H의 두께 측정 및 n,k 측정을 하고 싶습니다.

그리고 내일(5/17 금) 오전 10시에 시편 두께를 재면서, 위 실험장비 사용법을 배울 수 있는지 문의드립니다. (시편은 직접 들고가겠습니다.)

오전에 시간이 안된다면, 내일(5/17 금) 오후 1~3시 사이에도 괜찮습니다.
시간이 안되실 경우 아래 전화 혹은 이메일로 회신부탁드립니다.
감사합니다.

younghwan@postech.ac.kr
010-3456-9120
 포항공과대학교 기계공학과 양영환 38,000원
1047 2019-05-19 11시 12시 저번주 금요일 갔었던 양영환입니다.

Silicon 기판 위에 a-Si:H 측정 및 교육 의뢰합니다.		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 38,000원
1048 2019-05-20 10시 11시 두께 측정 포항공과대학교 전기전자공학부 고형민 29,000원
1049 2019-06-17 14시 15시 0-3-2 0 initial oxide thick. meas. 나노융합기술원 기술지원팀 강민재 17,000원
1050 2019-06-17 14시 15시 0-2-4 0 initial oxide thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 54,000원
1051 2019-06-28 16시 17시 SiC 두께 측정 나노융합기술원 포스텍-프라운호퍼 IISB 실용화연구센터 성민재 37,000원
1052 2019-07-10 15시 16시 . 포항공과대학교 전자전기공학과 박혁 28,000원
1053 2019-07-12 14시 15시 박막 굴절률 측정 포항공과대학교 기계공학과 윤관호 29,000원
1054 2019-07-12 9시 10시 . 포항공과대학교 전자전기공학과 박혁 28,000원
1055 2019-07-16 12시 13시 직접 사용
(SOG 두께 측정)		 포항공과대학교 기계공학과 정헌영 29,000원
1056 2019-07-23 17시 18시 0-7-4 0 pe-oxide thick. meas.(after)
(sin_oxide etch rate)		 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 90,000원
1057 2019-07-23 17시 18시 0-7-2 0 pe-oxide thick. meas.(before)
(sin_oxide etch rate)
 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 90,000원
1058 2019-08-13 15시 16시 . 포항공과대학교 전자전기공학과 박혁 28,000원
1059 2019-09-02 11시 12시 0-2-4 Thick_measure 경남대학교 전자공학과 김성진 60,000원
1060 2019-09-03 11시 12시 1-4-3 Oxide thickness measure 경남대학교 전자공학과 김성진 60,000원
1061 2019-09-19 15시 16시 안녕하세요! 기계과 학생 이다솔 입니다.
1층 시편 보관함에 샘플 놓아 두겠습니다!
실리콘을 E-beam evaporator로 증착한 샘플이고, 두께와 n, k 값 측정을 부탁드리겠습니다.
시편 가운데를 피해서 측정해주세요!
(단차 측정 해보느라, 가운데 일부 부분에는 증착이 되어 있지 않습니다)		 포항공과대학교 기계공학과 이다솔 38,000원
1062 2019-09-23 14시 15시 . 포항공과대학교 전자전기공학과 박혁 28,000원
1063 2019-09-27 16시 17시 2-3-2 sac ox sac. ox-1 strip thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 김성준 38,000원
1064 2019-10-24 19시 20시 a-Si:H의 두께 측정을 위해 장비 예약합니다.
직접 사용하겠습니다. 		포항공과대학교 기계공학과 양영환 38,000원
1065 2019-11-01 11시 12시 . 포항공과대학교 전기전자공학부 고형민 29,000원
1066 2019-11-04 9시 11시 Slot #1~3 : SiN on Bare-Si
Slot #5~7 : SiO on Bare-Si		 (주)테스 개발1그룹 공정2팀 김성호 240,000원
1067 2019-11-06 10시 12시 HfO2 두께 측정 요청드립니다 ( Si piece wafer 위에 증착)
추가로 두께 측정 장비 사용 방법 교육 부탁드립니다. 		포스텍 대학원 신소재공학 김형우 92,000원
1068 2019-11-07 9시 12시 Slot #1~3 : SiN on Bare-Si
Slot #5~7 : SiO on Bare-Si		 (주)테스 개발1그룹 공정2팀 김성호 240,000원
1069 2019-11-15 9시 12시 Slot #1~3 : SiN on Bare-Si
Slot #5~7 : SiO on Bare-Si		 (주)테스 개발1그룹 공정2팀 김성호 480,000원
1070 2019-11-20 9시 13시 Slot #1~3 : SiN on Bare-Si
Slot #5~7 : SiO on Bare-Si		 (주)테스 개발1그룹 공정2팀 김성호 240,000원
1071 2019-11-21 21시 22시 Glass위에 올린 a-Si:H를 사용하려고 합니다.
직접사용하겠습니다.		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 38,000원
1072 2019-11-25 13시 14시 0-2-4 0 initial oxide thick. meas. 포항공과대학교 신소재공학과 임석재 38,000원
1073 2019-11-25 20시 21시 a:Si-H의 두께를 측정하겠습니다.

포항공과대학교 기계공학과 양영환 29,000원
1074 2019-11-26 14시 15시 OXIDE THICK. MEASURE (주)엔디디 기업부설연구소 이승헌 80,000원
1075 2019-11-27 23시 24시 조각 glass 위에 있는 a-Si:H 두께 및 굴절률을 직접 측정하겠습니다. 포항공과대학교 기계공학과 양영환 29,000원
1076 2019-12-06 17시 18시 6-1-4 cont ild depo. thick. meas. 나노융합기술원 기술지원팀 강민재 37,000원
1077 2019-12-16 14시 15시 저번에 요청드린형태의 박막 코팅이 되어있습니다. (고분자 + silica nanoparticles) 포항공과대학교 화학공학과 윤종선 74,000원
1078 2019-12-18 15시 16시 SiN thick. measure (주)엔디디 기업부설연구소 이승헌 140,000원
1079 2019-12-24 13시 16시 Semiconductor (Si2Te3) 40~60nm 두께 예상.

x,y,z 방향으로 굴절률이 다른데 이런경우에는 어떤 방식으로 굴절률 측정이 가능할지 궁금합니다.
앞으로 장비 직접이용을 위해 장비 사용교육 또한 동시에 진행하고 싶습니다.		 포항공과대학교 화학공학과 장재혁 38,000원
1080 2020-01-07 11시 12시 SiN Etch Test 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 28,000원
1081 2020-01-07 17시 18시 SiN low ER Test 측정 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 28,000원
1082 2020-01-14 13시 15시 HfO2 ALD로 Si 기판과 SiO2(1000A)/Si 기판 위에 증착한 sample 입니다. 두께 스플릿 각각 4개씩 했는데, 두께와 bandgap energy 정도만 알고자 합니다. 포항공과대학교 신소재공학과 허성재 164,000원
1083 2020-01-20 13시 16시 HfO2 포항공과대학교 신소재공학과 이승우 164,000원
1084 2020-03-02 19시 20시 Wafer 위에 증착된 SiN의 n,k르 측정하려고 합니다.
직접 사용하겠습니다.		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 9,000원
1085 2020-03-02 9시 10시 0-1-3 m1 2nd imd depo. thcik. meas. 삼성종합기술원 기반기술랩 황선규 160,000원
1086 2020-03-06 11시 14시 ALD를 통해 쌓은 TiO2, Al2O3, HfO2 두께를 측정하고자합니다.

각각 4inch silicon wafer에 쌓았으며 한 장의 wafer내의 상하좌우중앙 지점 찍어주시면 감사드리겠습니다.
 포항공과대학교 신소재공학과 이승우 54,000원
1087 2020-03-24 13시 15시 HfO2, TiO2, Al2O3 각각 3개의 두께(총 9개) 측정 부탁드립니다. 포항공과대학교 신소재공학과 이승우 18,000원
1088 2020-03-25 13시 14시 TiO2 ald 40cy, 80cy, 100cy 두께 측정 포항공과대학교 신소재공학과 이승우 54,000원
1089 2020-03-25 14시 15시 Si wafer 위에 ALD로 쌓은 HfO2와 ZrO2 의 두께를 측정하고자 합니다.
조각 샘플 8개로 4개는 HfO2이고, 4개는 ZrO2입니다.		 포항공과대학교 신소재공학과 허성재 144,000원
1090 2020-03-26 13시 14시 oxide thick. measure (주)엔디디 기업부설연구소 이승헌 200,000원
1091 2020-03-27 16시 17시 Oxide 두께 측정 (주)엔디디 기업부설연구소 이승헌 200,000원
1092 2020-03-30 14시 16시 PECVD를 이용하여 증착한 a-Si:H의 두께를 측정하려고 합니다.
직접 사용하겠습니다.		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 45,000원
1093 2020-04-01 17시 18시 PE-CVD 증착된 물질의 두께를 측정하려고 합니다.
직접사용하겠습니다. 		포항공과대학교 기계공학과 양영환 18,000원
1094 2020-04-06 15시 17시 PE-CVD로 쌓은 a-Si:H, SiN의 박막 두께를 측정하려고 합니다.

직접사용하겠습니다 		포항공과대학교 기계공학과 양영환 18,000원
1095 2020-04-17 18시 19시 포항공대 노준석 교수 실험실 양영환입니다.
PE-CVD로 증착된 SiO2, SiN의 물성 및 두께 측정하겠습니다.		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 18,000원
1096 2020-04-23 16시 20시 PE-CVD 두꼐 확인용 3번,
Spin-coating 된 PR 두께 확인 3번 이용하겠습니다.

직접 사용하겠습니다.		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 54,000원
1097 2020-04-24 19시 20시 Spin-coating된 PR의 두꼐를 재려고합니다.

1회 이용하겠습니다.		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 9,000원
1098 2020-04-29 16시 17시 HfO2 / ZrO2

Sample Number 1~3은 각각 HfO2 15cycle, 20 cycle, 25 cycle 조각 샘플입니다. 각각의 두께를 측정해주셨으면 합니다. 한 조각당 2~3 point 정도 측정하여 평균값을 알려주시면 감사하겠습니다.

Sample Number 7~9는 각각 ZrO2 15cycle, 20 cycle, 25 cycle 조각 샘플입니다. 각각의 두께를 측정해주셨으면 합니다. 한 조각당 2~3 point 정도 측정하여 평균값을 알려주시면 감사하겠습니다.
포스텍 대학원 신소재공학 김형우 108,000원
1099 2020-05-01 17시 18시 포항공대 노준석 교수 실험실 양영환입니다.
PE-CVD로 증착한 SiN 두께를 측정하겠습니다.
포항공과대학교 기계공학과 양영환 9,000원
1100 2020-05-18 15시 16시 굴절률 측정 포항공과대학교 기계공학과 윤관호 9,000원
1101 2020-05-22 18시 19시 a-Si:H의 두께를 측정하기 위해 2회 사용하겠습니다. 포항공과대학교 기계공학과 양영환 38,000원
1102 2020-05-27 13시 14시 ALD-TiO2 (40 80 100cycle) 두께 측정 포항공과대학교 신소재공학과 이승우 38,000원
1103 2020-05-28 17시 19시 PE-CVD를 통해 증착된 a-Si:H의 두께를 재려고 합니다.
직접사용하겠습니다.		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 38,000원
1104 2020-06-02 10시 11시 HfO2, ZrO2 Film의 증착 두께 층정 예정입니다.
직접 라인에 입실하여 측정할 예정입니다.

10:30~11:30경에 사용할 예정입니다. 		포스텍 대학원 신소재공학 김형우 74,000원
1105 2020-06-07 21시 22시 Spectroscopic Ellipsometer 사용하겠습니다. 포항공과대학교 대학원 기계공학과 곽준호 29,000원
1106 2020-06-15 11시 12시 Oxide Thick. measurement (주)엔디디 기업부설연구소 이승헌 200,000원
1107 2020-06-16 13시 14시 Oxide thickness measure (주)엔디디 기업부설연구소 이승헌 200,000원
1108 2020-07-05 11시 13시 a-Si:H 두께 측정용으로 사용하겠습니다. 포항공과대학교 대학원 기계공학과 곽준호 29,000원
1109 2020-07-27 19시 20시 ALD로 증착된 SiO2, TiO2의 두께 및 굴절률을 측정하려고 합니다.
SiO2는 3장, TiO2는 2장입니다. 직접 사용하겠습니다.		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 65,000원
1110 2020-08-06 17시 18시 Nanocomposite index measurement 포항공과대학교 기계공학과 윤관호 29,000원
1111 2020-08-12 14시 15시 silicon wafer 위에 HfO2 증착된 두께를 측정하려 합니다.
직접 입실하여 측정예정입니다. 		포스텍 대학원 신소재공학 김형우 56,000원
1112 2020-08-13 10시 11시 Si 조각 기판 위에 HfO2 10nm 증착된 소자 두께를 측정 원합니다.
직접 들어가서 사용할 예정입니다. 		포스텍 대학원 신소재공학 김형우 65,000원
1113 2020-08-14 17시 18시 3-4-1 contact ild depo. thick. meas 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 37,000원
1114 2020-08-15 18시 20시 포항공대 노준석 교수님 실험실 양영환입니다.
아래 물질의 대한 두께측정으로 5회 이용하겠습니다.
Al2O3박막 1회
SiO2박막 1회
TiO2박막 1회
A-Si:H의 박막 2회		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 65,000원
1115 2020-08-19 9시 10시 Si 기판 위에 HZO (HfZrO2) 두께 측정을 위해 예약합니다.
라인 입실하여 직접 사용 예정입니다.
화면보호기 비밀번호 때문에 사용이 어려운 경우가 있습니다.
포스텍 대학원 신소재공학 김형우 29,000원
1116 2020-08-22 21시 24시 PECVD로 증착한 a-Si:H를 2회, ALD로 증착한 Al2O3를 1회 측정하겠습니다.
총 3회 측정하겠습니다.		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 47,000원
1117 2020-09-02 15시 17시 직접사용 파워마스터반도체 주식회사 제조 공정기술팀장 손춘배 0원
1118 2020-09-15 21시 22시 ALD로 증착된 Al2O3와 TiO2를 측정하려고 합니다.
10회 사용하겠습니다.		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 110,000원
1119 2020-10-21 20시 21시 포항공대 노준석 교수 실험실 양영환입니다.
PECVD로 증착된 a-Si:H 두계를 측정하겠습니다.		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 38,000원
1120 2020-10-24 20시 22시 PECVD로 증착된 a-Si:H film 두께를 측정하겠습니다.
직접사용하겠습니다.		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 65,000원
1121 2020-10-25 20시 22시 직접사용하겠습니다.
PE-CVD로 증착된 a-Si:H 의 두께를 측정하겠습니다.		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 65,000원
1122 2020-10-29 10시 16시 측정 좌표는 따로 inform드리겠습니다.

SiN 13EA, SiO 13EA 측정 요청드리며 추가로 SiN #1 Wafer의 반대 면(증착되지 않은 부분) 측정 요청드립니다. (총 27회 측정)		 (주)테스 공정개발팀 정진원 1,060,000원
1123 2020-10-30 13시 18시 SiO 6매 / SiO 4매 두께측정 (주)테스 공정개발팀 정진원 420,000원
1124 2020-10-31 21시 24시 포항공대 노준석 교수님 실험실 양영환입니다.
PE-CVD로 증착된 a-Si:H를 3회 측정하겠습니다.		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 47,000원
1125 2020-11-01 21시 24시 포항공대 노준석 교수님 실험실 양영환입니다.
PE-CVD로 증착된 a-Si:H를 3회 측정하겠습니다.		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 47,000원
1126 2020-11-03 15시 16시 나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업
전자과 최원영 (010 5436 2518)		 포항공과대학교 전자전기공학과 이정수 30,000원
1127 2020-11-04 11시 12시 ZnO 박막 uniformity 측정 포항공과대학교 신소재공학과 김광혙 38,000원
1128 2020-11-06 10시 12시 나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업
전자과 최원영 (010 5436 2518)
 포항공과대학교 전자전기공학과 이정수 40,000원
1129 2020-11-09 10시 11시 SiO / SiN 49포인트 측정(기존 좌표사용) (주)테스 공정개발팀 정진원 100,000원
1130 2020-11-10 10시 11시 나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업
전자과 최원영 (010 5436 2518)
 포항공과대학교 전자전기공학과 이정수 40,000원
1131 2020-11-11 10시 11시
나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업
전자과 최원영 (010 5436 2518)
 포항공과대학교 전자전기공학과 이정수 40,000원
1132 2020-11-13 21시 24시 포항공대 노준석 교수님 실험실 양영환입니다.
SiN film, a-Si:H films, SiO2의 film 두꼐를 1회씩 측정하겠습니다.		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 47,000원
1133 2020-11-16 9시 18시 Foup 1 : #1~#6 SiO 12000A / #7~#12 SiN 12000A
Foup 2 : #1~#10 SiN 12000A / #11~#20 SiO 12000A

메일 드리겠습니다.
 (주)테스 공정개발팀 정진원 1,340,000원
1134 2020-11-20 16시 17시 [나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업], 전자과 윤주영 (010.2768.0418) 포항공과대학교 전자전기공학과 이정수 30,000원
1135 2020-11-21 21시 24시 노준석 교수님 실험실 양영환입니다.
PECVD로 증착된 a-Si:H 의 두께 및 굴절률을 측정하겠습니다.
직접사용하겠습니다.		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 65,000원
1136 2020-11-25 11시 12시 [나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업]
전자과 최원영 		포항공과대학교 전자전기공학과 이정수 30,000원
1137 2020-11-26 12시 12시 이정익 선생님께서 증착해주신 샘플 중 1개에 대해서 두께 및 굴절률 측정 부탁드립니다. 서울대학교 전기정보공학부 최태원 40,000원
1138 2020-11-29 21시 24시 포항공대 노준석 교수 실험실 양영환입니다.
PE-CVD로 증착된 a-Si:H의 두꼐를 측정하려고 합니다.

직접사용하겠습니다.		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 83,000원
1139 2020-12-08 11시 12시 나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업
전자과 최원영 (010 5436 2518)		 포항공과대학교 전자전기공학과 이정수 30,000원
1140 2020-12-11 13시 14시 없음 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 38,000원
1141 2020-12-14 9시 10시 없음 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 29,000원
1142 2020-12-15 10시 11시 없음 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 29,000원
1143 2020-12-20 15시 16시 포항공대 노준석 교수님 실험실 양영환입니다.
PE-CVD로 증착된 a-Si:H 두께를 측정하겠습니다.
직접사용하겠습니다.		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 29,000원
1144 2020-12-21 15시 16시 . 포항공과대학교 전자전기공학과 윤주영 28,500원
1145 2020-12-22 20시 21시 포항공대 노준석 교수님 실험실 양영환입니다.
Pecvd로 증착된 aSiH를 1회 측정하겠습니다
직좁사용하겠습니다		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 29,000원
1146 2020-12-30 10시 11시 . 포항공과대학교 전자전기공학과 윤주영 28,500원
1147 2021-01-11 15시 15시 1-1-2 SiN split thickness 측정 (260a / 1000a) 포항공과대학교 대학원 전자전기공학과 황현준 110,000원
1148 2021-01-12 11시 12시 1-1-4 SiN SiO2 Layer 확인 포항공과대학교 대학원 전자전기공학과 황현준 110,000원
1149 2021-01-14 10시 11시 없음 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 29,000원
1150 2021-01-14 11시 12시 전문인력양성교육 심화실습교육

LPCVD를 이용한 SiO2 증착한 웨이퍼 두께 측정		 나노융합기술원 사업지원팀 전문인력2조 0원
1151 2021-01-14 15시 16시 x 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 29,000원
1152 2021-01-14 17시 17시 2-2-1 Oxide Etch Ellipsometer (WF01~04) 포항공과대학교 대학원 전자전기공학과 황현준 56,000원
1153 2021-01-15 17시 18시 x 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 29,000원
1154 2021-01-15 20시 22시 포항공대 노준석 교수님 실험실 양영환입니다.
glass 기판 위에 올라간 a-Si:H, Si-wafer 위에 증착된 SiN을 합쳐서 3회 측정하겠습니다.
직접사용하겠습니다.
포항공과대학교 기계공학과 양영환 47,000원
1155 2021-01-22 10시 10시 2-2-3 잔여 SiN 측정 (WF 03,04 / 07,08) 포항공과대학교 대학원 전자전기공학과 황현준 56,000원
1156 2021-02-02 20시 23시 포항공대 노준석 교수님 실험실 양영환입니다.
PECVD로 증착된 필름의 두께을 측정하겠습니다.
총 2회 직접 사용하겠습니다. 감사합니다.

