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장비소개

E-Beam Lithography System-Ⅱ

장비명(영문) :  E-Beam Lithography System-Ⅱ

장비명(국문) :  전자빔리소그래픽시스템-Ⅱ

제조사 :  Elionix

모델 :  ELS-7800

사양 :  8㎚ @80㎸

용도 :  10nm급 고속 직접노광

키워드 :  Litho, Lithography, 리소, 리소그라피, 패턴


1 features:  
ㆍ ZrO/W emitter provides the use of electron beam whose diameter is as fine as 2nm
    for long hours with high stability. 
ㆍ Capable of drawing lines of 8nm width 
ㆍ The use of 18bit DAC provides electron beam positioning with 0.3nm resolution.  
ㆍ The laser interferometer achieves 20nm stitching accuracy and 25nm overlay
    accuracy. 
ㆍ Electrostatic deflector is capable of providing max 2.4 mm x 2.4 mm drawing frame. 
ㆍ Accommodates max 8" diameter wafers or 8" square masks  
 
2 Tool performances  
ㆍ Acceleration voltage of 25kV, 50kV, 80kV  
ㆍ High stability, long hour operation with electron beam whose diameter is as fine as
    1.8 nm 
ㆍ High stability, long hour operation with electron beam whose diameter is as fine as 2 nm 
ㆍ 18bit DAC provides electron beam positioning with 0.31nm resolution. 
ㆍ The laser interferometer achives 20 nm stitching accuracy and 25nm overlay
    accuracy. 
ㆍ Accommodates 8" diameter wafers / 8" square masks.  
 
3 Hardware configurations:  
ㆍ Wafer size: piece to 200 mm 
ㆍ Reticle size: 4 inch to 200 mm sq. 
ㆍ Electron beam
    - Beam shape: Gaussian
    - Beam accelerating voltage: 25,50,75,100KeV
    - Beam current range: 1x10-­¹² ~2x10­-9A 
ㆍ Gun type: Thermal Field Emission (TFE) 
ㆍ Field size: 75 μmx75 μm ~ 600 μmx600 μm(25 ~ 100 KeV)
                  : 1200 μmx1200 μm (25 ~ 75 KeV)
                  : 2400 μmx2400 μm (25 KeV)  
ㆍ Beam current Density: 4000A/cm2 (max) 
ㆍ Minimum beam size: 28 nm (80KeV)
ㆍ Date format: (*.sch, *.con, *.ccc, *.cbc, *.cel) 

장비사용료 용도 이용료부과기준 이용수가(원) 비고
기본료 직접사용 서비스
10nm급 고속 직접노광 1시간 0 300,000 400,000 1시간 단위, PMMA : 제공, Positive PR, Negative PR 재료비 별도청구
  • 장비예약 취소를 원할 경우 예약일 전일 까지 장비담당자에게 요청하시기 바랍니다.
  • 예약 당일에 취소할 경우 불이익을 받을 수 있습니다. (특성평가 장비는 장비 예약시간의 50% 취소 수수료 부과 청구)
  • 장비이용 후 청구담당자가 다음 월에 이용료 결제를 요청합니다. (부과세 별도 적용 / 포스텍 비적용)

  • <장비 이용료 할인 안내>
    1) 포항공과대학교 내 이용자(입주기업 포함)는 이용료의 10%를 할인율 적용합니다.
    2) 장비 운영 라이선스 취득 후 심야시간대(당일 18:00 ~ 익일 09:00) 직접이용 이용료의 50% 할인율 적용합니다.
       *특성평가팀 특정장비 심야할인 별도 적용되는 경우 있으니 사전에 담당자에게 문의바랍니다.
    3) 전년도 이용 실적 5천만원 이상 이용자는  5~20% 특별 할인 적용합니다.
        * 포항공과대학교 내 이용자는 특별 할인 추가됩니다.

장비담당자

장비담당자 전화번호 이메일
김동현 054-279-0237 best820@postech.ac.kr

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