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Atomic Layer Deposition (ALD)

가동중
기자재관리번호 B0000055-062002-A0015
장비명(영문) Atomic Layer Deposition (ALD)
장비명(국문) 원자층증착장치
제조사 QUROS
모델 Plus 200
사양 up to 8
용도 HfO2, Al2O3 원자층 금속증착
키워드

장비상세설명

장비사용료

장비사용료 용도 이용료부과기준 이용수가(원) 비고
직접사용 서비스
Al2O3, HfO2, SiO2, TiN ALD 회/매 0 120,000 두께 100Å 기준
  • 포항공과대학교 및 현금 출자기관 사용자는 장비사용료에서 20% 할인 된 금액으로 청구 됩니다.
  • 이용자협의회 사용자는 장비사용료에서 10% 할인 된 금액으로 청구 됩니다.
  • 장비사용료 청구익월초 일괄 정산합니다. 단, 요청시 당월 발행도 가능합니다.
  • 부가가치세(10%) 별도

장비담당자

장비담당자 전화번호 이메일
기종 054-279-0232 kijong@postech.ac.kr
이정익 054-279-0267 kb3000@postech.ac.kr
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