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장비소개

High Temperature Anneal Furnace

장비명(영문) :  High Temperature Anneal Furnace

장비명(국문) :  고온열처리로-II

제조사 :  ULVAC, Inc.

모델 :  PFS-6000-25

사양 :  4/6 Inch Wafer 겸용

용도 :  850℃ ~ 2000℃ 고온열처리

키워드 :  

 
Furnace 개요
 
항목
내용
Remark
Maker
ULVAC, Inc.
 
장비명
PFS-6000-25
 
Heating 방식
고주파 유도 가열 방식
50kw Power Source
Anneal Temperature
850~ 2000
850미만 공정 불가
Anneal Time
60분 이내
1800이상은 30분 이내
Chamber 분위기
Ar 분위기
Ar 분위기 Vacuum상태 유지
VacuumPressure
High Vacuum
1.4E-4Pa (1E-6Torr)
Heater WaferTraymaterial
Graphite
Wafer를 각각의 Tray위에 올려놓고
진행
Wafer Size
4/6 Inch Wafer 겸용
조각 시편 가능
ProcessPerformance
(SiC Rs Unif. 1σ)
Within  3%이내
19003분 진행 결과임
WTW : Wafer to Wafer
LTL : Lot To Lot
WTW  3%이내
LTL  3%이내
 
 
 
System특성
 
1. 고온용 (~2000) Anneal FurnaceSiC Implanter Post-Anneal 용으로 사용
 
2. 고 진공 Pump를 이용한 High Vacuum 적용으로 Clean Argon Environment Process 가능 (외부 대기에 의한 오염 없음)
 
3. 각종 Si Anneal Process 에 사용 가능 (~1200)

4. 기본 공정 조건 이외의 조건에 대해서는 담당자 문의  
 
 
 

장비사용료 용도 이용료부과기준 이용수가(원) 비고
기본료 직접사용 서비스
850℃ ~ 2000℃ 고온열처리 회/매 0 0 1,500,000 Lot (5매), 소요시간 6hr
  • 장비예약 취소를 원할 경우 예약일 전일 까지 장비담당자에게 요청하시기 바랍니다.
  • 예약 당일에 취소할 경우 불이익을 받을 수 있습니다. (특성평가 장비는 장비 예약시간의 50% 취소 수수료 부과 청구)
  • 장비이용 후 청구담당자가 다음 월에 이용료 결제를 요청합니다. (부과세 별도 적용 / 포스텍 비적용)

  • <장비 이용료 할인 안내>
    1) 포항공과대학교 내 이용자(입주기업 포함)는 이용료의 10%를 할인율 적용합니다.
    2) 장비 운영 라이선스 취득 후 심야시간대(당일 18:00 ~ 익일 09:00) 직접이용 이용료의 50% 할인율 적용합니다.
       *특성평가팀 특정장비 심야할인 별도 적용되는 경우 있으니 사전에 담당자에게 문의바랍니다.
    3) 전년도 이용 실적 5천만원 이상 이용자는  5~20% 특별 할인 적용합니다.
        * 포항공과대학교 내 이용자는 특별 할인 추가됩니다.

장비담당자

장비담당자 전화번호 이메일
최찬호 054-279-0283 chanho@postech.ac.kr
이원범 054-279-0226 wblee@postech.ac.kr

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