 포항공과대학교 기계공학과 양영환 38,000원
1157 2021-02-03 20시 23시 포항공대 노준석 교수님 실험실 양영환입니다
Pecvd로 증착된 aSiH를 2회 두께측정하겠습니다
직접사용하겠습니다		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 38,000원
1158 2021-02-04 9시 18시 전문인력양성 실습교육_확산 나노융합기술원 교육홍보팀 이현규 820,000원
1159 2021-02-08 9시 12시 전문인력양성 실습교육_확산 나노융합기술원 교육홍보팀 이현규 820,000원
1160 2021-03-10 18시 20시 포항공대 노준석 교수님 실험실 양영환입니다.
Si기판 위에 증착된 TiO2 두께를 측정하려고 합니다.
직접사용하겠습니다.		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 37,000원
1161 2021-03-13 13시 18시 포항공대 노준석 교수님 실험실 양영환입니다.
PECVD로 증착된 a-Si:H film의 두께 및 굴절률을 4회 측정하겠습니다.
직접사용하겠습니다. 감사합니다. 		포항공과대학교 기계공학과 양영환 54,000원
1162 2021-03-18 11시 12시 . 포항공과대학교 전자전기공학과 전길수 28,000원
1163 2021-03-23 15시 16시 Ellipsometer 장비 교육 신청 포항공과대학교 대학원 전자전기공학과 권민규 38,000원
1164 2021-03-24 21시 24시 포항공대 노준석 교수님 실험실 양영환입니다.
TiO2의 두께와 굴절률을 측정하고자 합니다.
직접사용하겠습니다.		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 45,500원
1165 2021-03-25 16시 17시 박막 두께 측정 포항공과대학교 대학원 전자전기공학과 권민규 29,000원
1166 2021-04-01 10시 11시 LOT ID:PHTest01
목적: PI 두께 및 E/R 측정		 (주)유우일렉트로닉스 FAB팀 최준석 0원
1167 2021-04-05 13시 14시 LOT ID: PHTEST02
목적: PI 두께 스플릿 두께측정		 (주)유우일렉트로닉스 FAB팀 최준석 0원
1168 2021-04-07 11시 12시 x 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 29,000원
1169 2021-04-07 13시 14시 LOT ID: PRTEST02
목적: 케이맥사용, PI두께측정		 (주)유우일렉트로닉스 FAB팀 최준석 0원
1170 2021-04-07 19시 21시 ALD-Al2O3 두께 측정 포항공과대학교 대학원 전자전기공학과 권민규 29,000원
1171 2021-04-08 9시 13시 \"8인치 적외선 MEMS Sensor 제작공정\" 계약 (주)유우일렉트로닉스 TIS생산사업부 김도현 1,100,000원
1172 2021-04-19 10시 12시 Al2O3/bare Si
SiO2/bare Si
Al2O3/SiO2/bare Si 등 분석하려고 하는데,

1. 측정한 data를 엘립소 업체에 보내 분석 의뢰 가능한지
2. 업체에 model 제작 요청 및 소프트웨어 설치 가능한지
문의드립니다.		 포항공과대학교 대학원 전자전기공학과 권민규 29,000원
1173 2021-04-20 18시 20시 - PMMA 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 김강현 38,000원
1174 2021-04-21 13시 17시 U.E 공정계약 (주)유우일렉트로닉스 TIS생산사업부 김도현 600,000원
1175 2021-04-21 2시 3시 - PMMA 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 김강현 65,000원
1176 2021-04-22 1시 2시 - HSQ 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 김강현 38,000원
1177 2021-04-26 14시 15시 없음 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 29,000원
1178 2021-04-27 10시 12시 x 포항공과대학교 대학원 전자전기공학과 권민규 29,000원
1179 2021-05-07 13시 14시 나노융합기반고도화사업
LOT ID: Module
목적: SiN 박막 두께 측정 TEST용 3장		 (주)유우일렉트로닉스 FAB팀 서준영 50,000원
1180 2021-05-13 14시 15시 ZnO/SiO2/Si

 포항공과대학교 전기전자공학부 김소영 29,000원
1181 2021-05-14 13시 14시 x 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 29,000원
1182 2021-05-14 14시 15시 나노융합기반고도화사업
Lot ID: Module
목적: SH 공정 전 박막 test용 총 1장		 (주)유우일렉트로닉스 FAB팀 서준영 30,000원
1183 2021-05-14 15시 16시 SiO2에 성장된 Al2O3 박막 측정에 대해 직접 사용하겠습니다 포항공과대학교 대학원 전자전기공학과 이해원 29,000원
1184 2021-05-17 11시 12시 나노융합기반고도화사업
Lot ID: Module
목적: SiN 박막 두께 측정 총 3장 		(주)유우일렉트로닉스 FAB팀 서준영 50,000원
1185 2021-05-21 13시 14시 ZnO 및 Al2O3 막 두께 측정 포항공과대학교 대학원 전자전기공학과 권민규 29,000원
1186 2021-05-25 13시 14시 나노융합기반고도화사업
Lot ID: Module
목적: SiN 박막 두께 측정 총 2장		 (주)유우일렉트로닉스 FAB팀 서준영 40,000원
1187 2021-05-26 13시 14시 나노융합기반고도화사업
Lot ID: Module
목적: SiNx 박막 두께 측정 총 1장		 (주)유우일렉트로닉스 FAB팀 서준영 30,000원
1188 2021-06-01 14시 15시 {나노융합기반 고도화 사업}
Lot ID: Module
목적: SiNx 박막 두께 측정 Test용 총 3장 		(주)유우일렉트로닉스 FAB팀 서준영 50,000원
1189 2021-06-03 10시 13시 SiH4 Gas 평가 과제 진행 [4.0021529.01] 나노융합기술원 기술지원팀 강민재 180,000원
1190 2021-06-06 18시 19시 포항공대 노준석 교수님 실험실 양영환입니다.
WO3의 두께를 재고자 합니다.
직접사용하겠습니다.		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 28,500원
1191 2021-06-09 10시 13시 SiH4 Gas 평가 과제 진행 [4.0021529.01] 나노융합기술원 기술지원팀 강민재 180,000원
1192 2021-06-24 10시 12시 Lot ID: NDC21Y24W #1~#20
목적: sio2 박막두께측정 총 20장(계약 건) 		(주)유우일렉트로닉스 FAB팀 서준영 0원
1193 2021-06-25 15시 16시 박혁 포항공과대학교 전자전기공학과 전길수 28,000원
1194 2021-06-26 18시 20시 PECVD로 쌓인 박막의 두께와 굴절률을 측정하겠습니다.
직접이용하겠습니다. 감사합니다.		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 62,500원
1195 2021-06-27 18시 20시 포항공대 노준석 교수님 실험실 양영환입니다.
PECVD로 쌓인 유전박막의 두께와 굴절률 측정을 위해 직접사용하겠습니다. 		포항공과대학교 기계공학과 양영환 71,000원
1196 2021-07-14 16시 17시 노준석 교수님 연구실 성준화 학생입니다.

실리카나이트라이드 측정 요청드립니다.
PECVD 사용후 바로 측정을 하고싶습니다.

감사합니다.
 포항공과대학교 대학원 기계공학과 성준화 71,000원
1197 2021-07-20 14시 15시 전자과 윤주영(010-2768-0418) 포항공과대학교 전자전기공학과 전길수 28,000원
1198 2021-07-22 10시 12시 Lot ID: NDC21Y29W #1~#23
목적: SiO2 산화막 두께 측정 총 23장(계약 건)		 (주)유우일렉트로닉스 FAB팀 서준영 0원
1199 2021-07-22 14시 16시 Polyimide가 coating된 wafer, liquid crystal (5CB) film coated wafer, PR(AZ5214) coated wafer

측정 및 교육 포함 금액		 포항공과대학교 대학원 화학공학과 김원식 56,000원
1200 2021-07-26 10시 12시 {나노융합기반 고도화사업}
Lot ID:Module
목적: SiN 박막 조건 split test 용 총 2장		 (주)유우일렉트로닉스 FAB팀 서준영 40,000원
1201 2021-07-26 17시 18시 노준석 교수님 연구실 김경태 학생입니다.

일립소 직접사용 요청드립니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 김경태 28,500원
1202 2021-08-09 15시 16시 HfO2, ZrO2 두께를 측정하려 합니다. 포항공과대학교 대학원 전자전기공학과 이준호 38,000원
1203 2021-08-10 13시 14시 pt 및 그 위의 hfo2 측정 모델 제작 및 비교분석을 위한 데이터 측정 (이유정 연구원과 협의 완료)

1) Pt 100nm 2) HfOx/Pt JOB 제작 위한 데이터 측정 및 공유		 포항공과대학교 대학원 전자전기공학과 김승모 56,000원
1204 2021-08-10 15시 16시 안녕하세요. 노준석 교수님 연구실 성준화 학생입니다.

일립소메트리 직접사용 요청 드립니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 성준화 28,500원
1205 2021-08-13 11시 12시 기본 스펙: HfO2/Pt(100nm)/Ti(5nm)/SiO2(90nm)/Si substrate
HfO2의 122, 109 cycle 두 Sample에 대한 두께를 측정하기 원합니다.
균일성 측정을 위해 각 Sample 당 4 Point씩 두께를 측정부탁드립니다.		 포항공과대학교 대학원 전자전기공학과 이준호 56,000원
1206 2021-08-20 14시 15시 나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업
전자과 최원영 (010.5436.2518)		 포항공과대학교 전자전기공학과 이정수 60,000원
1207 2021-08-20 15시 16시 x 포항공과대학교 전자전기공학과 이호인 59,000원
1208 2021-08-24 21시 22시 x 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 29,000원
1209 2021-08-26 10시 11시 전자과 박혁 (010-9879-7930) 포항공과대학교 전자전기공학과 성수원 29,000원
1210 2021-08-27 10시 11시 없음 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 29,000원
1211 2021-08-31 16시 17시 필름 두께 측정 포항공과대학교 대학원 전자전기공학과 이용수 29,000원
1212 2021-09-03 14시 16시 SiO2 wafer 6장 13point씩 측정 (주)울텍 기술연구소 박경아 160,000원
1213 2021-09-03 16시 18시 n-type Si wafer 위에 WO3 박막을 약 120nm 증착하였습니다. (Center 기준).
4인치 웨이퍼 상에서 위치별 film thickness 분포를 측정하고자 합니다.
1층 시편보관함에 두겠습니다.
감사합니다.		 포항공과대학교 신소재공학과 허성재 38,000원
1214 2021-09-09 16시 17시 a-Si:H 600nm를 PECVD로 증착했는데, 두께가 어느정도인지 측정 부탁드립니다.
측정 후 엑셀 데이터를 받을 수 있는지 궁금합니다.
universe16@postech.ac.kr 로 데이터를 보내주시면 감사하겠습니다.
15~16시에 이정익 연구원님께 PECVD공정을 의뢰했는데, 그 시편 측정이 필요한거라 그 시편을 받아서 측정해주시면 감사하겠습니다.

(*Glass Wafer는 Ellipsometer 측정이 불가능합니다.)		 포항공과대학교 기계공학과 김재경 37,000원
1215 2021-09-13 13시 15시 a-Si:H T300 recipe로 a-Si:H 700nm를 PECVD로 증착했는데, 두께가 어느정도인지 측정 부탁드립니다.
측정 후 전처럼 universe16@postech.ac.kr 로 데이터를 보내주시면 감사하겠습니다.
10~12시에 이정익 연구원님께 PECVD공정을 의뢰했는데, 그 시편 측정이 필요한거라 그 시편을 받아서 측정해주시면 감사하겠습니다.

 포항공과대학교 기계공학과 김재경 37,000원
1216 2021-09-17 10시 11시 x 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 29,000원
1217 2021-09-17 9시 10시 x 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 29,000원
1218 2021-09-28 15시 16시 안녕하세요.
포항공대 노준석 교수님 실험실 양영환입니다.
실리콘 기판 위에 올라간 3가지 종류의 TiN 굴절률 데이터를 측정하고자 합니다.

측정 의뢰를 하려고 하는데, del-phi 값, n,k 값을 연을 수 있는지 궁금합니다.
가능하다면 시편은 오늘 저녁 시편보관함 맡기는 쪽에 넣어두겠습니다.

측정 결과는 메일(younghwan@postech.ac.kr)로 받을 수 있는지 궁금합니다.
감사합니다.
포항공과대학교 기계공학과 양영환 71,000원
1219 2021-10-03 15시 15시 안녕하세요. 노준석 교수님 연구실 성준화학생입니다.

일립소메트리 직접사용 요청드립니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 성준화 28,500원
1220 2021-10-07 13시 14시 x 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 29,000원
1221 2021-10-08 14시 15시 x 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 29,000원
1222 2021-10-14 16시 17시 Si - Oxide 두께 측정 (주)예스파워테크니스 공정기술팀 이정훈 47,000원
1223 2021-10-15 16시 17시 10/14 Ar Dry Cleaning 후 측정 시료
DI 처리 후 Oxide 두께 측정		 (주)예스파워테크니스 공정기술팀 이정훈 29,000원
1224 2021-10-19 14시 15시 Dry Cleaning test (주)예스파워테크니스 공정기술팀 이정훈 38,000원
1225 2021-10-21 17시 18시 안녕하세요, 노준석 교수님 연구실에 김주훈입니다.

엘립소 측정 직접사용 요청드립니다.

항상 감사드립니다.		 포항공과대학교 기계공학과 김주훈 37,000원
1226 2021-10-22 11시 12시 x 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 29,000원
1227 2021-10-22 13시 13시 안녕하세요. 노준석 교수님 연구실 성준화 학생입니다.

일립소 메트리 직접사용 요청드립니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 성준화 37,000원
1228 2021-10-22 8시 9시 x 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 29,000원
1229 2021-10-25 10시 16시 실리콘 기판에 zep520a를 rpm을 다르게 하여 spin coating을 했는데, 높이 측정 부탁드립니다. 5개 기판이 있으며 높이 측정 후 값이 나온 데이터를 엑셀 파일로 보내주시면 감사하겠습니다.
universe16@postech.ac.kr 메일로 보내주시면 감사하겠습니다. 		포항공과대학교 기계공학과 김재경 37,000원
1230 2021-10-27 20시 21시 a-Si 박막 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 오동교 28,500원
1231 2021-10-28 10시 11시 oxide 두께 측정

나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업], 전자과 신성환(010.9081.6590)		 포항공과대학교 전자전기공학과 이정수 30,000원
1232 2021-11-02 14시 15시 안녕하세요
TiN 10 nm sputter로 증착한 것의 물성을 분석하고 싶습니다.
n, k 값을 얻고 싶습니다.

감사드립니다.		 포항공과대학교 화학공학과 고명철 38,000원
1233 2021-11-03 20시 21시 안녕하세요. 노준석 교수님 연구실 성준화 학생입니다.

일리소메트리 직접사용 요청드립니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 성준화 28,500원
1234 2021-11-04 9시 18시 [나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업] Oxide 측정 (주)에코넷코리아 기획부서 (주)에코넷코리아 1,020,000원
1235 2021-11-05 12시 13시 전자과 윤주영 포항공과대학교 전자전기공학과 성수원 29,000원
1236 2021-11-05 15시 16시 x 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 29,000원
1237 2021-11-08 10시 12시 SOI Wafer Thickness 측정 포항공과대학교 전자전기공학과 곽현탁 28,500원
1238 2021-11-09 9시 18시 [나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업]Oxide 측정 (주)에코넷코리아 기획부서 (주)에코넷코리아 1,020,000원
1239 2021-11-10 10시 11시 포항공대 노준석 교수님 실험실 양영환입니다.
Si 기판 위에 TiO2 증착되어 있는데 두꼐를 측정하려고 합니다.

ALD로 250 nm 증착 후, 에칭을 하였으며, etching ratio를 측정하기 위함이 목적입니다.
TiO2가 아에 증착이 안되어 있을 수 있어, 0 nm로 나오면 0nm 나왔다고 알려주시면 될것 같습니다.

기판은 2장이며, 시편보관함 안에 넣어두겠습니다.		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 37,000원
1240 2021-11-11 9시 18시 [나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업]Oxide 측정 (주)에코넷코리아 기획부서 (주)에코넷코리아 1,020,000원
1241 2021-11-12 9시 18시 [나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업]Oxide 측정 (주)에코넷코리아 기획부서 (주)에코넷코리아 1,020,000원
1242 2021-11-15 9시 18시 [나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업]Oxide 측정 (주)에코넷코리아 기획부서 (주)에코넷코리아 1,020,000원
1243 2021-11-16 9시 13시 [나노인프라 활용 중소기업 나노기술 응용제품 제작지원사업]Oxide 측정 (주)에코넷코리아 기획부서 (주)에코넷코리아 1,900,000원
1244 2021-11-18 9시 16시 EYEQ_03 (주)칩스케이 연구개발팀 임진홍 1,000,000원
1245 2021-11-22 10시 11시 Oxidation SOI 두께 측정 포항공과대학교 전자전기공학과 곽현탁 28,500원
1246 2021-11-23 10시 11시 HZO 두께 측정 포항공과대학교 대학원 전자전기공학과 김승모 38,000원
1247 2021-11-25 10시 12시 a-Si:H 700nm를 PECVD로 증착했는데, 높이 측정 부탁드립니다. 또한 n,k값도 측정 부탁드립니다.
측정 데이터를 universe16@postech.ac.kr 로 보내주시면 감사하겠습니다. 		포항공과대학교 기계공학과 김재경 37,000원
1248 2021-11-29 14시 15시 x 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 29,000원
1249 2021-11-29 14시 15시 안녕하세요, 노준석 교수님 연구실에 김주훈입니다.

엘립소미터 직접사용 요청드립니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 기계공학과 김주훈 28,500원
1250 2021-12-08 9시 10시 안녕하세요, 노준석 교수님 연구실에 김주훈입니다.

엘립소 측정 샘플 3가지 맡겨드립니다.
3개 엘립소로 측정 후 n,k값과 pi, delta 값, MSE 값까지 보내주시면 감사드리겠습니다.

