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Laser Lithography System

가동중
기자재관리번호 B0000055-072002-A0022
장비명(영문) Laser Lithography System
장비명(국문) 레이저리소그래피시스템(Cr Mask 제작)
제조사 Heidelberg
모델 DWL200
사양 Minimum Feature Size : 1㎛(4mm lens) , 2㎛(10mm lens)
용도 9 inch, 6T 이하 Free Size 노광 (2,4,5,6,7,8,9 inch wafer, mask, etc.)
키워드 Litho, Lithography, 리소, 리소그라피, 패턴, 레이져

장비상세설명

- Minimum resolution : 0.8um
- Mask size : 5”, 6", 7”
- DOF : 4mm
- Writing speed : 53 mm²/min
- Edge Roughness (3σ) : 80nm
- CD Uniformity (3σ) : 110nm

장비사용료

장비사용료 용도 이용료부과기준 이용수가(원) 비고
직접사용 서비스
7inch 2㎛ 이하 직접노광(Exposing Time 7시간 기준) 회/매 0 700,000 Blank Mask, 재료비 비용 추가
7inch 2㎛ 이상 직접노광(Exposing Time 2시간 기준) 회/매 0 500,000 Blank Mask, 재료비 비용 추가
6inch 2㎛ 이하 직접노광(Exposing Time 6시간 기준) 회/매 0 700,000 Blank Mask, 재료비 비용 추가
5inch 2㎛ 이하 직접노광(Exposing Time 5시간 기준) 회/매 0 500,000 Blank Mask, 재료비 비용 추가
5inch 2㎛ 이상 직접노광(Exposing Time 2시간 기준) 회/매 0 300,000 Blank Mask, 재료비 비용 추가
8inch 1㎛ 이상 직접노광(Exposing Time 2시간 기준) 회/매 0 200,000 ·Wet Process 비용포함, ·재료비 별도
  • 포항공과대학교 및 현금 출자기관 사용자는 장비사용료에서 20% 할인 된 금액으로 청구 됩니다.
  • 이용자협의회 사용자는 장비사용료에서 10% 할인 된 금액으로 청구 됩니다.
  • 장비사용료 청구익월초 일괄 정산합니다. 단, 요청시 당월 발행도 가능합니다.
  • 부가가치세(10%) 별도

장비담당자

장비담당자 전화번호 이메일
강민재 054-279-0228 ggang25@postech.ac.kr
성민제 054-279-0239 mjsung10@postech.ac.kr
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