1HY5Jzmz3540ZjcH2370DUNm2475AKnU3525FcXd2775xeTP1980vyrpV5c3CM15EjaS3540oZnx2010ELDV2100whRs3510SBdK2640jjpM234081kc

HOME > 장비서비스 > 장비소개
  • 공정기술팀 분야
  • 특성평가팀 분야
  • 구미기업지원센터 분야
  • 무한상상실 분야

PE-CVD-I

가동중
기자재관리번호 B0000055-092002-A0000
장비명(영문) PE-CVD-I
장비명(국문) 플라즈마증착장치-I
제조사 BMR Technology
모델 HiDep-SC
사양 up to 8
용도 박막 TFT 형성, 저온산화막 형성
키워드

장비상세설명

장비사용료

장비사용료 용도 이용료부과기준 이용수가(원) 비고
직접사용 서비스
SiN, SiO2 박막 증착 회/매 80,000 100,000 두께 1㎛ 기준
  • 포항공과대학교 및 현금 출자기관 사용자는 장비사용료에서 20% 할인 된 금액으로 청구 됩니다.
  • 이용자협의회 사용자는 장비사용료에서 10% 할인 된 금액으로 청구 됩니다.
  • 장비사용료 청구익월초 일괄 정산합니다. 단, 요청시 당월 발행도 가능합니다.
  • 부가가치세(10%) 별도

장비담당자

장비담당자 전화번호 이메일
기종 054-279-0232 kijong@postech.ac.kr
이정익 054-279-0267 kb3000@postech.ac.kr
예약신청 목록보기