항상 감사드립니다.		 포항공과대학교 기계공학과 김주훈 37,000원
1251 2021-12-21 9시 18시 나노융합기반고도화 사업_공정 테스트 (주)에코넷코리아 기획부서 (주)에코넷코리아 1,020,000원
1252 2021-12-24 9시 10시 X 포항공과대학교 저차원 전달 물질 연구소 장준혁 29,000원
1253 2021-12-28 11시 12시 TiN 3매 측정 포항공과대학교 화학공학과 고명철 38,000원
1254 2022-01-03 9시 10시 Anneal furnace 후 굴절률 측정 직접이용 (시편 8매) 포항공과대학교 기계공학과 김주훈 37,000원
1255 2022-01-13 10시 11시 SiN 측정 9point / 65,70,75도 주식회사 아이디피 부설연구소 김형원 40,000원
1256 2022-01-13 17시 18시 SiN 측정 13 point / 65,70,75도 주식회사 아이디피 부설연구소 김형원 40,000원
1257 2022-01-14 15시 16시 SiN thickness, SiN-VOx thickness 측정 총 2EA 주식회사 아이디피 부설연구소 김형원 60,000원
1258 2022-01-15 13시 18시 PECVD로 증착된 a-Si:H의 두께 및 굴절률을 측정하겠습니다.
직접사용하겠습니다.		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 88,000원
1259 2022-01-16 13시 17시 PECVD로 증착된 a-Si:H의 두께 및 굴절률을 측정하겠습니다.
직접사용하겠습니다.
감사합니다.		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 88,000원
1260 2022-01-18 14시 15시 Si wafer 위에 100nm정도 Al2O3가 증착되어 있습니다

wafer 하나당 center, left, right, top, bottom 이렇게 5 포인트씩 측정 부탁드립니다		 (주)울텍 기술연구소 박경아 60,000원
1261 2022-01-20 19시 23시 PECVD로 증착된 aSi의 두께 및 굴절률을 측정하겠습니다.
직접이용하겠습니다. 감사합니다.		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 88,000원
1262 2022-01-21 15시 16시 x 포항공과대학교 저차원 전달 물질 연구소 장준혁 29,000원
1263 2022-01-22 20시 24시 포항공대 노준석 교수님 실험실 양영환입니다.
PECVD로 증착된 a-SiH의 두께 및 굴절률을 측정하겠습니다.
감사합니다.		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 54,000원
1264 2022-01-24 10시 11시 SiN 65-75, SiN-VOx 65-75 주식회사 아이디피 부설연구소 김형원 60,000원
1265 2022-01-27 15시 16시 VOx 2EA 주식회사 아이디피 부설연구소 김형원 60,000원
1266 2022-01-27 18시 19시 VOx #16 주식회사 아이디피 부설연구소 김형원 40,000원
1267 2022-02-07 15시 16시 VOx 측정 주식회사 아이디피 부설연구소 김형원 50,000원
1268 2022-02-07 17시 18시 SiN-VOx 측정 4EA 주식회사 아이디피 부설연구소 김형원 60,000원
1269 2022-02-09 16시 16시 SiN-VOx 2EA 주식회사 아이디피 부설연구소 김형원 40,000원
1270 2022-02-10 14시 15시 VOx 측정 1EA 주식회사 아이디피 부설연구소 김형원 30,000원
1271 2022-02-17 12시 13시 #27 VOx 1EA 주식회사 보다 연구개발 김형원 29,000원
1272 2022-02-17 15시 16시 x 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 29,000원
1273 2022-02-20 17시 20시 포항공대 노준석 교수님 실험실 양영환입니다.
PECVD로 쌓은 SiN의 두께 및 굴절률을 측정하겠습니다.		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 62,500원
1274 2022-02-20 9시 10시 안녕하세요, 노준석 교수님 연구실에 김주훈입니다.

elliopsometer 직접사용신청 드립니다.

감사합니다.

김주훈 드림		 포항공과대학교 기계공학과 김주훈 28,500원
1275 2022-02-22 14시 15시 안녕하세요, 노준석 교수님 연구실에 김주훈입니다.

ellipsometer 직접사용 신청 드립니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 기계공학과 김주훈 28,500원
1276 2022-02-22 16시 17시 X 포항공과대학교 저차원 전달 물질 연구소 장준혁 29,000원
1277 2022-02-22 17시 18시 VOx #30 주식회사 아이디피 부설연구소 김형원 30,000원
1278 2022-02-23 14시 15시 VOx 측정 주식회사 아이디피 부설연구소 김형원 40,000원
1279 2022-02-24 13시 14시 VOx 측정 4EA 주식회사 아이디피 부설연구소 김형원 60,000원
1280 2022-02-24 17시 18시 3EA VOx 주식회사 아이디피 부설연구소 김형원 50,000원
1281 2022-02-27 15시 21시 포항공대 노준석 교수님 실험실 양영환입니다.
PECVD로 쌓은 SiN 박막의 두께 및 물성을 측정하겠습니다.
10회 직접 사용하도록 하겠습니다.
감사합니다.		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 105,000원
1282 2022-03-03 14시 15시 VOx 1EA 주식회사 아이디피 부설연구소 김형원 55,000원
1283 2022-03-06 16시 17시 박막 굴절률 측정 포항공과대학교 기계공학과 오동교 52,000원
1284 2022-03-07 16시 17시 Thickness meas. (주)칩스케이 연구개발팀 임진홍 0원
1285 2022-03-09 16시 16시 Thickness meas. (주)칩스케이 연구개발팀 임진홍 0원
1286 2022-03-10 10시 11시 . 포항공과대학교 대학원 전자전기공학과 도정현 52,750원
1287 2022-03-10 14시 15시 포항공대 노준석 교수님 실험실 양영환입니다.
Film 박막 두께 및 굴절률 측정에 이용하겠습니다 .
감사합니다.		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 76,000원
1288 2022-03-10 17시 17시 Gate oxide thickness meas. (주)칩스케이 연구개발팀 임진홍 0원
1289 2022-03-12 15시 16시 박막 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 오동교 52,000원
1290 2022-03-16 10시 11시 x 포항공과대학교 저차원 전달 물질 연구소 장준혁 62,500원
1291 2022-03-18 21시 21시 안녕하세요.

노준석 교수님 연구실 성준화 학생입니다.

일립소메트리 직접사용 요청드립니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 성준화 52,000원
1292 2022-03-22 10시 11시 안녕하세요. 포항공대 노준석 교수님 연구실 성준화 입니다.

글래스 기판, 샘플 2개 aSi:H 470 nm dry-etching 부탁드립니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 성준화 80,000원
1293 2022-03-23 11시 12시 ALD공정 Al2O3 oxide 두께 측정 포항공과대학교 저차원 전달 물질 연구소 장준혁 53,500원
1294 2022-03-25 19시 20시 SiO2 박막 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 오동교 52,000원
1295 2022-03-30 21시 21시 박막 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 오동교 52,000원
1296 2022-04-04 16시 18시 안녕하세요 선생님
Si substrate 위에 TiN이 증착되어 있습니다.

ALD로 3가지 온도, sputter로 증착이 되어있는데,
이들의 두께, n, k, psi-del-model 데이터 모두 원합니다.

샘플의 경우 오늘 오후 3~4시정도에 샘플보관함에 두겠습니다.
분석이 오늘 중이 아니어도 괜찮습니다!
감사드립니다.		 포항공과대학교 화학공학과 고명철 85,000원
1297 2022-04-05 13시 14시 X 포항공과대학교 저차원 전달 물질 연구소 장준혁 52,750원
1298 2022-04-13 19시 20시 박막 굴절률 측정 포항공과대학교 기계공학과 오동교 52,000원
1299 2022-04-18 12시 13시 X 포항공과대학교 저차원 전달 물질 연구소 장준혁 52,750원
1300 2022-04-19 10시 15시 FE-SEM 측정 청구 나노융합기술원 공정지원팀 김동은 1,000,000원
1301 2022-04-19 17시 18시 VOx 두께 측정 주식회사 아이디피 부설연구소 김형원 65,000원
1302 2022-04-25 9시 10시 안녕하십니까 선생님
TiN의 두께, n, k 값, psi-del-model 그래프 모두 얻고 싶습니다.

기판의 경우 저번에 말씀주신대로, Si기판위 SiO2가 3000A 깔려 있으며,
그 위에 TiN을 ALD와 sputter로 증착을 하였습니다.
20 nm정도가 가장 정확한것으로 말씀주셨던 것으로 기억합니다만
ALD 두께는 5, 10, 15, 20nm 가 있고, sputter는 20 nm 한장만 있습니다.
두께에 따른 분석도 시도해보고 싶습니다.		 포항공과대학교 화학공학과 고명철 62,500원
1303 2022-05-10 9시 10시 X 포항공과대학교 저차원 전달 물질 연구소 장준혁 52,750원
1304 2022-05-12 13시 14시 박막 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 오동교 52,000원
1305 2022-05-17 9시 12시 Si wafer위에 ZrO2를 증착한 조각입니다

한조각당 한포인트씩 측정해 주시면 됩니다		 (주)울텍 기술연구소 박경아 90,000원
1306 2022-05-18 17시 18시 박막 굴절률 데이터 측정 포항공과대학교 기계공학과 오동교 52,000원
1307 2022-05-19 13시 14시 안녕하세요, 노준석 교수님 연구실 김주훈입니다.

엘립소미터 굴절률 분석 부탁드립니다.
TiO2 물질 glass 위에 800nm 정도 쌓은 샘플 TiO2의 굴절률 측정 가능할까요?
예상 굴절률은 2.3정도 됩니다.		 포항공과대학교 기계공학과 김주훈 60,000원
1308 2022-05-20 13시 14시 VOx 두께 측정 주식회사 아이디피 부설연구소 김형원 100,000원
1309 2022-05-23 1시 10시 안녕하세요, 노준석 교수님 연구실에 김주훈입니다.

Si 기판에 TiO2 증착된 샘플 굴절률 분석 맡겨드립니다.

샘플은 600도, 800도, 1000도 에서 annealing한 샘플 3장입니다.

각각 구분해서 굴절률 데이터 보내주시면 감사드리겠습니다.

영역은 가시광 영역 (400~800)으로 측정 진행해주시면 감사드리겠습니다.

문의사항은 연락처로 언제든 연락주시면 감사드리겠습니다.		 포항공과대학교 기계공학과 김주훈 100,000원
1310 2022-05-23 14시 15시 Thickness measure 포항공과대학교 전자전기공학과 곽현탁 52,750원
1311 2022-05-24 14시 15시 두께가 다른 4 개의 Al2O3 thin film 조각 on SiO2(90nm)/Si subs 두께 ellipsometry로 측정 진행하고자 합니다. 포항공과대학교 대학원 전자전기공학과 김민재 82,500원
1312 2022-05-25 13시 15시 pva thickness 측정 포항공과대학교 기계공학과 김재경 52,000원
1313 2022-05-25 17시 18시 전자과 윤주영 포항공과대학교 전자전기공학과 전길수 53,500원
1314 2022-05-26 18시 19시 안녕하세요, 노준석 교수님 연구실에 김주훈입니다.

엘립소 직접이용 신청드립니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 기계공학과 김주훈 52,000원
1315 2022-06-07 11시 12시 Si Wafer에 Al2O3를 증착한 조각 8개입니다.

한 조각당 한포인트씩 측정해주시면 될 것 같습니다.

측정결과는 jhseok@ultech.co.kr 으로 보내주셨으면 합니다.

감사합니다.		 (주)울텍 기술연구소 박경아 140,000원
1316 2022-06-07 17시 18시 film thickness 측정 포항공과대학교 전자전기공학과 곽현탁 52,750원
1317 2022-06-14 12시 13시 LOT ID: UE3700
목적: 박막 두께 측정		 (주)유우일렉트로닉스 FAB팀 조기수 65,000원
1318 2022-06-14 15시 16시 Thickness measurement 포항공과대학교 전자전기공학과 곽현탁 52,750원
1319 2022-06-15 10시 11시 LOT ID: UE3700
목적: 박막 두께 측정
 (주)유우일렉트로닉스 FAB팀 조기수 65,000원
1320 2022-06-15 16시 17시 LOT ID: UE3700
목적: 박막 두께 측정
 (주)유우일렉트로닉스 FAB팀 조기수 65,000원
1321 2022-06-15 19시 21시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

PECVD로 a-Si:H를 glass 기판에 증착하고 두께를 직접 측정하려고 합니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 160,000원
1322 2022-06-17 17시 18시 포항공과대학교 창의IT융합공학과 최민근 65,500원
1323 2022-06-20 16시 17시 전자과 윤주영 포항공과대학교 전자전기공학과 전길수 52,750원
1324 2022-06-21 13시 14시 Thickness measure 포항공과대학교 전자전기공학과 곽현탁 52,750원
1325 2022-06-29 13시 14시 안녕하세요, 노준석 교수님 연구실 김주훈입니다.

직접아용 신청드립니다.

항상 감사드립니다.		 포항공과대학교 기계공학과 김주훈 52,000원
1326 2022-07-01 11시 12시 전자과 윤주영 포항공과대학교 전자전기공학과 전길수 52,750원
1327 2022-07-01 14시 16시 PECVD SiO2 7000A 증착 진행 Film 두께 및 Uniformity 측정 싸니코전자(주) 개발팀 최주헌 115,000원
1328 2022-07-03 13시 14시 안녕하세요, 노준석 교수님 연구실입니다.

Ellioso 직접이용 신청 드립니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 기계공학과 김주훈 52,000원
1329 2022-07-08 13시 14시 조각 1개당 1point씩 측정해 주시면 될 것 같습니다. (주)울텍 기술연구소 박경아 165,000원
1330 2022-07-08 14시 15시 전자과 윤주영 포항공과대학교 전자전기공학과 전길수 52,750원
1331 2022-07-14 16시 17시 X 포항공과대학교 저차원 전달 물질 연구소 장준혁 52,750원
1332 2022-07-15 17시 19시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

pecvd로 amorphous silicon 증착 후, 두께를 직접 측정하려고 합니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 76,000원
1333 2022-07-15 9시 10시 [나노융합기반고도화사업] 전자과 윤주영 (010-2768-0418) 포항공과대학교 전자전기공학과 이정수 55,000원
1334 2022-07-18 14시 16시 FE-SEM (Si Epi / Si-Ge 포함 Epi) 확인 (2hr) 나노융합기술원 기술지원팀 강민재 120,000원
1335 2022-07-19 9시 10시 [나노융합기반 고도화산업]
VOx 두께 측정		 주식회사 보다 연구개발 김형원 55,000원
1336 2022-07-20 16시 18시 titanium nitride 박막을 측정하길 원합니다.
명지대학교 전자공학과 강주은 65,000원
1337 2022-07-21 10시 11시 titanium nitride 박막을 측정하길 원합니다. 명지대학교 전자공학과 강주은 315,000원
1338 2022-07-21 15시 16시 - 포항공과대학교 창의IT융합공학과 유형석 52,750원
1339 2022-07-27 15시 17시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

4 inch glass wafer에 amorphous silicon을 직접 증착하고 높이를 측정하려고 합니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 76,000원
1340 2022-07-29 14시 16시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

4 inch glass wafer에 amorphous silicon을 쌓고 높이를 직접 측청하려고 합니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 76,000원
1341 2022-08-01 17시 18시 X 포항공과대학교 저차원 전달 물질 연구소 장준혁 52,750원
1342 2022-08-03 19시 21시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

4 inch glass wafer에 amorphous silicon을 쌓고 높이를 측정하려고 합니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 64,000원
1343 2022-08-04 19시 21시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

4 inch glass wafer에 amorphous silicon 직접 증착하고 높이를 측정하려고 합니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 64,000원
1344 2022-08-05 19시 21시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

4 inch glass wafer에 amorphous silicon 직접 증착하고 높이를 측정하려고 합니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 64,000원
1345 2022-08-10 17시 18시 [나노융합기반 고도화사업], 전자과 윤주영 (010-2768-0418) 포항공과대학교 전자전기공학과 이정수 55,000원
1346 2022-08-12 13시 14시 안녕하세요. 포항공대 노준석 교수님 연구실 성준화 학생입니다.

일립소 메트리 직접사용 요청드립니다.

ZrO2 물성 측정 예정입니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 성준화 64,000원
1347 2022-08-12 19시 21시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

4 inch glass wafer에 amorphous silicon를 증착하고 높이를 재려고 합니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 52,000원
1348 2022-08-15 19시 21시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

4 inch glass wafer에 amorphous silicon을 쌓고 thickness 측정하려고 합니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 64,000원
1349 2022-08-16 15시 16시 X 포항공과대학교 저차원 전달 물질 연구소 장준혁 52,750원
1350 2022-08-18 13시 14시 Si wafer 위에 SiO2 층이 2900A 올라간 기판에 TiN을 20 nm 증착후에
Eliipsometry를 측정하고자 합니다.

n, k 값을 200~1000nm에서 알고 싶습니다.
psi-del-model 값도 주시면 감사드리겠습니다.
감사드립니다.		 포항공과대학교 화학공학과 고명철 62,500원
1351 2022-08-18 14시 15시 VOx 30nm 측정 2EA 주식회사 보다 연구개발 김형원 67,000원
1352 2022-08-19 18시 19시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

4 inch glass wafer에 amorphous silicon을 직접 증착하고 thickness를 측정하려고 합니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 52,000원
1353 2022-08-23 10시 11시 TiO2 포항공과대학교 대학원 기계공학과 전나라 64,000원
1354 2022-08-23 15시 16시 TiN 20nm thickness 확인 및 n,k 값 data 송부 포항공과대학교 화학공학과 고명철 62,500원
1355 2022-08-25 11시 12시 010 9081 6590 신성환 나노인프라 사업 포항공과대학교 전자전기공학과 이정수 55,000원
1356 2022-09-01 18시 19시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

4 inch glass wafer에 amorphous silicon을 직접 증착하고 높이를 측정하려고 합니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 64,000원
1357 2022-09-07 10시 11시 2022년 8월 18일 Ellipsometer 조각 Sample 15매 TiN 5pt 측정 (주)디엔에프 반도체재료연구센터 박건주 415,000원
1358 2022-09-07 17시 18시 2022년 8월 31일 Ellipsometer 조각 Sample 13매 TiN 5pt측정 (주)디엔에프 반도체재료연구센터 박건주 365,000원
1359 2022-09-08 10시 12시 2022년 09월 05일 Ellipsometer 조각 Sample 24매 TiN 5pt 측정 (주)디엔에프 반도체재료연구센터 박건주 640,000원
1360 2022-09-08 13시 14시 2022년 09월 08일 Ellipsometer 조각 Sample 12매 TiN 5pt 측정 (주)디엔에프 반도체재료연구센터 박건주 340,000원
1361 2022-09-13 16시 17시 PE_TEOS Si 500A, 700A, 1000A (선행 4회, 본장 3회), SiC 500A(1회) 총 8회
 주식회사 엘엑스세미콘 소자팀 김동균 240,000원
1362 2022-09-14 9시 10시 SiC 1매 500A Oxidation 두께 측정 주식회사 엘엑스세미콘 소자팀 김동균 65,000원
1363 2022-09-15 16시 17시 조각 Sample 6매 TiN 5pt 측정 (주)디엔에프 반도체재료연구센터 박건주 190,000원
1364 2022-09-19 15시 16시 [나노융합기반 고도화사업], 전자과 박혁 01098797930 포항공과대학교 전자전기공학과 이정수 55,000원
1365 2022-09-20 10시 11시 ALD VOx 증착 두께 측정- 1EA 주식회사 보다 연구개발 김형원 53,500원
1366 2022-09-27 20시 22시 박막 굴절률 측정 포항공과대학교 기계공학과 오동교 88,000원
1367 2022-10-06 18시 19시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

2cm by 2cm glass substrate에 amorphous silicon을 증착하고 직접 두께를 측정하려고 합니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 64,000원
1368 2022-10-06 9시 10시 VOx 두께 측정_ 8인치 1매 주식회사 보다 연구개발 김형원 53,500원
1369 2022-10-11 18시 19시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

2by2 glass 기판에 amorphous silicon 직접 증착하고 높이를 측정하려고 합니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 52,000원
1370 2022-10-13 10시 12시 안녕하세요. 포항공대 노준석 교수님 연구실 성준화 학생입니다.

