InaZ1581210586110551574512395U8844oXy4N9t6715812l8978K9380156781179210452j7N6

HOME > 장비서비스 > 장비소개
  • 공정기술팀 분야
  • 특성평가팀 분야
  • 구미기업지원센터 분야
  • 무한상상실 분야

E-Beam Lithography System-Ⅱ

가동중
기자재관리번호 B0000055-072002-A0001
장비명(영문) E-Beam Lithography System-Ⅱ
장비명(국문) 전자빔리소그래픽시스템-Ⅱ
제조사 Elionix
모델 ELS-7800
사양 8㎚ @80㎸
용도 10nm급 고속 직접노광
키워드 Litho, Lithography, 리소, 리소그라피, 패턴

장비상세설명


1 features:  
ㆍ ZrO/W emitter provides the use of electron beam whose diameter is as fine as 2nm
    for long hours with high stability. 
ㆍ Capable of drawing lines of 8nm width 
ㆍ The use of 18bit DAC provides electron beam positioning with 0.3nm resolution.  
ㆍ The laser interferometer achieves 20nm stitching accuracy and 25nm overlay
    accuracy. 
ㆍ Electrostatic deflector is capable of providing max 2.4 mm x 2.4 mm drawing frame. 
ㆍ Accommodates max 8" diameter wafers or 8" square masks  
 
2 Tool performances  
ㆍ Acceleration voltage of 25kV, 50kV, 80kV  
ㆍ High stability, long hour operation with electron beam whose diameter is as fine as
    1.8 nm 
ㆍ High stability, long hour operation with electron beam whose diameter is as fine as 2 nm 
ㆍ 18bit DAC provides electron beam positioning with 0.31nm resolution. 
ㆍ The laser interferometer achives 20 nm stitching accuracy and 25nm overlay
    accuracy. 
ㆍ Accommodates 8" diameter wafers / 8" square masks.  
 
3 Hardware configurations:  
ㆍ Wafer size: piece to 200 mm 
ㆍ Reticle size: 4 inch to 200 mm sq. 
ㆍ Electron beam
    - Beam shape: Gaussian
    - Beam accelerating voltage: 25,50,75,100KeV
    - Beam current range: 1x10-­¹² ~2x10­-9A 
ㆍ Gun type: Thermal Field Emission (TFE) 
ㆍ Field size: 75 μmx75 μm ~ 600 μmx600 μm(25 ~ 100 KeV)
                  : 1200 μmx1200 μm (25 ~ 75 KeV)
                  : 2400 μmx2400 μm (25 KeV)  
ㆍ Beam current Density: 4000A/cm2 (max) 
ㆍ Minimum beam size: 28 nm (80KeV)
ㆍ Date format: (*.sch, *.con, *.ccc, *.cbc, *.cel) 

장비사용료

장비사용료 용도 이용료부과기준 이용수가(원) 비고
직접사용 서비스
10nm급 고속 직접노광 1시간 300,000 400,000 1시간 단위, PMMA : 제공, Positive PR, Negative PR 재료비 별도청구
  • 포항공과대학교 및 현금 출자기관 사용자는 장비사용료에서 20% 할인 된 금액으로 청구 됩니다.
  • 이용자협의회 사용자는 장비사용료에서 10% 할인 된 금액으로 청구 됩니다.
  • 장비사용료 청구익월초 일괄 정산합니다. 단, 요청시 당월 발행도 가능합니다.
  • 부가가치세(10%) 별도

장비담당자

장비담당자 전화번호 이메일
이남걸 054-279-0282 leeng@postech.ac.kr
김동현 054-279-0237 best820@postech.ac.kr
예약신청 목록보기