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Dual Beam FIB (Focused Ion Beam)

가동중
기자재관리번호 00000000000000000
장비명(영문) Dual Beam FIB (Focused Ion Beam)
장비명(국문) 집속이온빔
제조사 FEI, EDAX
모델 Helios, Hikari, UMSⅡ
사양 Resolution 1nm (SEM), 5nm (Ion), ~1000point/s(EBSD), 129eV(E
용도 3차원 가공 및 구조, 성분의 입체적 분석, EBSD/EDS 분석
키워드 FIB, 집속이온빔, EBSD, EDS

장비상세설명

 

장비사용료

장비사용료 용도 이용료부과기준 이용수가(원) 비고
직접사용 서비스
3차원 가공 및 구조, 성분의 입체적 분석 1시간 100,000 200,000 재료비 별도 (Pt Coating) / ※ FIB, EBSD 직접 이용은 해당 장비 라이센스가 부여된 자에 한함
미세 집합조직 해석 EBSD/EDS 1시간 70,000 200,000 재료비 별도 (Pt Coating) / ※ FIB, EBSD 직접 이용은 해당 장비 라이센스가 부여된 자에 한함
  • 포항공과대학교 및 현금 출자기관 사용자는 장비사용료에서 20% 할인 된 금액으로 청구 됩니다.
  • 이용자협의회 사용자는 장비사용료에서 10% 할인 된 금액으로 청구 됩니다.
  • 장비사용료 청구익월초 일괄 정산합니다. 단, 요청시 당월 발행도 가능합니다.
  • 부가가치세(10%) 별도

장비담당자

장비담당자 전화번호 이메일
오창열 054-279-0286 chang10@postech.ac.kr
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