Ti3O5 물성 분석 의뢰 드립니다.

실리콘 기판, 글래스 기판 각각 하나씩에 Ti3O5 100 nm 증착되어 있으며

일립소 메트리의 델 파이/n, k 값 분석 의뢰 드립니다.

측정되면 메일로 알려주시면 감사하겠습니다.

성준화 드림.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 성준화 80,000원
1371 2022-10-21 10시 11시 a-Silicon 80nm 가
Si substrate 위에 증착되어있습니다. (E-beam deposition으로 증착)
최대한 넓은 파장까지의 n,k 값을 측정하고자 합니다.
(visible 영역~IR 영역 측정을 부탁드립니다.)
감사합니다.		 애즈미(주) 기계공학과 송주권 65,000원
1372 2022-10-24 10시 11시 8\" Si wafer 위에 증착된 HZO 두께 측정 및 모델 의뢰 포항공과대학교 대학원 전자전기공학과 김승모 61,250원
1373 2022-10-25 13시 14시 VOx 두께 측정 주식회사 아이디피 부설연구소 김형원 53,500원
1374 2022-10-25 16시 16시 VOx 박막 두께 측정 주식회사 아이디피 부설연구소 김형원 53,500원
1375 2022-10-25 21시 22시 박막 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 오동교 52,000원
1376 2022-10-26 10시 11시 HZO on Si 측정 포항공과대학교 대학원 전자전기공학과 김승모 103,750원
1377 2022-10-27 10시 10시 VOx 두께 측정 주식회사 아이디피 부설연구소 김형원 53,500원
1378 2022-10-27 16시 17시 VOx 두께측정 주식회사 아이디피 부설연구소 김형원 53,500원
1379 2022-10-28 09시 12시 5매 두께 및 굴절률 측정 (주)이너센서 경영, 연구소 강문식 140,000원
1380 2022-10-28 14시 15시 221027#30_1 , 2 두께 측정 주식회사 아이디피 부설연구소 김형원 67,000원
1381 2022-11-01 15시 16시 6인치 웨이퍼 6장 ellipsometer 측정을 의뢰드립니다.
기판은 Si wafer 이며,
#1,2 : Al2O3 100nm 증착
#3,4 : Al2O3 200nm 증착
#5,6 : Al2O3 300nm 증착 되어있습니다.
잘 부탁드립니다.
감사합니다.
 애즈미(주) 기계공학과 송주권 190,000원
1382 2022-11-01 19시 20시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

실리콘 위에 스핀코팅된 포토레지스트의 굴절률을 직접 측정하려고 합니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 64,000원
1383 2022-11-03 12시 13시 [나노융합기반 고도화사업], 전자과 윤주영 (010.2768.0418) 포항공과대학교 전자전기공학과 이정수 55,000원
1384 2022-11-08 19시 20시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

4 인치 glass wafer에 증착된 amorphous silicon의 굴절률과 두께를 측정하려고 합니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 64,000원
1385 2022-11-09 16시 18시 2022년 11월 09일 Ellipsometer 조각 Sample 16매 TiN 5pt 측정 (주)디엔에프 반도체재료연구센터 박건주 440,000원
1386 2022-11-10 11시 12시 필름 이름 : PEA2SnI4
증착된 기판 종류: Si, Au, Cu, Al (총 4개)
레퍼런스 기판 : Au, Cu, Al (총 3개)
기판 크기 및 두께: 1.5x1.5 cm, 1 mm
뒷면에 이름 기재됨.
 포항공과대학교 화학공학과 박준호 62,500원
1387 2022-11-14 10시 11시 . 포항공과대학교 전자전기공학과 최원영 52,750원
1388 2022-11-14 15시 15시 VOx 30nm 두께 측정 주식회사 아이디피 부설연구소 김형원 53,500원
1389 2022-11-14 16시 17시 Si wafer 위에 Native SiO2 성장되어 있는 Wafer에 Hf1-xZrxO2 Film ~10nm ALD로 쌓은 샘플입니다. 포항공과대학교 대학원 신소재공학과 장호중 62,500원
1390 2022-11-15 10시 11시 VOx 박막 두께 측정 주식회사 아이디피 부설연구소 김형원 67,000원
1391 2022-11-21 19시 20시 VOx 박막 두께 측정 주식회사 아이디피 부설연구소 김형원 53,500원
1392 2022-11-22 12시 13시 VOx 두께측정 주식회사 아이디피 부설연구소 김형원 53,500원
1393 2022-11-23 11시 12시 VOx 두께 측정 주식회사 아이디피 부설연구소 김형원 67,000원
1394 2022-11-24 10시 11시 VOx 두께 측정 주식회사 아이디피 부설연구소 김형원 53,500원
1395 2022-11-25 13시 14시 VOx 두께 측정 주식회사 아이디피 부설연구소 김형원 53,500원
1396 2022-11-28 16시 17시 . 포항공과대학교 전자전기공학과 최원영 52,750원
1397 2022-12-01 11시 12시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

2 by 2 silicon 기판에 HfO2 필름의 굴절률을 직접 측정하려고 합니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 강도현 64,000원
1398 2022-12-09 10시 11시 전자과 윤주영 (010-2768-0418) 포항공과대학교 전자전기공학과 성수원 52,750원
1399 2022-12-09 14시 15시 [나노융합기반 고도화사업], 전자과 도정현 (010.9766.0039)
 포항공과대학교 전자전기공학과 이정수 100,000원
1400 2022-12-12 10시 11시 ellipsometer 21pt meas

point 제작		 포항공과대학교 대학원 전자전기공학과 김승모 103,750원
1401 2022-12-13 16시 17시 PDMS(Polydimethylsiloxane) 박막 코팅의 두께정보 분석 요청드립니다.
분석법은 저번과 동일하게 평가해주시길 바랍니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 화학공학과 류민 62,500원
1402 2022-12-15 10시 11시 VOx 두께측정 주식회사 아이디피 부설연구소 김형원 101,500원
1403 2022-12-19 16시 17시 전자과 윤주영 (010-2768-0418) 포항공과대학교 전자전기공학과 성수원 52,750원
1404 2022-12-28 10시 11시 2.5 cm X 2.5cm 조각샘플 4개입니다.

Si 기판 위에 WO3 가 thickness monitor 기준 100nm 올라가 있습니다.

실제 두께 측정의뢰합니다.		 포항공과대학교 신소재공학과 백상원 62,500원
1405 2023-01-17 14시 15시 VOx 두께측정 주식회사 아이디피 부설연구소 김형원 115,000원
1406 2023-01-18 10시 11시 Vox 두께 측정 주식회사 아이디피 부설연구소 김형원 55,000원
1407 2023-01-18 14시 15시 VOx 두께측정 주식회사 아이디피 부설연구소 김형원 53,500원
1408 2023-01-20 16시 17시 안녕하세요, 엘립소 30분 이용 신청드립니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 기계공학과 김주훈 52,000원
1409 2023-01-20 9시 10시 Vox 두께 측정 주식회사 아이디피 부설연구소 김형원 85,000원
1410 2023-01-26 13시 14시 [나노융합기반 고도화사업], 전자과 손종민 (010.9766.0039)
 포항공과대학교 전자전기공학과 이정수 70,000원
1411 2023-01-26 15시 17시 나노기술 전문인력 양성과정 나노융합기술원 확산 송종호 0원
1412 2023-02-02 14시 14시 VOx 두께 측정 주식회사 아이디피 부설연구소 김형원 55,000원
1413 2023-02-02 15시 16시 나노인력양성 고급교육 나노융합기술원 확산 송종호 0원
1414 2023-02-07 9시 10시 [나노융합기반 고도화사업], 전자과 손종민 (010.9766.0039)

300um glass 위에 50nm poly-Si가 증착되어 있을 것으로 예상되는 기판입니다. 추가로 50nm Si 위에 수nm의 native oxide가 있을 것으로 예상됩니다. 해당 기판 ellipso 측정 후 recipe도 저장해주시면 감사하겠습니다.		 포항공과대학교 전자전기공학과 이정수 65,000원
1415 2023-02-09 21시 22시 Si 두께 reference 측정 포항공과대학교 대학원 기계공학과 김홍두 52,750원
1416 2023-02-10 21시 22시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

glass wafer 위에 amorphous silicon 증착하고 두께를 직접 측정하려고 합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 52,000원
1417 2023-02-11 14시 15시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

silicon, glass 기판 위에 amorphous silicon을 증착하고 높이를 직접 측정하려고 합니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 52,000원
1418 2023-02-12 16시 17시 a-si:h 두께 측정 예정입니다. 포항공과대학교 기계공학과 김재경 52,000원
1419 2023-02-13 19시 20시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

silicon 기판 위에 silicon dioxide를 증착하고 높이를 직접 측정하려고 합니다.

오후 6시 전에 하려고 했으나 일정이 있어서 저녁 이후로 장비 예약 신청하는 점 양해 부탁드립니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 52,000원
1420 2023-02-13 9시 10시 안녕하세요,

엘립소 직접이용 신청드립니다.		 포항공과대학교 기계공학과 김주훈 52,000원
1421 2023-02-14 14시 15시 SiC 두께 측정 (주)에프에스티 EUV 펠리클팀 이화철 90,000원
1422 2023-02-14 19시 20시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

4 inch glass wafer 위에 amorphous silicon을 직접 증착하고 높이를 측정하려고 합니다.

오후에 일정이 있어서 저녁 이후로 신청하는 점 양해 부탁드립니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 52,000원
1423 2023-02-16 18시 19시 a-si:h, sio2 증착 두께 측정예정입니다. 포항공과대학교 기계공학과 김재경 52,000원
1424 2023-02-17 14시 15시 [나노융합기반 고도화사업], 전자과 손종민 (010.9766.0039) 포항공과대학교 전자전기공학과 이정수 55,000원
1425 2023-02-17 17시 18시 FST Wafer Main 진행 후 두께 측정 (주)에프에스티 EUV 펠리클팀 이화철 290,000원
1426 2023-02-19 14시 15시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

4 inch glass wafer에 amorphous silicon, silicon dioxide multilayer를 증착한 후 높이를 직접 측정하려고 합니다.

주중에는 일정이 있어서 사용하지 못할 것 같아 일요일에 신청하는 점 양해 부탁드립니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 52,000원
1427 2023-02-19 18시 19시 a-Si:H 박막 두께 측정예정입니다. 포항공과대학교 기계공학과 김재경 52,000원
1428 2023-02-22 10시 11시 Substrate spec :
- Diameter: 150 mm
- Dopant: N/Phos
- Orientation : (100)
- Thickness: 675 ±25 um
- Resistivity: 1 ~ 10 ohm/cm
- Grade: Prime
- Surface : Single side polished

측정 대상 Film
- LPCVD Poly-Si
- 예상 두께: 0.5 um		 한국생산기술연구원 첨단메카트로닉스연구그룹 노은식 140,000원
1429 2023-02-22 15시 17시 Al2O3, AlN 25Point 두께 측정 주식회사 스카이웍스필터솔루션즈코리아 스카이웍스 박명현 440,000원
1430 2023-02-24 18시 19시 두께 측정 포항공과대학교 창의IT융합공학과 최민근 52,750원
1431 2023-02-24 19시 20시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

2 by 2 glass 기판 위에 amorphous silicon 증착한 시편의 높이를 측정하려고 합니다.

일정 상 저녁에 장비 예약하는 점 양해 부탁드립니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 64,000원
1432 2023-02-26 20시 21시 a-Si:H 두께 측정 예정입니다. 포항공과대학교 기계공학과 김재경 52,000원
1433 2023-02-27 21시 22시 a-Si:H refractive index 측정예정입니다. 포항공과대학교 기계공학과 김재경 52,000원
1434 2023-03-07 16시 17시 VOx 두께 측정 주식회사 보다 연구개발 김형원 57,000원
1435 2023-03-07 17시 18시 VOx 두께 측정 주식회사 보다 연구개발 김형원 57,000원
1436 2023-03-07 18시 19시 포항공대 노준석교수님 연구실입니다.

2 by 2 유리기판 위에 amorphous silicon을 직접 증착하고 높이를 측정하려고 합니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 56,000원
1437 2023-03-07 19시 20시 포항공대 노준석교수님 연구실입니다.

2 by 2 유리기판 위에 amorphous silicon을 직접 증착하고 높이를 측정하려고 합니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 56,000원
1438 2023-03-07 19시 20시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

4 inch fused silica wafer 위에 amorphous silicon, silicon dioxide 의 두께를 직접 측정하려고 합니다.

주간에는 일정 상 도저히 시간이 나지 않아 저녁 이후에 신청하는 점 양해 부탁드립니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 56,000원
1439 2023-03-07 20시 21시 포항공대 노준석교수님 연구실입니다.

2 by 2 유리기판 위에 amorphous silicon의 높이를 직접 측정하려고 합니다.

일정상 저녁 이후에 신청하는 점 양해 부탁드립니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 56,000원
1440 2023-03-08 13시 14시 Vox 두께 측정 주식회사 보다 연구개발 김형원 74,000원
1441 2023-03-09 13시 15시 이중 layer 박막 두께 측정
Layer 정보 : Poly-Si (4000~7000Å)/ Oxide (200~1000Å) / SiC substrate		 충남대학교 재료공학과 황규환 97,000원
1442 2023-03-09 15시 16시 Poly / oxide 두께 측정 충남대학교 재료공학과 황규환 97,000원
1443 2023-03-09 18시 20시 a-Si, SiN 두께 측정 예정입니다. 포항공과대학교 기계공학과 김재경 56,000원
1444 2023-03-09 20시 21시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

2 by 2 glass substrate 위에 amorhphous silicon의 높이를 측정하려고 합니다.

주간에는 시간이 나지 않아 야간에 신청하는 점 양해 부탁드립니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 56,000원
1445 2023-03-10 14시 15시 물질에 대한 자세한 정보는 메일 드리겠습니다. 포항공과대학교 대학원 신소재공학과 김지호 175,000원
1446 2023-03-10 15시 16시 VOx 두께 측정 주식회사 보다 연구개발 김형원 57,000원
1447 2023-03-10 20시 21시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

2 by 2 glass substrate 위에 amorhphous silicon의 높이를 측정하려고 합니다.

주간에는 시간이 나지 않아 야간에 신청하는 점 양해 부탁드립니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 72,000원
1448 2023-03-11 11시 13시 포항공대 노준석 교수님 실험실 입니다.
PECVD로 쌓은 박막의 두께를 측정하겠습니다.		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 72,000원
1449 2023-03-11 14시 17시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

2 by 2 glass substrate에 amorphous silicon 의 높이를 직접 측정하려고 합니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 72,000원
1450 2023-03-12 16시 17시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

2 by 2 glass substrate 위에 amorphous silicon의 두께를 직접 측정하려고 합니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 72,000원
1451 2023-03-13 17시 18시 안녕하세요, 노준석 교수님 연구실에 김주훈입니다.

Eliipso 직접사용 신청드립니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 기계공학과 김주훈 56,000원
1452 2023-03-14 19시 21시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

유리기판 위에 amorphous silicon의 두께와 n, k 값을 직접 측정하려고 합니다.

일정 상 저녁 이후에 장비 신청하는 점 양해 부탁드립니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 56,000원
1453 2023-03-15 19시 20시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

2 by 2 glass substrate 위 amorphous silicon의 두께를 직접 측정하려고 합니다.

일정 상 저녁 이후에 신청하는 점 양해 부탁드립니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 56,000원
1454 2023-03-16 13시 14시 PECVD Si3N4 1um Deposition Wafer Measure 싸니코전자(주) 개발팀 최주헌 70,000원
1455 2023-03-16 18시 19시 SiN 두께 측정 예정입니다. 포항공과대학교 기계공학과 김재경 56,000원
1456 2023-03-16 19시 20시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

2 by 2 glass substrate 위의 amorhphous silicon의 두께를 직접 측정하려고 합니다.

일정 상 저녁 이후에 신청하는 점 양해 부탁드립니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 56,000원
1457 2023-03-17 19시 21시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

유리기판 위의 amorhphous silicon 의 두께를 직접 측정하려고 합니다.

일정 상 저녁 이후에 신청하는 점 양해 부탁드립니다.

감사합니다.
 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 56,000원
1458 2023-03-20 13시 14시 굴절률 분석 서비스 신청합니다.

샘플: WO3 약 100 nm


희망 분석 영역: 400 ~ 2500 nm

 포항공과대학교 신소재공학과 백상원 67,000원
1459 2023-03-22 15시 17시 UV resin 굴절률 측정 포항공과대학교 기계공학과 오동교 56,000원
1460 2023-03-27 14시 16시 polymer resin film 굴절률을 직접 측정하도록 하겠습니다 포항공과대학교 기계공학과 강현정 200,000원
1461 2023-03-27 16시 17시 VOx 두께 측정 주식회사 보다 연구개발 김형원 74,000원
1462 2023-03-29 15시 16시 HfO2 and ZrO2 deposited on wafer coated with 25nm tungstan 포항공과대학교 대학원 Materials science and engineering Mostafa Habibi 94,000원
1463 2023-03-30 12시 14시 요청드린 시간에 박막 굴절률 측정을 직접 하도록 하겠습니다 포항공과대학교 기계공학과 강현정 120,000원
1464 2023-03-30 14시 15시 전자전기공학과 윤주영 (010-2768-0418) 포항공과대학교 전자전기공학과 윤주영 56,000원
1465 2023-03-30 21시 23시 포항공대 노준석 교수님 실험실 양영환입니다.
ZEP PR 두께, a-Si:H 두께를 측정하겠습니다. 5회 이용하겠습니다.
감사합니다.		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 120,000원
1466 2023-04-03 10시 11시 VOx 두께 측정 주식회사 보다 연구개발 김형원 125,000원
1467 2023-04-03 22시 23시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

2 by 2 glass substrate 위의 amorphous silicon의 두께를 직접 측정하려고 합니다.

일정 상 저녁 이후에 신청하는 점 양해 부탁드립니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 56,000원
1468 2023-04-04 17시 18시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

2 by 2 glass substrate 위에 amorphous silicon의 두께를 직접 측정하려고 합니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 56,000원
1469 2023-04-05 9시 10시 전자과 윤주영(010-2768-0418) 포항공과대학교 전자전기공학과 윤주영 56,000원
1470 2023-04-06 20시 22시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

2 by 2 glass substrate 위에 amorphous silcon의 높이를 직접 측정하려고 합니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 56,000원
1471 2023-04-07 14시 15시 polymer 굴절률 측정 포항공과대학교 기계공학과 김재경 56,000원
1472 2023-04-07 15시 17시 particle imprinting resin
직접 굴절률 측정 진행하겠습니다.		 포항공과대학교 기계공학과 강현정 120,000원
1473 2023-04-07 20시 22시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

2 by 2 glass substrate 위의 amorphous silicon의 두께를 직접 측정하려고 합니다.

