mTmOWtdR236jYAl158VPuq165QLXU235TYPt185VHaJ132DrPL7C0UKJ1ReLq236GNJi134ygUn140daNU234DQeo176ZTTM156i2N9

HOME > 장비서비스 > 장비소개
  • 공정기술팀 분야
  • 특성평가팀 분야
  • 구미기업지원센터 분야
  • 무한상상실 분야

High Current Implanter

가동중
기자재관리번호 B0000055-082002-A0009
장비명(영문) High Current Implanter
장비명(국문) 고전류 이온주입장치
제조사 Varian
모델 Vision 200
사양 Only 8
용도 고농도, 얕은 깊이의 불순물 주입
키워드

장비상세설명

구분 High Current Implanter
Maker Varian
Model VIISion200
wafer 8inch
DOPANT(AMU) As(75) P(31) B(11), BF2(49)
DOSE(min-max) 1E13~5E16 1E13~5E16 2E12~3E15
Energy Range(min-max) 30~120keV

장비사용료

장비사용료 용도 이용료부과기준 이용수가(원) 비고
직접사용 서비스
As, P, B 회/매 0 200,000 Dose 1e16(As,P), 3e15(B) 초과 별도 협의, 1Batch(13매)단위 공정
  • 포항공과대학교 및 현금 출자기관 사용자는 장비사용료에서 20% 할인 된 금액으로 청구 됩니다.
  • 이용자협의회 사용자는 장비사용료에서 10% 할인 된 금액으로 청구 됩니다.
  • 장비사용료 청구익월초 일괄 정산합니다. 단, 요청시 당월 발행도 가능합니다.
  • 부가가치세(10%) 별도

장비담당자

장비담당자 전화번호 이메일
기종 054-279-0232 kijong@postech.ac.kr
이정익 054-279-0267 kb3000@postech.ac.kr
최찬호 054-279-0225 chanho@postech.ac.kr
예약신청 목록보기