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장비소개

Laser Lithography System

장비명(영문) :  Laser Lithography System

장비명(국문) :  레이저리소그래피시스템(Cr Mask 제작)

제조사 :  Heidelberg

모델 :  DWL200

사양 :  Minimum Feature Size : 1㎛(4mm lens) , 2㎛(10mm lens)

용도 :  9 inch, 6T 이하 Free Size 노광 (2,4,5,6,7,8,9 inch wafer, mask, etc.)

키워드 :  Litho, Lithography, 리소, 리소그라피, 패턴, 레이져

- Minimum resolution : 0.8um
- Mask size : 5”, 6", 7”
- DOF : 4mm
- Writing speed : 53 mm²/min
- Edge Roughness (3σ) : 80nm
- CD Uniformity (3σ) : 110nm
장비사용료 용도 이용료부과기준 이용수가(원) 비고
기본료 직접사용 서비스
7inch 2㎛ 이하 직접노광(Exposing Time 7시간 기준) 회/매 0 0 700,000 Blank Mask, 재료비 비용 추가
7inch 2㎛ 이상 직접노광(Exposing Time 2시간 기준) 회/매 0 0 500,000 Blank Mask, 재료비 비용 추가
6inch 2㎛ 이하 직접노광(Exposing Time 6시간 기준) 회/매 0 0 700,000 Blank Mask, 재료비 비용 추가
5inch 2㎛ 이하 직접노광(Exposing Time 5시간 기준) 회/매 0 0 500,000 Blank Mask, 재료비 비용 추가
5inch 2㎛ 이상 직접노광(Exposing Time 2시간 기준) 회/매 0 0 300,000 Blank Mask, 재료비 비용 추가
8inch 1㎛ 이상 직접노광(Exposing Time 2시간 기준) 회/매 0 0 200,000 ·Wet Process 비용포함, ·재료비 별도
  • 장비예약 취소를 원할 경우 예약일 전일 까지 장비담당자에게 요청하시기 바랍니다.
  • 예약 당일에 취소할 경우 불이익을 받을 수 있습니다. (특성평가 장비는 장비 예약시간의 50% 취소 수수료 부과 청구)
  • 장비이용 후 청구담당자가 다음 월에 이용료 결제를 요청합니다. (부과세 별도 적용 / 포스텍 비적용)

  • <장비 이용료 할인 안내>
    1) 포항공과대학교 내 이용자(입주기업 포함)는 이용료의 10%를 할인율 적용합니다.
    2) 장비 운영 라이선스 취득 후 심야시간대(당일 18:00 ~ 익일 09:00) 직접이용 이용료의 50% 할인율 적용합니다.
       *특성평가팀 특정장비 심야할인 별도 적용되는 경우 있으니 사전에 담당자에게 문의바랍니다.
    3) 전년도 이용 실적 5천만원 이상 이용자는  5~20% 특별 할인 적용합니다.
        * 포항공과대학교 내 이용자는 특별 할인 추가됩니다.

장비담당자

장비담당자 전화번호 이메일
강민재 054-279-0228 ggang25@postech.ac.kr
성민제 054-279-0239 mjsung10@postech.ac.kr

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