일정 상 저녁 이후에 신청하는 점 양해 부탁드립니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 56,000원
1474 2023-04-09 16시 18시 노준석 교수님 실험실 양영환입니다.
PECVD로 증착된 a-Si를 측정하겠습니다.
감사합니다.		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 88,000원
1475 2023-04-10 20시 21시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

2 by 2 glass substrate 위의 amorphous silicon의 높이를 직접 측정하려고 합니다.

일정 상 저녁 이후에 신청하는 점 양해 부탁드립니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 56,000원
1476 2023-04-11 19시 20시 안녕하세요.
포항공대 노준석 교수님 실험실 양영환입니다.
PECVD로 증착된 film의 두꼐/굴절률을 측정하고자 합니다.
직접사용하도록 하겠습니다. 		포항공과대학교 기계공학과 양영환 88,000원
1477 2023-04-12 19시 21시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

2 by 2 glass substrate 위의 amorphous silicon 의 두께를 직접 증착하려고 합니다.

일정 상 저녁 이후에 신청하는 점 양해 부탁드립니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 56,000원
1478 2023-04-13 19시 21시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

2 by 2 glass substrate 위의 amorphous silicon의 두께를 직접 증착하려고 합니다.

일정 상 저녁 이후에 신청하는 점 양해 부탁드립니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 56,000원
1479 2023-04-14 16시 17시 Particle imprint resin 굴절률 직접 축정하도록 하겠습니다 포항공과대학교 기계공학과 강현정 120,000원
1480 2023-04-14 17시 18시 Wafer spec. : Prime grade, P type Si, Ori.100, Res : 1-10 Ohm Cm, Th : 525 µm, SSP ( 뒷면 : toch polished)

증착 물질 : HfO2
(metalic? non-metalic 헷갈리는데 HfO2 film이고 Hf가 있어서 metalic이라고 표시했습니다.)

예상 형성 두께 : 11.707 nm ~ 13.252 nm (8 inch 웨이퍼 동일 공정 조건 적용 기준)

4인치 웨이퍼에서 가능한 많은 point 측정을 희망합니다.

스케줄 상 장비 라이센스 교육 불가시 이용 목적 --> 연구 개발

그 외 사항은 연락드려 다시 확인드리겠습니다.		 포항공과대학교 대학원 전자전기공학과 박종서 128,000원
1481 2023-04-15 15시 17시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

2 by 2 glass substrate 위의 amorphous silicon의 두께를 직접 증착하려고 합니다.

일정 상 주말에 신청하는 점 양해 부탁드립니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 56,000원
1482 2023-04-17 20시 22시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

2 by 2 glass substrate 위의 amorphous silicon의 두께를 직접 증착하려고 합니다.

일정 상 저녁 이후에 신청하는 점 양해 부탁드립니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 56,000원
1483 2023-04-18 9시 10시 particle imprint resin 박막 굴절률 측정을 직접 하도록 하겠습니다 포항공과대학교 기계공학과 강현정 88,000원
1484 2023-04-20 20시 22시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

2 by 2 glass substrate 위의 amorphous silicon의 두께를 직접 측정하려고 합니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 56,000원
1485 2023-04-21 13시 14시 SiO2 100nm n&k 분석 의뢰 포항공과대학교 신소재공학과 백상원 67,000원
1486 2023-04-21 9시 10시 전자전기공학과 윤주영 (010-2768-0418) 포항공과대학교 전자전기공학과 윤주영 56,000원
1487 2023-04-24 18시 19시 aSi 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 오동교 56,000원
1488 2023-04-26 11시 12시 전자과 윤주영(010-2768-0418) 포항공과대학교 전자전기공학과 윤주영 56,000원
1489 2023-04-26 14시 15시 [나노융합기반 고도화사업]
Nitride 두께 측정_2매		 주식회사 보다 연구개발 김형원 80,000원
1490 2023-04-26 17시 18시 Ellipso 직접사용 요청드립니다. 감사합니다. 포항공과대학교 대학원 기계공학과 김경태 88,000원
1491 2023-04-27 12시 13시 [나노융합기반 고도화사업]
Vox 두꼐 측정		 주식회사 보다 연구개발 김형원 60,000원
1492 2023-04-30 18시 19시 포항공대 노준석 교수님 실험실 양영환입니다.
PECVD를 활용하여 쌓은 film 의 두께를 측정하도록 하겠습니다.
감사합니다. 		포항공과대학교 기계공학과 양영환 56,000원
1493 2023-05-02 20시 21시 aSi 박막 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 오동교 56,000원
1494 2023-05-03 13시 15시 <웨이퍼 정보>
4인치 : Prime grade, P type Si, Ori.100, Res : 1-10 Ohm cm, Th : 525 µm, SSP (뒷면 : toch polished), flat zone
8인치 : Test grade, P type Si, Ori:100, Res: 1-30 Ohm cm, Th : 725 µm, SSP (뒷면 : toch polished), flat zone

<공정 조건>
증착 물질 : HfO2 (4, 8인치 모두 동일 조건으로 ALD 진행)
예상 두께 : 250A 내외

<요청 사항>
각 웨이퍼 별로 13 point 측정, 두 웨이퍼 모두 flat zone 쪽을 bottom position으로 설정해주시길 바랍니다. 		포항공과대학교 대학원 전자전기공학과 강보현 88,000원
1495 2023-05-04 19시 21시 a-Si:H 박막 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 김재경 56,000원
1496 2023-05-08 19시 20시 SiN 600nm 2장 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 김재경 72,000원
1497 2023-05-10 11시 12시 앞서 신청한 a-si:H 증착 웨이퍼의 n,k값 측정 문의 연세대학교 의공학과 유경현 70,000원
1498 2023-05-10 14시 16시 HfO2 and ZrO2 deposited on SiO2 by ALD 포항공과대학교 대학원 Materials science and engineering Mostafa Habibi 202,000원
1499 2023-05-10 20시 21시 aSi 박막 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 오동교 56,000원
1500 2023-05-11 11시 12시 [나노융합기반 고도화산업]
TEOS 300nm 2회 증착 자재
두께, Uni% 측정 1매 		주식회사 보다 연구개발 김형원 70,000원
1501 2023-05-15 14시 15시 웨이퍼 spec. : Test grade, P type Si, Ori:<100>, Res: 1-30 Ohm cm, Th : 725 µm
, SSP (뒷면 : toch polished), flat zone

증착 물질 : HfO2 (ALD) 공정 사용
예상 두께 : 17번 소켓 - 100-150A / 18번 소켓 - 300A

요청 사항 :
1. 17번 소켓과 18번 소켓을 각각 A, B로 구분해주시길 바랍니다.
2. 두 웨이퍼 모두 flatzone이 있는 부분을 bottom으로 해주시길 바랍니다.
3. 측정 데이터는 imjspk@postech.ac.kr 로 보내주시길 바랍니다.		 포항공과대학교 대학원 전자전기공학과 강보현 88,000원
1502 2023-05-19 16시 17시 Polymer on silicon Cauchy model 1장 두께 및 굴절률 측정 포항공과대학교 기계공학과 김재경 56,000원
1503 2023-05-24 10시 11시 [나노융합기반 고도화사업] 전자과 손종민 (010-9766-0039) 포항공과대학교 전자전기공학과 이정수 60,000원
1504 2023-05-24 19시 20시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

2 by 2 silicon substrate 위에 silicon dioxide의 높이를 직접 측정하려고 합니다.

일정 상 저녁 이후에 신청하는 점 양해 부탁드립니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 56,000원
1505 2023-05-25 15시 16시 [나노융합기반 고도화사업]
Vox 두께 측정		 주식회사 보다 연구개발 김형원 57,000원
1506 2023-05-30 10시 11시 [나노융합기반 고도화사업]
VOx 두께 측정		 주식회사 보다 연구개발 김형원 57,000원
1507 2023-06-01 10시 11시 - wafer 정보 : glass wafer에 a-si:H 450nm 증착
- nint 공정 팀에 wafer 박막 공정을 의뢰하였습니다.
박막공정이 완료된 wafer의 refractive index , extintion cofficient(n,k 값) 을 측정하고자 합니다!!
측정의뢰 wavelengh range < 400-1000nm>
공정팀에서 공정해주시는 5 개의 웨이퍼 중 1개에 대해 측정하고 싶습니다.

****** 감사합니다 ********* 		연세대학교 의공학과 유경현 70,000원
1508 2023-06-01 21시 22시 aSi 증착 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 오동교 56,000원
1509 2023-06-06 9시 10시 전자과 윤주영 (010-2768-0418)

Si 두께 측정		 포항공과대학교 전자전기공학과 윤주영 56,000원
1510 2023-06-08 21시 22시 직접이용입니다. 포항공과대학교 대학원 기계공학과 강도현 56,000원
1511 2023-06-09 9시 10시 Si기판 위에 SiO2 70nm를 증착했는데, 두께 측정 부탁드립니다.
측정 데이터는 universe16@postech.ac.kr로 메일 부탁드립니다. 감사합니다. 		포항공과대학교 기계공학과 김재경 64,000원
1512 2023-06-19 14시 15시 SiN 600nm 정도가 증착되어있는데, 높이 및 굴절률 n,k 데이터 (400nm~800nm 파장 범위) 측정 부탁드립니다. 포항공과대학교 기계공학과 김재경 64,000원
1513 2023-06-19 20시 21시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

2 by 2 glass substrate 위의 amorphous silicon 박막의 두께를 직접 증착하려고 합니다.

일정 상 저녁 이후로 신청하는 점 양해 부탁드립니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 56,000원
1514 2023-06-20 16시 17시 각 기판에 대해 55, 60, 65도 세 각도 raw data (phi,chi)를 찍어서 주시면 됩니다.
기판은 총 6개 입니다.		 포항공과대학교 화학공학과 박준호 202,000원
1515 2023-06-20 17시 18시 ZrO2 thin film deposited by ALD 포항공과대학교 대학원 Materials science and engineering Mostafa Habibi 148,000원
1516 2023-06-20 20시 22시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

2 by 2 glass substrate 위의 amorphous silicon의 두께를 직접 증착하려고 합니다.

일정 상 저녁 이후로 신청하는 점 양해 부탁드립니다.

감사합니다.

 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 56,000원
1517 2023-06-21 9시 10시 SiO2 70nm 두께 측정 부탁드립니다. universe16@postech.ac.kr로 측정결과 송부 부탁드립니다. 포항공과대학교 기계공학과 김재경 64,000원
1518 2023-06-22 15시 16시 2인치 3매
4인치 2매

증착 물질 HfO2		 포항공과대학교 대학원 전자전기공학과 강보현 160,000원
1519 2023-06-22 16시 17시 직접이용입니다 포항공과대학교 대학원 기계공학과 강도현 56,000원
1520 2023-06-22 18시 19시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

2 by 2 glass substrate 위에 amorphous silicon의 두께를 직접 측정하려고 합니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 56,000원
1521 2023-06-27 20시 22시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

2 by 2 glass substrate에 증착된 amorphous silicon 박막 두께를 직접 측정하려고 합니다.

일정 상 저녁 이후로 신청하는 점 양해 부탁드립니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 56,000원
1522 2023-06-28 10시 11시 VOx 두께 측정 주식회사 보다 연구개발 김형원 57,000원
1523 2023-06-29 13시 14시 Vox 두께측정 주식회사 보다 연구개발 김형원 57,000원
1524 2023-06-30 10시 11시 VOx 두께 측정 주식회사 보다 연구개발 김형원 57,000원
1525 2023-06-30 16시 18시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

2 by 2 glass substrate 위의 amorphous silicon 박막 두께 직접 측정하려고 합니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 56,000원
1526 2023-07-03 13시 14시 SiNx , Vox 두께 측정 주식회사 보다 연구개발 김형원 74,000원
1527 2023-07-03 9시 10시 Vox 두께 측정 주식회사 보다 연구개발 김형원 57,000원
1528 2023-07-05 21시 22시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

2 by 2 glass substrate 위의 amorphous silicon 박막의 두께를 직접 측정하려고 합니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 200,000원
1529 2023-07-06 21시 22시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

2 by 2 glass substrate 위에 a-Si 박막 두께를 직접 측정하려고 합니다.

일정상 저녁 이후로 신청하는 점 양해 부탁드립니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 56,000원
1530 2023-07-07 16시 17시 직접이용입니다. 포항공과대학교 대학원 기계공학과 강도현 72,000원
1531 2023-07-07 9시 10시 Nitride 두께 측정 주식회사 보다 연구개발 김형원 57,000원
1532 2023-07-09 12시 13시 particle imprint resin 굴절률 측정하겠습니다 포항공과대학교 기계공학과 강현정 56,000원
1533 2023-07-10 10시 11시 Ar: N2 비율을 6:4로 하여 증착 후에 ellipsometry 측정 부탁드립니다.
증착 두께는 20 nm정도로 부탁드립니다.

기판은 SiO2 3000A가 증착된 Si wafer입니다.
두께, 200-1000 nm 사이의 n, k 값, psi-del-model 데이터 부탁드립니다.		 포항공과대학교 화학공학과 고명철 67,000원
1534 2023-07-10 11시 12시 Vox 3AOI 측정 2매 (Recipe 생성 서비스)
Vox 두꼐 측정 1매		 주식회사 보다 연구개발 김형원 228,000원
1535 2023-07-12 16시 17시 Vox 두꼐 측정 주식회사 보다 연구개발 김형원 57,000원
1536 2023-07-12 19시 20시 pr 높이 측정 포항공과대학교 기계공학과 김재경 56,000원
1537 2023-07-14 18시 19시 박막 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 김재경 56,000원
1538 2023-07-19 18시 19시 박막 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 김재경 56,000원
1539 2023-07-24 15시 16시 전자과 윤주영(010-2768-0418) 포항공과대학교 전자전기공학과 윤주영 56,000원
1540 2023-07-25 19시 20시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

2 by 2 실리콘 기판 위에 silicon dioxide 박막의 두께를 직접 측정하려고 합니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 56,000원
1541 2023-07-25 9시 10시 임프린트 레진 평가
직접이용하겠습니다		 포항공과대학교 기계공학과 강현정 72,000원
1542 2023-07-31 13시 14시 VOx 신규 레시피 두께측정 주식회사 보다 연구개발 김형원 57,000원
1543 2023-08-01 1시 10시 VOx 두꼐 측정 주식회사 보다 연구개발 김형원 108,000원
1544 2023-08-01 17시 18시 두 웨이퍼 모두 MgO에 해당, 예상 두께는 웨이퍼 케이스에 적어놓았습니다.

바로 결제 희망합니다.		 포항공과대학교 대학원 전자전기공학과 박종서 88,000원
1545 2023-08-02 13시 14시 thickness 삼성디스플레이 Micro Display 류용우 200,000원
1546 2023-08-07 19시 20시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

2 by 2 Si 기판 위에 SiO2의 두께를 직접 측정하려고 합니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 56,000원
1547 2023-08-09 9시 12시 VOx 두께측정 주식회사 보다 연구개발 김형원 74,000원
1548 2023-08-16 12시 13시 a-Si:H 증착 샘플입니다 포항공과대학교 기계공학과 강현정 56,000원
1549 2023-08-22 11시 12시 안녕하세요, 고려대학교 반도체 및 나노 광소자 연구실 소속 윤준석입니다.

메일로 말씀드린 것과 같이 390 nm 두께의 poly-Si 박막이 4 inch quartz wafer에 증착된 상태이며, 샘플은 총 2매입니다.
해당 샘플의 각 point 별 poly-Si 박막의 두께와 약 200 nm ~ 1000 nm 파장대에서 굴절률 측정 부탁드립니다.
감사합니다.

윤준석 드림
010-9086-0522 / junseok_yoon@korea.ac.kr		 고려대학교 산학협력단 윤준석 100,000원
1550 2023-08-30 14시 15시 pecvd후 박막 측정용으로 잠시 사용하겠습니다. 포항공과대학교 기계공학과 김주훈 56,000원
1551 2023-08-30 16시 17시 엘립소 직접진행 부탁드립니다. 포항공과대학교 대학원 기계공학과 김홍윤 56,000원
1552 2023-08-31 17시 18시 VOx 두께측정 주식회사 보다 연구개발 김형원 57,000원
1553 2023-09-05 20시 21시 직접이용입니다 포항공과대학교 대학원 기계공학과 강도현 72,000원
1554 2023-09-11 13시 14시 ZrO2 증착 웨이퍼
<예상두께>
*1~4번은 웨이퍼 캐리어에 명시해두었음.
데이터 추출 시 각 번호에 해당하는 웨이퍼의 명칭을 괄호 안과 같이 해주시길 바랍니다.
ex) 3번 -> 400cycle-1
1번 (200cycle) : 160A
2번 (300cycle) : 240A
3번 (400cycle-1) : 320A
4번 (400cycle-2) : 320A		 포항공과대학교 대학원 전자전기공학과 박종서 136,000원
1555 2023-09-11 16시 17시 [나노융합기반 고도화사업] 전자과 도정현 (010-6370-5281)
LOR-28 (PR) 두께 측정
 포항공과대학교 전자전기공학과 이정수 60,000원
1556 2023-09-15 9시 10시 aSi 빅믹 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 김재경 56,000원
1557 2023-09-19 12시 14시 a-Si:H film 굴절률 측정 이용하겠습니다. 포항공과대학교 기계공학과 강현정 56,000원
1558 2023-09-20 8시 9시 직접이용입니다. 포항공과대학교 대학원 기계공학과 강도현 56,000원
1559 2023-09-26 14시 16시 TEOS E/R 평가용 포항공과대학교 선행기술팀 박범성 394,000원
1560 2023-10-05 9시 10시 1-1-2 hm_oxide hm depo. thick. meas. 삼성종합기술원 V-T/F 양성석 64,000원
1561 2023-10-06 16시 17시 펌프수리후 VOx 두께측정 주식회사 보다 연구개발 김형원 57,000원
1562 2023-10-11 11시 12시 4-1-2 Thick Meas. 삼성종합기술원 V-T/F 양성석 88,000원
1563 2023-10-11 14시 15시 MgO uniformity 측정 요청드립니다. (3nm 예상) 포항공과대학교 전자전기공학과 홍기륜 64,000원
1564 2023-10-11 15시 16시 5-1-2 imd depo. thick. meas. 포항공과대학교 기술지원팀 최경근 67,000원
1565 2023-10-11 22시 23시 엘립소 직접진행 요청드립니다. 포항공과대학교 대학원 기계공학과 김홍윤 56,000원
1566 2023-10-12 16시 17시 직접진행부탁드립니다 포항공과대학교 대학원 기계공학과 김홍윤 56,000원
1567 2023-10-13 14시 15시 13-4-5 m2 2md imd depo. thick meas. 삼성종합기술원 V-T/F 양성석 88,000원
1568 2023-10-16 20시 21시 글라스 조각 기판 위에 증착된 silicon nitride 필름의 두께를 측정할 예정입니다. 대략 150 nm로 예상됩니다. 포항공과대학교 대학원 화학공학과 이지해 56,000원
1569 2023-10-17 14시 15시 VOx On Si 두께 측정 주식회사 보다 연구개발 김형원 57,000원
1570 2023-10-18 9시 10시 VOx 특성평가
- VOx 두께 측정		 주식회사 보다 연구개발 김형원 57,000원
1571 2023-10-23 13시 14시 VOx 두께 측정 주식회사 보다 연구개발 김형원 57,000원
1572 2023-10-25 17시 18시 VOx 두꼐 측정 주식회사 보다 연구개발 김형원 57,000원
1573 2023-10-27 9시 10시 - VOx 두께 측정 주식회사 보다 연구개발 김형원 57,000원
1574 2023-10-28 16시 20시 포항공대 노준석 교수님 실험실 양영환입니다
PECVD를 통해서 쌓은 a-Si의 두께를 4회 측정하도록 하겠습니다.
감사합니다. 		포항공과대학교 기계공학과 양영환 104,000원
1575 2023-10-31 22시 23시 Glass 조각 기판에 증착된 silicon nitride 두께 측정 예정입니다. 포항공과대학교 대학원 화학공학과 이지해 56,000원
1576 2023-11-01 22시 23시 포항공대 노준석 교수님 연구실입니다.

2 by 2 유리기판의 실리콘 박막의 두께를 직접 측정하려고 합니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 이도현 56,000원
1577 2023-11-06 11시 12시 안녕하세요.
노준석 교수님 실험실 양영환입니다.
glass 위에 증착된 a-Si:H 측정 부탁드립니다.
두께정보, 가시광 영역 (400-800 nm)영역에서의 n,k값을 받고싶습니다.
시편은 시편보관함 안에 넣어두도록 하겠습니다.
감사합니다. 		포항공과대학교 기계공학과 양영환 64,000원
1578 2023-11-08 11시 12시 HfO2, 예상 두께 200A, 13 포인트 측정 부탁드립니다. 포항공과대학교 대학원 전자전기공학과 박종서 64,000원
1579 2023-11-13 10시 11시 안녕하세요.
포항공대 노준석 교수님 실험실 양영환입니다
Si 기판 위 EBL용 PR이 spin-coating rpm별로 코팅되어 있습니다.
시편 5개의 두께를 측정 부탁드리며, 2000 rpm에서 150 nm 내외로 알고 있습니다.

감사합니다. 		포항공과대학교 기계공학과 양영환 160,000원
1580 2023-11-14 18시 20시 포항공대 노준석 교수님 실험실 양영환입니다.
PECVD를 통해 쌓은 a-Si:H의 nk 및 두꼐를 측정하고자 합니다.
6회 사용하도록 하겠습니다.
감사합니다. 		포항공과대학교 기계공학과 양영환 136,000원
1581 2023-11-17 18시 22시 포항공대 노준석 교수님 실험실 양영환입니다.
PECVD를 통해 증착된 a-Si:H 박막의 두께 및 n,k를 측정하도록 하겠습니다.
저녁에 직접 사용하도록 하겠습니다.
감사합니다. 		포항공과대학교 기계공학과 양영환 104,000원
1582 2023-11-20 10시 12시 Si(~525um) / SiO2(100nm, thermal oxide) 위에 ALD로 증착한 ZrO2 (~15nm) 샘플이고, ZrO2 박막의 두께와 굴절률을 알고 싶습니다
샘플은 총 두개입니다

1. 고온 증착한 ZrO2, 2. 저온 증착한 ZrO2		 포항공과대학교 대학원 신소재공학과 김영동 94,000원
1583 2023-11-20 14시 16시 Fused Silica 위에 PE-CVD-1 장비로 a-Si 80nm 증착된 시편입니다. index 측정 부탁 드리겠습니다.

PE-CVD-1 장비 담당자이신 김동은 선생님(054-279-0238), 이정익 선생님(054-279-0267)께 전달 받아주시면 감사하겠습니다.

 한국과학기술연구원 양자기술연구단 윤혜영 220,000원
1584 2023-11-20 16시 17시 LOT ID: Module
목적: SiN Thickness 측정
총 1장
[나노융합기반 고도화사업]		 (주)유우일렉트로닉스 FAB팀 조기수 200,000원
1585 2023-11-23 15시 16시 Fused Silica 위에 PE-CVD-1 장비로 a-Si 120nm 증착된 시편입니다. index 및 두께 측정 부탁 드리겠습니다.

PE-CVD-1 장비 담당자이신 김동은 선생님(054-279-0238), 이정익 선생님(054-279-0267)께 전달 받아주시면 감사하겠습니다.		 한국과학기술연구원 양자기술연구단 윤혜영 310,000원
1586 2023-11-24 14시 15시 NB_VOx 두께 측정 주식회사 보다 연구개발 김형원 74,000원
1587 2023-11-24 15시 16시 SiN 400nm 증착 포항공과대학교 기계공학과 오동교 56,000원
1588 2023-11-27 13시 14시 NB_VOx 두께 측정 주식회사 보다 연구개발 김형원 57,000원
1589 2023-11-28 9시 10시 NB_VOx 두께 측정 주식회사 보다 연구개발 김형원 74,000원
1590 2023-11-29 10시 11시 NB_VOx 두께 측정 주식회사 보다 연구개발 김형원 57,000원
1591 2023-11-29 20시 21시 박막 굴절률 측정 포항공과대학교 기계공학과 오동교 56,000원
1592 2023-12-05 19시 20시 임프린팅 레진 포항공과대학교 기계공학과 강현정 56,000원
1593 2023-12-06 14시 15시 안녕하세요.
포항공대 노준석 교수님 실험실 양영환입니다.
TiO2가 올라간 Si 시편이 3장 있습니다. TiO2의 두께를 측정하고 싶으며, 예상 두께는 150 nm 근처입니다.
시편은 시편보관함 안에 넣어두도록 하겠습니다.
감사합니다. 		포항공과대학교 기계공학과 양영환 112,000원
1594 2023-12-12 10시 11시 같은 연구실 한건구 연구원 방문 예정. 포항공과대학교 대학원 기계공학과 주경재 67,000원
1595 2023-12-12 11시 12시 같은 연구실 한건구 연구원 방문 예정. 포항공과대학교 대학원 기계공학과 주경재 274,000원
1596 2023-12-15 18시 19시 노준석 교수님 연구실 강도현입니다.
직접이용입니다.
감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 강도현 56,000원
1597 2023-12-16 15시 19시 포항공대 노준석 교수님 실험실 양영환입니다.
PECVD를 통해 증착된 a-Si의 두께를 측정하겠습니다.
감사합니다. 		포항공과대학교 기계공학과 양영환 136,000원
1598 2023-12-19 14시 15시 기판 종류 및 두께 : SiC, 365~367 um
조각 크기 및 수량 : 2.5 x 2.5 ㎠, 6조각
증착 박막 종류 및 두께 : SiO2, 30 nm		 포항공과대학교 대학원 전자전기공학과 최재용 202,000원
1599 2023-12-21 18시 19시 Absorbing film 두께 및 굴절률 측정 포항공과대학교 기계공학과 김재경 56,000원
1600 2023-12-27 10시 12시 포항공대 노쥰석 교수님 실험실 양영환입니다.
TiO2 on Si 측정 3장 부탁드리며 시편은 기편보관함안에 넣어드리겠습니다.
목적은 TiO2 에칭 rate을 측정하기 위함이며, 저번과 동일하게 두께를 측정해주시면 감사하겠습니다.
감사합니다		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 112,000원
1601 2023-12-30 13시 18시 포항공대 노준석 교수님 실험실 양영환입니다.
PECVD로 증착도니 4\'\' wafer a-Si:H 를 10회 직접 측정하겠습니다
감사합니다. 		포항공과대학교 기계공학과 양영환 200,000원
1602 2024-01-04 11시 12시 박막 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 오동교 56,000원
1603 2024-01-09 14시 16시 Si wafer 위에 고분자 소재를 박막 코팅한 샘플의 굴절율을 분석해 보고자 합니다. 포항공과대학교 대학원 화학과 이호준 148,000원
1604 2024-01-09 16시 17시 장비 교육 및 측정 포항공과대학교 대학원 전자전기공학과 최재용 182,000원
1605 2024-01-09 18시 19시 polymer 박막 굴절률 측정 1장 포항공과대학교 기계공학과 김재경 56,000원
1606 2024-01-16 10시 11시 MgO film 20nm증착한 8inch Si wafer입니다.
uniformity 측정 희망합니다.		 포항공과대학교 전자전기공학과 홍기륜 64,000원
1607 2024-01-16 11시 12시 RTP 전, 후 삼성디스플레이 Micro LED Lab (Micro Display Team) 유철종 224,000원
1608 2024-01-16 13시 14시 Back Oxide 측정 포항공과대학교 기술지원팀 김성준 175,000원
1609 2024-01-16 15시 16시 연세대학교 바이오나노포토닉스시스템 연구실 유경현입니다.

Spectroscopic Ellipsometer로 a-Si:H 박막 두께 및 n, k 값을 측정하려고 합니다.

wafer는 glass , 25 x 25 mm , 1mm Th 에 a-Si:H 300nm 증착 되어 있습니다.

공정된 8ea 웨이퍼 중 1ea 만 측정 진행 부탁 드리겠습니다.

감사합니다. 		연세대학교 의공학과 유경현 70,000원
1610 2024-01-16 9시 10시 glass 기판에 ITO가 증착되어있는데, 박막 두께 측정 부탁드립니다.

cauchy 모델로 측정하면 될 것 같습니다.

두께를 몰라서 측정하고자 하며 수백나노미터 정도의 두께입니다. 		포항공과대학교 기계공학과 김재경 64,000원
1611 2024-01-18 9시 12시 0.7mm 유리기판에 ITO 426nm, polymer 순서로 증착되어 있습니다.
polymer의 굴절률 및 두께 측정 부탁드립니다.
예상 두께는 200~250nm입니다.
감사합니다. 		포항공과대학교 기계공학과 김재경 64,000원
1612 2024-01-20 13시 14시 Pecvd로 증착했습니다 포항공과대학교 기계공학과 강현정 56,000원
1613 2024-01-22 11시 12시 x 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 57,000원
1614 2024-01-23 15시 17시 전문인력양성사업 교육생 장비 신청 나노융합기술원 교육홍보팀 이상민 0원
1615 2024-01-23 20시 21시 PECVD 증착 박막 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 김재경 72,000원
1616 2024-01-25 1시 10시 6inch glass wafer 위에 PECVD (a-Si, 6000A) 만큼 증착한 샘플입니다.

총 4장 있는데, 2장은 두께 측정 완료하였고, 나머지 2장도 엘립소미터로 두께 측정 결과를 보고 싶습니다.

이정익 선생님께 샘플 있는 것으로 알고 있습니다.

테스트용 웨이퍼 1장 + 본 샘플 웨이퍼 3장 있습니다.		 포항공과대학교 대학원 전자전기공학과 주창영 148,000원
1617 2024-01-26 13시 14시 x 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 57,000원
1618 2024-01-27 13시 14시 ㅌ 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 40,000원
1619 2024-01-29 19시 20시 안녕하세요, 이유정 연구원님.

포항공대 노준석 교수님 연구실 성준화 학생입니다.

일립소 메트리 직접사용 요청드립니다.

감사합니다.

성준화 올림.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 성준화 56,000원
1620 2024-01-30 10시 11시 같은 연구실 한건구 연구원 방문 예정 포항공과대학교 대학원 기계공학과 주경재 76,000원
1621 2024-01-30 14시 15시 . 포항공과대학교 대학원 기계공학과 윤승빈 121,000원
1622 2024-01-30 20시 21시 x 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 57,000원
1623 2024-01-31 10시 11시 9-1-6 Gox Oxide 측정
 삼성종합기술원 V-T/F 양성석 112,000원
1624 2024-01-31 20시 21시 x 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 57,000원
1625 2024-01-31 9시 10시 9-1-6 Gox Oxide 측정 삼성종합기술원 V-T/F 양성석 88,000원
1626 2024-02-05 20시 21시 박막 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 오동교 56,000원
1627 2024-02-06 20시 21시 굴절률 측정 포항공과대학교 대학원 화학공학과 이은지 56,000원
1628 2024-02-07 10시 11시 같은 연구실 한건구 연구원 방문 예정 포항공과대학교 대학원 기계공학과 주경재 58,000원
1629 2024-02-07 10시 11시 MgO 200nm measurement 포항공과대학교 공정기술팀 박광진 88,000원
1630 2024-02-08 20시 21시 X 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 57,000원
1631 2024-02-28 15시 16시 NB_VOx 100nm 두꼐 측정 주식회사 보다 연구개발 김형원 57,000원
1632 2024-02-29 9시 10시 NB_VOx 두께 측정
 주식회사 보다 연구개발 김형원 57,000원
1633 2024-03-04 10시 11시 Silicon + Au 100nm +Polymer이고, 위즈옵틱스에 job파일을 새로 만드는 것을 의뢰하려고 맡기는 샘플입니다. 포항공과대학교 기계공학과 김재경 108,000원
1634 2024-03-04 13시 14시 HfO 200A 포항공과대학교 공정기술팀 박광진 40,000원
1635 2024-03-04 15시 16시 Backside Oxide Thickness 측정 나노융합기술원 대외협력팀 양웅석 216,000원
1636 2024-03-04 16시 17시 * 파릴린(고분자) 코팅 시편

현재 기기 사용이 힘들다고 들었습니다.

추후 일정을 조율하면 좋겠습니다.

(010-9054-0230)		 포항공과대학교 대학원 신소재공학과 조동철 192,000원
1637 2024-03-04 18시 19시 HPC(하이드로겔) + ZrO2 film
직접 이용하겠습니다		 포항공과대학교 기계공학과 강현정 40,000원
1638 2024-03-04 20시 22시 박막 굴절률 및 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 김재경 40,000원
1639 2024-03-04 9시 10시 TiON Split 포항공과대학교 창의IT융합공학과 최민근 144,000원
1640 2024-03-05 14시 15시 샘플에 대한 자세한 spec 및 구조는 메일로 전달해드리겠습니다. 포항공과대학교 대학원 신소재공학과 김지호 144,000원
1641 2024-03-06 17시 18시 직접이용 포항공과대학교 대학원 화학공학과 이은지 40,000원
1642 2024-03-06 20시 21시 ZrO2 film 측정하겠습니다 포항공과대학교 기계공학과 강현정 40,000원
1643 2024-03-07 10시 11시 같은 연구실 한건구 연구원 방문 예정 포항공과대학교 대학원 기계공학과 주경재 30,000원
1644 2024-03-07 15시 17시 ZrO2 8인치 3개, HfO2 4인치 1개, 예상두께 모두 ~150A
작접 사용이나 ZrO2 측정 레시피는 처음 사용하는거라 찾는데 도움을 요청할 수 있습니다...		 포항공과대학교 대학원 전자전기공학과 박종서 120,000원
1645 2024-03-07 18시 19시 x 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 40,000원
1646 2024-03-08 14시 16시 VOx 두꼐 측정 - 2매 주식회사 보다 연구개발 김형원 75,000원
1647 2024-03-11 10시 11시 VOx 두께 측정
 주식회사 보다 연구개발 김형원 75,000원
1648 2024-03-12 16시 18시 ZrO2 예상 두께 ~160A
이전 일정이 있어 오후 4시 반부터 출입할 것으로 예상합니다.		 포항공과대학교 대학원 전자전기공학과 박종서 80,000원
1649 2024-03-13 19시 20시 비밀번호 789 963에서 바뀌었으면 연락 부탁드립니다. 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 40,000원
1650 2024-03-14 12시 13시 VOx 두께 측정 주식회사 보다 연구개발 김형원 37,500원
1651 2024-03-14 19시 20시 비밀 번호 789963에서 바뀌었으면 연락 부탁드립니다 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 40,000원
1652 2024-03-14 9시 10시 WF04, 05 - Thermal Oxidation 두께 측정 삼성전자 DS 김태훈 120,000원
1653 2024-03-15 11시 12시 VOx 두께측정 주식회사 보다 연구개발 김형원 37,500원
1654 2024-03-18 20시 21시 박막 두께 1회 측정 포항공과대학교 기계공학과 김재경 40,000원
1655 2024-03-19 10시 11시 Oxidation 두께 측정 포항공과대학교 선행기술팀 한성웅 192,000원
1656 2024-03-19 19시 20시 a-Si:H측정하겠습니다 포항공과대학교 기계공학과 강현정 80,000원
1657 2024-03-19 9시 10시 a-Si 굴절률 측정하겠습니다 포항공과대학교 기계공학과 강현정 40,000원
1658 2024-03-21 13시 14시 Quartz 기판 위에 PE-CVD-1 장비로 a-Si 1000 nm 증착 샘플입니다. 두께 측정 부탁드리겠습니다.

PE-CVD-1 장비 담당자이신 김동은 선생님(054-279-0238), 이정익 선생님(054-279-0267)께 전달 받아주시면 감사하겠습니다.

2장 모두 증착 후 측정 하려는게 아니라, 1장 측정 및 확인 후 나머지 1장 재증착 및 측정 하고자 합니다. 번거로우시겠지만 부탁 드리겠습니다.

감사합니다!
 한국과학기술연구원 양자기술연구단 윤혜영 120,000원
1659 2024-03-21 21시 22시 비밀번호가 789963에서 변경되었다면 연락 부탁드립니다. 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 40,000원
1660 2024-03-21 21시 24시 포항공대 노준석 교수님 실험실 양영환입니다.
PECVD로 증착된 a-Si와 SiOx의 index를 측정하도록 하겠습니다.
감사합니다.		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 240,000원
1661 2024-03-22 21시 22시 비밀번호 741123에서 바뀌었으면 연락 부탁드립니다. 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 40,000원
1662 2024-03-22 22시 24시 직접진행하겠습니다. 포항공과대학교 대학원 기계공학과 김홍윤 40,000원
1663 2024-03-24 21시 22시 직접이용 포항공과대학교 대학원 화학공학과 이은지 40,000원
1664 2024-03-26 14시 16시 Ellipsometer 직접 사용 요청드립니다. 감사합니다. 포항공과대학교 대학원 기계공학과 김경태 80,000원
1665 2024-03-26 16시 17시 VOx 두께 측정 주식회사 보다 연구개발 김형원 37,500원
1666 2024-03-26 18시 22시 안녕하세요.
포항공대 노준석 교수님 실험실 양영환입니다.
PECVD로 증착한 SiOx의 두꼐를 측정하도록 하겠습니다.
감사합니다. 		포항공과대학교 기계공학과 양영환 40,000원
1667 2024-03-27 10시 11시 VOx 두께 측정 주식회사 보다 연구개발 김형원 37,500원
1668 2024-03-27 11시 12시 4-1-2 Thick Meas 삼성전자 DS 김태훈 0원
1669 2024-03-27 15시 16시 4-1-2 Thick Meas 삼성전자 DS 김태훈 0원
1670 2024-03-27 17시 18시 SiN 박막 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 김재경 40,000원
1671 2024-03-27 18시 19시 포항공대 노준석 교수님 실험실 양영환입니다.
PECVD로 쌓은 a-Si를 직접 증착하도록 하겠습니다.
감사합니다.		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 240,000원
1672 2024-03-27 19시 20시 4-1-2 Thick Meas 삼성전자 DS 김태훈 0원
1673 2024-03-27 20시 21시 비밀번호 741123에서 변경있으면 연락 부탁드립니다. 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 40,000원
1674 2024-03-28 15시 16시 VOx push gas test 주식회사 보다 연구개발 김형원 37,500원
1675 2024-03-28 16시 17시 7-3-2 Sac Oxidation (1000℃, 100Å) → Thick Meas 삼성전자 DS 김태훈 0원
1676 2024-03-28 18시 23시 포항공대 노준석 교수님 실험실 양영환입니다.
PECVD로 증착된 SiN을 직접 증착하도록 하겠습니다.
감사합니다. 		포항공과대학교 기계공학과 양영환 240,000원
1677 2024-03-29 16시 17시 박막 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 김재경 40,000원
1678 2024-03-29 22시 23시 비밀번호 741123에서 변경 있으면 연락 부탁드립니다. 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 40,000원
1679 2024-03-31 1시 2시 직접진행 포항공과대학교 대학원 기계공학과 김홍윤 40,000원
1680 2024-04-01 10시 16시 Ellipsometer job file 제작 포항공과대학교 기계공학과 김재경 300,000원
1681 2024-04-01 20시 21시 비밀번호 741123에서 변경있으면 연락 부탁드립니다. 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 40,000원
1682 2024-04-01 9시 10시 VOx두께측정 주식회사 보다 연구개발 김형원 37,500원
1683 2024-04-02 10시 11시 ICT 제품화 지원사업

2-1-2 ITZO Thick Meas.		 (주)엔디디 연구소 최영환 180,000원
1684 2024-04-02 14시 15시 1-1-2 Thick Meas. 나노융합기술원 대외협력팀 양웅석 96,000원
1685 2024-04-02 16시 17시 8인치 Si 웨이퍼, ZrO2 (예상두께 150~200Å)
장비 PC 패스워드 확인 요망		 포항공과대학교 대학원 전자전기공학과 박종서 120,000원
1686 2024-04-02 21시 22시 2 cm X 2 cm glass 조각 기판 위 silicon nitride 증착된 두께 측정 예정입니다. 포항공과대학교 대학원 화학공학과 이지해 40,000원
1687 2024-04-02 9시 10시 Oxidation 후 Thick Meas. 포항공과대학교 기술지원팀 김성준 144,000원
1688 2024-04-04 18시 19시 박막 굴절률 측정 포항공과대학교 기계공학과 김재경 40,000원
1689 2024-04-05 15시 17시 박막 굴절률 측정 포항공과대학교 기계공학과 김재경 40,000원
1690 2024-04-05 19시 20시 비밀번호 741123에서 바뀌었으면 연락 부탁드립니다. 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 40,000원
1691 2024-04-05 20시 21시 Oxide Thick Meas. 삼성전자 DS 김태훈 0원
1692 2024-04-06 22시 23시 ellipso 직접 사용 요청드립니다. 감사합니다. 포항공과대학교 대학원 기계공학과 김경태 40,000원
1693 2024-04-06 23시 24시 박막 굴절률 측정 포항공과대학교 기계공학과 김재경 40,000원
1694 2024-04-07 15시 21시 포항공대 노준석 교수님 실험실 양영환입니다.
PECVD 증착 후 n,k를 측정하겠습니다.
직접 사용하도록 하겠습니다. 		포항공과대학교 기계공학과 양영환 400,000원
1695 2024-04-08 17시 18시 샘플 : 1T / 6\\\" Glass wafer 위에 a-Si 290 nm 증착
측정 : 400~1000 nm 파장대역에서 a-Si 박막의 n,k 값 및 박막두께 측정		 서울대학교 광공학연구실 김영진 60,000원
1696 2024-04-09 10시 12시 VOx 두께 측정 주식회사 보다 연구개발 김형원 75,000원
1697 2024-04-09 18시 19시 7-3-2 Sac Oxi. Thick Meas. 삼성전자 DS 김태훈 0원
1698 2024-04-10 16시 17시 비밀번호 741123에서 바뀌었으면 연락 부탁드립니다. 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 40,000원
1699 2024-04-11 11시 12시 HfO2 2EA, ZrO2 2EA
예상 두께 모두 ~170Å		 포항공과대학교 대학원 전자전기공학과 박종서 160,000원
1700 2024-04-11 18시 20시 박막 굴절률 및 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 김재경 40,000원
1701 2024-04-11 8시 9시 3-1-4 Gate Oxide Thick Meas. 삼성전자 DS 김태훈 60,000원
1702 2024-04-12 16시 17시 8-2-3 Densify(900℃/30min) Thick Meas. 삼성전자 DS 김태훈 0원
1703 2024-04-13 19시 20시 비밀번호 741123에서 변경 있으면 연락 부탁드립니다. 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 40,000원
1704 2024-04-13 9시 10시 7-3-2 Sac Oxid. Thick Meas. 삼성전자 DS 김태훈 0원
1705 2024-04-14 09시 10시 8-1-4 Oxidation 100Å(High Quality) Thick Meas. 삼성전자 DS 김태훈 0원
1706 2024-04-14 12시 13시 직접이용 포항공과대학교 대학원 화학공학과 이은지 40,000원
1707 2024-04-15 19시 20시 비밀번호 741123에서 변경 있으면 연락 부탁드립니다. 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 40,000원
1708 2024-04-15 20시 21시 Ellipso 직접 사용 요청드립니다. 감사합니다. 포항공과대학교 대학원 기계공학과 김경태 40,000원
1709 2024-04-15 8시 9시 8-2-3 Densify(900℃/30min) Thick Meas. 삼성전자 DS 김태훈 0원
1710 2024-04-16 14시 15시 9-2-1 Thick Meas. 삼성전자 DS 김태훈 180,000원
1711 2024-04-16 15시 16시 9-2-1 Thick Meas. 삼성전자 DS 김태훈 240,000원
1712 2024-04-16 19시 20시 9-1-5 POA(1150℃/2hr) Thick Meas. 삼성전자 DS 김태훈 0원
1713 2024-04-16 20시 21시 ellipso 직접사용 요청드립니다. 감사합니다. 포항공과대학교 대학원 기계공학과 김경태 40,000원
1714 2024-04-16 8시 9시 9-1-4 Gate Oxid. Thick Meas. 삼성전자 DS 김태훈 0원
1715 2024-04-17 19시 20시 안녕하세요, 일립소 직접사용 요청드립니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 성준화 120,000원
1716 2024-04-18 14시 15시 동일 연구실 한건구 연구원이 직접 분석 예정 포항공과대학교 대학원 기계공학과 주경재 30,000원
1717 2024-04-18 18시 19시 SiN 박막 두께 및 굴절률 1회 측정 포항공과대학교 기계공학과 김재경 40,000원
1718 2024-04-18 19시 20시 9-2-3 Rs Meas. 삼성전자 DS 김태훈 0원
1719 2024-04-18 21시 22시 비밀번호 741123에서 변경 있으면 연락 부탁드립니다. 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 40,000원
1720 2024-04-19 15시 16시 VOx 두께 측정 주식회사 보다 연구개발 김형원 37,500원
1721 2024-04-19 18시 19시 9-2-2 (WF01, 03) - POA Thick Meas. 삼성전자 DS 김태훈 120,000원
1722 2024-04-19 19시 20시 9-2-2 (WF01, 03) - POA Thick Meas. 삼성전자 DS 김태훈 120,000원
1723 2024-04-20 10시 12시 PECVD로 증착된 실리콘의 index를 측정하도록 하겠습니다.
직접 사용하도록 하겠습니다.
감사합니다.		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 80,000원
1724 2024-04-20 19시 20시 비밀번호 741123에서 변경 있으면 연락 부탁드립니다. 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 40,000원
1725 2024-04-22 16시 17시 Gate Oxi. Thick Meas. 삼성전자 DS 김태훈 0원
1726 2024-04-22 9시 10시 VOx 두께 측정 주식회사 보다 연구개발 김형원 37,500원
1727 2024-04-23 21시 22시 비밀번호 741123에서 변경 있으면 연락 부탁드립니다. 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 40,000원
1728 2024-04-24 17시 18시 안녕하세요, 노준석 교수님 연구실 김주훈입니다.

엘립소 직접사용 요청드립니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 기계공학과 김주훈 40,000원
1729 2024-04-24 19시 21시 안녕하세요?

포항공대 노준석 교수님 연구실 전영선입니다.

PECVD로 SiN증착 후 두께 측정을 위해 ellipsometer예약합니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 전영선 40,000원
1730 2024-04-24 23시 24시 비밀번호 741123에서 변경 있으면 연락 부탁 드립니다. 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 40,000원
1731 2024-04-25 10시 11시 VOx 두께 측정 주식회사 보다 연구개발 김형원 37,500원
1732 2024-05-08 11시 12시 파릴렌C 두께 분석 포항공과대학교 대학원 신소재공학과 조동철 48,000원
1733 2024-05-08 13시 14시 10-1-3 WF01, 02, 03, 04 - Thick Meas. 삼성전자 DS 김태훈 0원
1734 2024-05-08 14시 15시 10-1-3 WF01, 03, 04 - Thick Meas. 삼성전자 DS 김태훈 0원
1735 2024-05-08 14시 15시 Poly - Methcrylate 고분자필름형태 포항공과대학교 화학공학과 류민 96,000원
1736 2024-05-08 15시 16시 10-1-3 WF01, 03 - Thick Meas.
 삼성전자 DS 김태훈 120,000원
1737 2024-05-08 16시 17시 10-1-3 WF01, 03 - Thick Meas. 삼성전자 DS 김태훈 120,000원
1738 2024-05-09 15시 16시 동일 연구실 한건구 연구원 방문 예정
 포항공과대학교 대학원 기계공학과 주경재 30,000원
1739 2024-05-10 16시 17시 ICT 제품화 지원사업
담당 연구원 : 도정현 (010-6370-5281)

8inch wafer 1매		 (주)아이제스트 연구개발팀 길연호 50,000원
1740 2024-05-10 23시 24시 비밀번호 741123에서 변경 있으면 연락 부탁드립니다. 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 40,000원
1741 2024-05-10 8시 9시 6-5-2 Sac Oxi. Thick Meas. 트리노테크놀로지 경영지원팀 트리노테크놀로지 0원
1742 2024-05-10 9시 10시 5-2-0 Sac Oxi Thick Meas. 포항공과대학교 선행기술팀 한성웅 96,000원
1743 2024-05-13 14시 16시 7.1 Thick Meas. 트리노테크놀로지 경영지원팀 트리노테크놀로지 0원
1744 2024-05-13 19시 21시 안녕하세요, 노준석 교수님 연구실 강도현입니다.

직접 이용입니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 강도현 40,000원
1745 2024-05-13 23시 24시 Ellipso 직접사용 요청드립니다. 감사합니다 포항공과대학교 대학원 기계공학과 김경태 80,000원
1746 2024-05-15 16시 19시 포항공대 노준석 교수님 실험실 양영환입니다.

PECVD로 증착된 a-Si를 5회 측정하겠습니다.
직접 사용하도록 하겠습니다.
감사합니다.		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 160,000원
1747 2024-05-16 22시 23시 Ellipso 직접사용 요청드립니다. 감사합니다. 포항공과대학교 대학원 기계공학과 김경태 40,000원
1748 2024-05-17 15시 17시 Thick Meas. 포항공과대학교 기술지원팀 김성준 384,000원
1749 2024-05-18 18시 19시 비밀번호 741123에서 변경있으면 연락부탁드립니다. 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 40,000원
1750 2024-05-18 19시 20시 직접 이용 포항공과대학교 대학원 화학공학과 이은지 35,000원
1751 2024-05-20 22시 24시 직접진행하겠습니다. 포항공과대학교 대학원 기계공학과 김홍윤 35,000원
1752 2024-05-21 10시 12시 8.2 Gox Thick Meas. 트리노테크놀로지 경영지원팀 트리노테크놀로지 0원
1753 2024-05-21 16시 17시 일립소 직접사용 요청드립니다. 포항공과대학교 대학원 기계공학과 성준화 40,000원
1754 2024-05-21 20시 21시 PECVD 증착 후 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 오동교 40,000원
1755 2024-05-22 15시 16시 동일 연구실 한건구 연구원 방문 예정 포항공과대학교 대학원 기계공학과 주경재 30,000원
1756 2024-05-22 16시 17시 8-1-5 Thick Meas. 트리노테크놀로지 경영지원팀 트리노테크놀로지 0원
1757 2024-05-22 21시 22시 직접이용 포항공과대학교 대학원 화학공학과 이은지 35,000원
1758 2024-05-23 19시 20시 박막 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 김재경 35,000원
1759 2024-05-23 8시 10시 7-3-2 Sac Oxi. Thick Meas. 삼성전자 DS 김태훈 0원
1760 2024-05-24 10시 11시 8-1-4 Thick Meas. 삼성전자 DS 김태훈 0원
1761 2024-05-24 8시 9시 10-2-6 (WF01,04,05)Thick Meas. 삼성전자 DS 김태훈 0원
1762 2024-05-24 9시 10시 10-2-6 (WF01,02,03,05)Thick Meas. 삼성전자 DS 김태훈 0원
1763 2024-05-25 11시 12시 직접이용 포항공과대학교 대학원 화학공학과 이은지 35,000원
1764 2024-05-25 13시 14시 비밀번호 741123에서 변경 있으면 연락 부탁드립니다. 포항공과대학교 대학원 기계공학과 백종현 40,000원
1765 2024-05-25 14시 18시 포항공대 노준석 교수님 실험실 양영환입니다.
PECVD로 증착된 a-Si의 두께와 index를 측정하도록 하겠습니다.
감사합니다. 		포항공과대학교 기계공학과 양영환 105,000원
1766 2024-05-26 14시 17시 포항공대 노준석 교수님 실험실 양영환입니다.
PECVD로 증착된 a-SiH의 두께를 측정하도록 하겠습니다.
직접사용하도록 하겠습니다.
감사합니다.		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 105,000원
1767 2024-05-26 18시 19시 안녕하세요?

포항공대 노준석 교수님 연구실 전영선입니다.

PECVD로 증착한 SiN높이 및 광특성 분석해볼 예정입니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 전영선 35,000원
1768 2024-05-27 13시 14시 측정을 진행하고자 하는 샘플은 다음과 같습니다.
- 200 nm 두께의 a-Si 박막, 4 inch quartz wafer에 증착된 상태 (1장)
- 92 nm 두께의 SixNx 박막, 4 inch quartz wafer에 증착된 상태 (1장)

감사합니다.		 고려대학교 산학협력단 윤준석 120,000원
1769 2024-05-27 9시 10시 VOx 두께 측정
- 8인치 5매		 주식회사 보다 연구개발 김형원 187,500원
1770 2024-05-28 18시 20시 포항공대 노준석 교수님 실험실 양영환입니다.
PECVD로 증착된 a-Si:H의 두께를 측정하도록 하겠습니다.
감사합니다
 포항공과대학교 기계공학과 양영환 70,000원
1771 2024-05-29 19시 20시 박막 두게 측정 포항공과대학교 기계공학과 김재경 35,000원
1772 2024-05-29 9시 10시 ALD 이용 후 두께 측정 예정, Si 위 증착된 Al2O3 두께 확인 용도, 내일 오전 9시 이용 예정이라 비밀번호 안내 부탁드립니다. 포항공과대학교 대학원 기계공학과 김홍두 40,000원
1773 2024-05-30 17시 18시 박막 두께 측정 1회 포항공과대학교 기계공학과 김재경 35,000원
1774 2024-06-02 20시 21시 ellipso 직접사용요청드립니다 포항공과대학교 대학원 기계공학과 김경태 35,000원
1775 2024-06-05 13시 15시 Front, Back Thick Meas. 포항공과대학교 기술지원팀 김성준 288,000원
1776 2024-06-05 16시 18시 Nb2O5 particle film 직접 측정하겠습니다. 포항공과대학교 기계공학과 강현정 70,000원
1777 2024-06-06 11시 12시 박막 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 김재경 35,000원
1778 2024-06-10 15시 17시 ICT 제품화 지원사업

담당 연구원 : 도정현 (010-6370-5281)

8inch SOI 5ea oxide thickness inspection		 (주)아이제스트 연구개발팀 길연호 250,000원
1779 2024-06-10 16시 17시 박막 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 김재경 35,000원
1780 2024-06-11 14시 15시 문의드렸는데, 직접 사용 불가 시 서비스 전환 요청드립니다. 포항공과대학교 대학원 전자전기공학과 박종서 40,000원
1781 2024-06-12 15시 16시 ICT 제품화 지원사업

담당 연구원 : 도정현 (010-6370-5281)

8inch wafer 4ea, oxide thicnkness inspection		 (주)아이제스트 연구개발팀 길연호 200,000원
1782 2024-06-12 17시 18시 2-0-0 Backside Thick Meas. 포항공과대학교 기술지원팀 김성준 144,000원
1783 2024-06-13 13시 14시 ICT 제품화 지원사업

담당 연구원 : 도정현 (010-6370-5281)

8inch wafer 1ea, oxide thicnkness inspection		 (주)아이제스트 연구개발팀 길연호 50,000원
1784 2024-06-14 13시 15시 SiC 조각 샘플에 증착한 SiNx, Al2O3, HfO2 박막 두께 측정. *ICT 제품화 지원사업*으로 정산 부탁드립니다.
신청자 : 최재용 / 연락처 : 010-2123-3062 / 이메일 : jychoieee@postech.ac.kr		 (주)아이제스트 연구개발팀 길연호 360,000원
1785 2024-06-17 16시 17시 IGZO / SiO2 박막 두께 확인 및 측정 포항공과대학교 전자전기공학과 윤주영 120,000원
1786 2024-06-17 18시 21시 안녕하세요?

포항공대 노준석 교수님 연구실 전영선입니다.

PECVD로 증착한 SiN 두께 및 광특성 측정 예정입니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 전영선 35,000원
1787 2024-06-17 19시 20시 1.1-2 Thick. 측정
ICT 제품화 지원사업		 마이크로어낼리시스(주) 마이크로어낼리시스 (주) 안재훈 60,000원
1788 2024-06-18 23시 24시 직접이용 포항공과대학교 대학원 화학공학과 이은지 35,000원
1789 2024-06-19 15시 16시 PR 박막 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 김재경 35,000원
1790 2024-06-19 20시 22시 직접진행 포항공과대학교 대학원 기계공학과 김홍윤 35,000원
1791 2024-06-20 11시 12시 VOx Test
- 두께 측정_4매		 주식회사 보다 연구개발 김형원 150,000원
1792 2024-06-20 23시 24시 2cm X 2cm glass 기판 위 증착된 silicon nitride film 두께 측정 예정입니다. 포항공과대학교 대학원 화학공학과 이지해 35,000원
1793 2024-06-21 15시 16시 엘립소 직접사용 요청드립니다. 포항공과대학교 기계공학과 김주훈 35,000원
1794 2024-06-23 8시 10시 직접진행하겠습니다 포항공과대학교 대학원 기계공학과 김홍윤 35,000원
1795 2024-06-26 8시 9시 박막 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 김재경 35,000원
1796 2024-07-02 15시 16시 1-1-2 / 1-2-3 / 1-4-3 Rs Meas. 삼성전자 Power device팀 박종원 120,000원
1797 2024-07-03 16시 17시 4-1-2 Thick Meas. 삼성전자 DS 김태훈 0원
1798 2024-07-05 14시 15시 1-1-4 GOx Thick Meas. 삼성전자 Power device팀 박종원 180,000원
1799 2024-07-05 19시 20시 직접이용 포항공과대학교 대학원 화학공학과 이은지 35,000원
1800 2024-07-09 15시 16시 1-1-2 / 1-2-3 / 1-4-3 Rs Meas. 삼성전자 Power device팀 박종원 120,000원
1801 2024-07-11 13시 14시 PR thickness 측정 포항공과대학교 공정기술팀 박광진 80,000원
1802 2024-07-12 14시 15시 박막 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 김재경 35,000원
1803 2024-07-15 8시 9시 BackSide, Thickness Meas. 트리노테크놀로지 경영지원팀 트리노테크놀로지 0원
1804 2024-07-18 10시 12시 * Quartz 기판 위 100nm 두께의 a-Si이 증착된 시료입니다.
* NINT 내에서 PECVD 공정 후 인계될 예정입니다.
* 기판은 2cm x 2cm x 0.5 mmTh의 크기이고, a-Si 증착 외의 공정은 진행하지 않았습니다.
* 측정 요청사항은 65도 고정각 측정, 파장: 190~1000 nm 시료당 3points,
피팅함수는 triple Tauc-Lorentz로 부탁드리겠습니다.
* 측정 결과는 n,k, thickness, psi-delta, fitted psi-delta, MSE 정보가 필요합니다.
* 측정 후 시료 반환을 요청드립니다.		 성균관대학교 생명물리학과 조한준 180,000원
1805 2024-07-18 12시 13시 SiN 측정하겠습니다 포항공과대학교 기계공학과 강현정 35,000원
1806 2024-07-18 22시 23시 직접이용 포항공과대학교 대학원 화학공학과 이은지 35,000원
1807 2024-07-19 17시 18시 Sac Oxi. Thick Meas. 삼성전자 DS 김태훈 0원
1808 2024-07-22 10시 12시 SiN, a-Si:H 측정하겠습니다 포항공과대학교 기계공학과 강현정 70,000원
1809 2024-07-24 08시 09시 8-1-4 High Oxid. Thick Meas. 삼성전자 DS 김태훈 0원
1810 2024-07-29 19시 20시 0-1-2 TEOS Thick Meas. 포항공과대학교 대학원 반도체대학원 박휘승 288,000원
1811 2024-07-31 13시 14시 Oxi. Thick Meas. 포항공과대학교 기술지원팀 김성준 96,000원
1812 2024-08-01 13시 14시 1.2 POA Thick Meas. 포항공과대학교 기술지원팀 김성준 96,000원
1813 2024-08-02 13시 14시 2-0-0 Oxid. Thick Meas. 포항공과대학교 대학원 반도체대학원 박휘승 144,000원
1814 2024-08-02 19시 20시 2-0-1 POA Thick Meas. 포항공과대학교 대학원 반도체대학원 박휘승 144,000원
1815 2024-08-02 21시 22시 박막 두께 1회 측정 포항공과대학교 기계공학과 김재경 31,000원
1816 2024-08-05 15시 16시 8-2-4 Thick Meas.
 삼성전자 DS 김태훈 0원
1817 2024-08-07 19시 20시 9-1-4 GOx Thick Meas.
9-1-6 POA Thick Meas.		 삼성전자 DS 김태훈 0원
1818 2024-08-07 21시 22시 글라스 기판 위 amorphous silicon 필름 두께 측정 예정입니다. 포항공과대학교 대학원 화학공학과 이지해 31,000원
1819 2024-08-08 10시 11시 9-2-2 Rs Meas.(5ea) 삼성전자 DS 김태훈 0원
1820 2024-08-08 11시 12시 9-2-2 Rs Meas.(3ea) 삼성전자 DS 김태훈 0원
1821 2024-08-08 13시 15시 2-1-3 Thick Meas.
2-2-2 Thick Meas.		 포항공과대학교 기술지원팀 김성준 288,000원
1822 2024-08-09 13시 14시 조각 위에 PECVD로 증착한 SiO2 500 nm 전면 증착되어 있습니다.
두께 측정 부탁드립니다. 사각형 기준으로 한 조각 당 위 /중간 /아래, 좌/중간/우 이렇게 9군데 측정해주시면 감사하겠습니다.

 포항공과대학교 신소재공학과 김준호 96,000원
1823 2024-08-09 21시 22시 2 cm X 2 cm 조각 글라스 기판 위 silicon nitride 필름 두께 측정 예정입니다. 포항공과대학교 대학원 화학공학과 이지해 31,000원
1824 2024-08-10 14시 16시 PECVD 증착 두께 확인 포항공과대학교 기계공학과 오동교 31,000원
1825 2024-08-16 8시 9시 6-5-2 Sac Oxid. Thick Meas. 나노융합기술원 기술지원팀 강민재 48,000원
1826 2024-08-19 21시 22시 2 cm X 2 cm 글라스 조각 기판 위의 amorphous silicon (500 nm) 두께 측정 예정입니다. 포항공과대학교 대학원 화학공학과 이지해 31,000원
1827 2024-08-20 17시 18시 14-1-2 Rs Meas. 삼성전자 Power device팀 박종원 80,000원
1828 2024-08-20 19시 21시 직접진행하겠습니다. 포항공과대학교 대학원 기계공학과 김홍윤 31,000원
1829 2024-08-20 8시 9시 2-2-2 GOx Thick Meas. 포항공과대학교 대학원 반도체대학원 박휘승 48,000원
1830 2024-08-21 21시 23시 박막 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 김재경 31,000원
1831 2024-08-22 8시 9시 2-2-3 POA Thick Meas. 포항공과대학교 대학원 반도체대학원 박휘승 48,000원
1832 2024-08-23 20시 21시 안녕하세요, 노준석 교수님 연구실 강도현입니다.

직접이용하겠습니다.

감사합니다		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 강도현 31,000원
1833 2024-08-23 21시 22시 2 cm X 2 cm 글라스 기판 위에 증착한 silicon nitride (120 nm) 두께 측정 예정입니다. 포항공과대학교 대학원 화학공학과 이지해 31,000원
1834 2024-08-30 10시 11시 전자전기공학과(윤주영) 포항공과대학교 전자전기공학과 윤주영 37,000원
1835 2024-09-02 14시 15시 SiN 두께 측정 (주)유우일렉트로닉스 (주)유우일렉트로닉스 박일몽 120,000원
1836 2024-09-03 20시 22시 안녕하세요, 노준석 교수님 연구실 강도현입니다.
직접 이용하겠습니다.
감사합니다.
 포항공과대학교 대학원 기계공학과 강도현 63,000원
1837 2024-09-05 8시 9시 4-0-0 Backside Thick Meas. 포항공과대학교 대학원 반도체대학원 박휘승 192,000원
1838 2024-09-06 13시 14시 직접이용 포항공과대학교 대학원 화학공학과 이은지 31,000원
1839 2024-09-09 22시 23시 직접이용 포항공과대학교 대학원 화학공학과 이은지 31,000원
1840 2024-09-10 18시 21시 PECVD로 SiN증착 후 두께 측정예정입니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 전영선 31,000원
1841 2024-09-11 22시 23시 PR 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 김재경 31,000원
1842 2024-09-12 10시 12시 2-1-3 / 2-2-2 Thick Meas. 포항공과대학교 기술지원팀 김성준 96,000원
1843 2024-09-12 8시 10시 Si기판 위에 HZO를 증착한 샘플입니다.

Wafer : wafer의 상단부에만 증착이 되었기에, 해당 영역에서 10point 가량 측정을 부탁드립니다.

2cmx2cm : 샘플 당 상/하/좌/우/중앙 총 5 point x 3ea 측정을 부탁드립니다.		 포항공과대학교 대학원 신소재공학과 김성국 192,000원
1844 2024-09-13 21시 22시 2 cm X 2 cm 글라스 기판 위에 증착한 silicon nitride (120 nm) 두께 측정 예정입니다 포항공과대학교 대학원 화학공학과 이지해 31,000원
1845 2024-09-15 14시 15시 PECVD 박막 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 오동교 31,000원
1846 2024-09-18 21시 23시 박막 굴절률 및 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 김재경 31,000원
1847 2024-09-19 13시 15시 직접진행하겠습니다 포항공과대학교 대학원 기계공학과 김홍윤 31,000원
1848 2024-09-20 10시 12시 2-1-3 Thick Meas. 나노융합기술원 대외협력팀 박영재 96,000원
1849 2024-09-20 8시 10시 5-1-2 / 5-2-2 Thick Meas. 포항공과대학교 반도체공학과 이지원 0원
1850 2024-09-23 14시 16시 HZO 시편의 Ellipsoemter 측정을 부탁드립니다.

2x2cm 이내의 시편으로 제작되었으며, 총 4개 입니다.

Si 기판 위에 HZO만 전면 증착되어있으며,
이전과 같이 중심을 기준으로 상/하/좌/우 (0.7um 평행이동) 로 총 5 point를 측정해주신다면 감사드리겠습니다.
 포항공과대학교 대학원 신소재공학과 김성국 192,000원
1851 2024-09-23 16시 17시 직접진행하겠습니다 포항공과대학교 대학원 기계공학과 김홍윤 31,000원
1852 2024-09-24 11시 12시 2-2-2 Thick Meas. 포항공과대학교 기술지원팀 김성준 48,000원
1853 2024-09-25 8시 9시 Thermal Oxid. 100Å Thick Meas.
 포항공과대학교 대학원 반도체대학원 박휘승 96,000원
1854 2024-09-27 13시 14시 전자전기공학과 윤주영 포항공과대학교 전자전기공학과 윤주영 37,000원
1855 2024-09-30 10시 12시 2-1-5 (SiC/Si, 1/1매) - Thick Meas. 현대모비스 전력반도체팀 강민기 120,000원
1856 2024-09-30 8시 10시 1-1-2 / 1-1-4 Thick Meas. 현대모비스 전력반도체팀 강민기 180,000원
1857 2024-10-01 14시 15시 안녕하세요, 노준석 교수님 연구실 강도현입니다.
직접 이용하겠습니다.
감사합니다.
 포항공과대학교 대학원 기계공학과 강도현 31,000원
1858 2024-10-02 19시 20시 직접이용 포항공과대학교 대학원 화학공학과 이은지 31,000원
1859 2024-10-07 10시 12시 Wizoptics사 NINT통한 Ellipsometer job file 제작 의뢰건 포항공과대학교 기계공학과 김재경 300,000원
1860 2024-10-07 12시 13시 VOx 두께 측정 주식회사 보다 연구개발 김형원 34,800원
1861 2024-10-07 16시 17시 VOx 두께 측정 주식회사 보다 연구개발 김형원 34,800원
1862 2024-10-07 8시 9시 2-1-4 Thick Meas. 포항공과대학교 선행기술팀 한성웅 144,000원
1863 2024-10-09 10시 11시 TiO2 측정 포항공과대학교 대학원 전자전기공학과 박종서 75,000원
1864 2024-10-10 8시 9시 1-1-5 Thick Meas. 현대모비스 전력반도체팀 강민기 180,000원
1865 2024-10-12 15시 18시 안녕하세요?

포항공대 노준석 교수님 연구실 전영선입니다.

PECVD로 증착한 a-Si:H 500nm높이 및 물성 찍을 예정입니다.

감사합니다.

전영선 올림.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 전영선 31,000원
1866 2024-10-12 21시 22시 직접이용 포항공과대학교 대학원 화학공학과 이은지 63,000원
1867 2024-10-13 13시 18시 포항공대 노준석 교수님 실험실 양영환입니다.
Ellipsometery 사용하도록 하겠습니다.
직접사용하도록 하겠습니다. 		포항공과대학교 기계공학과 양영환 127,000원
1868 2024-10-13 9시 12시 imprint resin 측정하겠습니다 포항공과대학교 기계공학과 강현정 63,000원
1869 2024-10-14 16시 17시 TIO2 두께 측정 포항공과대학교 대학원 전자전기공학과 박종서 75,000원
1870 2024-10-14 21시 23시 박막 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 김재경 31,000원
1871 2024-10-15 21시 24시 직접진행하겠습니다. 포항공과대학교 대학원 기계공학과 김홍윤 159,000원
1872 2024-10-17 20시 21시 직접이용 포항공과대학교 대학원 화학공학과 이은지 63,000원
1873 2024-10-20 8시 10시 amorphous Silicon 박막 두께 및 n k 측정 포항공과대학교 대학원 화학공학과 윤희창 31,000원
1874 2024-10-21 13시 15시 안녕하세요, 노준석 교수님 연구실 강도현입니다.
직접 이용하겠습니다.
감사합니다.
 포항공과대학교 대학원 기계공학과 강도현 63,000원
1875 2024-10-22 12시 13시 박막 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 김재경 31,000원
1876 2024-10-22 8시 9시 8-5-2 Thick Meas. 나노융합기술원 대외협력팀 박영재 96,000원
1877 2024-10-23 10시 11시 9-5-2 (선행) Thick Meas. 나노융합기술원 대외협력팀 박영재 48,000원
1878 2024-10-23 9시 10시 TiO2 두께 측정 포항공과대학교 대학원 전자전기공학과 박종서 37,000원
1879 2024-10-25 13시 14시 직접이용 포항공과대학교 대학원 화학공학과 이은지 63,000원
1880 2024-10-25 21시 22시 2cm X 2cm 크기의 조각 glass 기판 위에 증착된 amorphous silicon 두께 측정 예정입니다. 포항공과대학교 대학원 화학공학과 이지해 31,000원
1881 2024-10-27 13시 15시 직접 이용하겠습니다 포항공과대학교 기계공학과 강현정 63,000원
1882 2024-10-28 13시 15시 * Si 기판 위 PMMA 고분자를 도포한 시료입니다.
* 9개 기판 모두 동일한 소재이나, 스핀 코팅 조건을 달리하여 두께가 다른 시료입니다.
* 피팅은 500~1000 nm 구간에서 cauchy 모델로 진행을 요청드립니다.
* 굴절률은 대략 1.45~1.55 이내의 시료입니다.
* 측정 이후 반환을 요청드립니다. 		성균관대학교 생명물리학과 조한준 540,000원
1883 2024-10-28 15시 16시 안녕하세요?

포항공대 노준석 교수님 연구실 전영선입니다.

a-si:H 800nm 두께 측정 예정입니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 전영선 0원
1884 2024-10-28 8시 9시 9-1-7 Thickness Meas. 나노융합기술원 대외협력팀 박영재 96,000원
1885 2024-10-29 12시 14시 박막 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 김재경 31,000원
1886 2024-10-30 16시 17시 2-2-2 Thick Meas. 나노융합기술원 대외협력팀 박영재 96,000원
1887 2024-10-30 24시 2시 직접진행하겠습니다. 포항공과대학교 대학원 기계공학과 김홍윤 95,000원
1888 2024-10-31 14시 15시 VOx 두께측정 주식회사 보다 연구개발 김형원 34,800원
1889 2024-10-31 8시 10시 직접진행하겠습니다. 포항공과대학교 대학원 기계공학과 김홍윤 95,000원
1890 2024-11-01 13시 14시 박막 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 김재경 31,000원
1891 2024-11-01 21시 22시 2 cm X 2 cm 글라스 기판 위에 증착된 amorphous silicon 두께 측정 예정입니다. 포항공과대학교 대학원 화학공학과 이지해 31,000원
1892 2024-11-04 10시 12시 5-1-5 Thickness Meas.
 현대모비스 전력반도체팀 강민기 280,000원
1893 2024-11-05 20시 21시 직접이용 포항공과대학교 대학원 화학공학과 이은지 63,000원
1894 2024-11-07 15시 17시 2-1-5 Thickness Meas. (주)모이모션 (주) 모이모션 최정례 0원
1895 2024-11-07 19시 21시 Thickness Meas. 나노융합기술원 대외협력팀 박영재 240,000원
1896 2024-11-07 21시 22시 안녕하세요, 노준석 교수님 연구실 강도현입니다.
직접 이용하겠습니다.
감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 강도현 31,000원
1897 2024-11-08 21시 23시 직접 이용 포항공과대학교 대학원 화학공학과 윤희창 31,000원
1898 2024-11-11 15시 16시 안녕하세요, 노준석 교수님 연구실 강도현입니다.

직접 이용입니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 강도현 31,000원
1899 2024-11-13 15시 16시 SiNx, a-Si:H 굴절률 및 두께 측정을 위해 직접사용 요청드립니다. 포항공과대학교 대학원 기계공학과 성준화 63,000원
1900 2024-11-14 19시 21시 SiN 박막 두께 측정 포항공과대학교 기계공학과 김재경 31,000원
1901 2024-11-14 8시 10시 7-2-4 Thickness Meas. 현대모비스 전력반도체팀 강민기 120,000원
1902 2024-11-15 08시 10시 3-1-5 Thickness Meas. 현대모비스 전력반도체팀 강민기 450,000원
1903 2024-11-16 15시 17시 직접사용 포항공과대학교 대학원 화학공학과 윤희창 31,000원
1904 2024-11-16 9시 10시 3-2-4 Thickness Meas. 현대모비스 전력반도체팀 강민기 450,000원
1905 2024-11-19 19시 20시 직접이용하겠습니다 포항공과대학교 기계공학과 강현정 63,000원
1906 2024-11-20 13시 14시 물질 정보 기재 드립니다.

#01 - TiO2 10~11nm 증착된 Si wafer로, native oxide layer가 있을 수 있습니다.
#02 - TiO2 8~9nm 증착된 Si wafer로, native oxide layer와 공정 과정에 의한 TiF4 layer가 일부 있을 수 있습니다.

#01은 reference로, 공정 전/후 비교를 위한 과정입니다. 49point 측정 요청드립니다.

시험성적서 발급이 필요하니, 성적서에 2개 sample의 E/A값(두께 차이)과 감소된 두께에 대한 uniformity 기재를 부탁드립니다.		 (주)테스 미래기술G 개발2팀 김창윤 240,000원
1907 2024-11-20 14시 15시 일립소 직접사용 요청드립니다. 포항공과대학교 대학원 기계공학과 성준화 31,000원
1908 2024-11-20 8시 10시 Al2O3 입니다. 포항공과대학교 화학공학과 정주현 144,000원
1909 2024-11-21 9시 10시 담당 연구원 : 도정현 (010-6370-5281)
8inch test wafer 1ea Topside Oxiation thickness inspection, target 5nm
13point 측정 의뢰

오늘(목요일) 5시쯤에 의뢰함에 두도록 하겠습니다. 진행후 연락부탁드립니다.
감사합니다.		 포항공과대학교 전자전기공학과 이정수 48,000원
1910 2024-11-27 19시 21시 포항공대 노준석 교수님 실험실 양영환입니다.
glass 위에 증착된 a-Si film의 두께를 측정하고자 합니다 .
직접 사용하도록 하겠습니다.
감사합니다.		 포항공과대학교 기계공학과 양영환 63,000원
1911 2024-11-28 17시 18시 안녕하세요, 노준석 교수님 연구실 강도현입니다.

직접 이용입니다.

감사합니다.		 포항공과대학교 대학원 기계공학과 강도현 31,000원
1912 2024-11-29 18시 19시 SiO2 박막 두께 측정 1회 포항공과대학교 기계공학과 김재경 31,000원