1 |
E-Beam Lithography System-I |
전자빔리소그래피시스템-I |
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2 |
E-Beam Lithography System-Ⅱ |
전자빔리소그래픽시스템-Ⅱ |
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3 |
Laser Lithography System |
레이저리소그래피시스템(Cr Mask 제작) |
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4 |
I-Line Stepper-I |
노광기-I |
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5 |
PR Track-I |
트렉 시스템-I |
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6 |
UV-IL PR Track |
자외선 트렉 시스템 |
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7 |
PR Spin Coater |
감광막 도포 시스템 |
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8 |
Wet Station_Organic |
습식현상 |
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9 |
Atomic Layer Deposition (ALD) |
원자층증착장치 |
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10 |
UHV-CVD |
초고진공화학기상증착기 |
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11 |
Sputter-I |
물리증착장치(스퍼터)-I |
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12 |
AP-CVD |
대기압 화학증착장치 |
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13 |
LP-CVD |
저압 화학증착장치 |
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14 |
Anneal Furnace |
열처리 장비 |
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15 |
PE-CVD-I |
플라즈마증착장치-I |
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16 |
Sputter-Ⅲ |
물리증착장치(스퍼터)- III |
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17 |
PE-CVD-Ⅱ |
플라즈마증착장치-Ⅱ |
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18 |
Dry Etcher_ICP |
ICP 식각장치 |
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19 |
Dry Etcher_20nm급 |
플라즈마 유도결합 식각장치 |
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20 |
Dry Etcher_Oxide |
산화막 식각장치 |
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21 |
Dry Etcher_Poly Si |
다결정규소막 식각장치 |
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22 |
PR Asher_FEOL-I |
감광제 제거 시스템-I |
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23 |
Dry Etcher_Metal |
금속막 식각장치 |
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24 |
Wet Station_Acid |
세정 및 에칭장치 |
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25 |
Spin Rinse Dryer |
스핀건조기 |
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26 |
Wet Station_Pre Clean-Ⅱ |
Wafer 전처리 장치-Ⅱ |
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27 |
Furnace_N+ Dopant Anneal |
N+ 불순물 열처리로 |
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28 |
Furnace_Pyro Oxidation-I |
습식열산화막 반응로-I |
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29 |
Furnace Parts |
확산로 Parts |
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30 |
Furnace_Poly Si-I |
다결정규소박막증착로-I |
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31 |
Furnace_High T Anneal-I |
고온열처리로-I |
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32 |
Furnace_Dry Oxidation-I |
건식열산화막 반응로-I |
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33 |
RTP for RTO |
급속열산화막용 급속열처리기 |
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34 |
RTP for Silicide |
실리사이드용 급속열처리기 |
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35 |
High Current Implanter |
고전류 이온주입장치 |
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36 |
Medium Current Implanter |
중전류 이온주입장치 |
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37 |
CD-SEM |
임계치수 측정 주사현미경 |
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38 |
Spectroscopic Ellipsometer |
박막두께측정기 |
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39 |
4 Point Probe-I |
4단 면저항 측정기-I |
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40 |
3D Profiler |
3차원 프로파일러 |
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41 |
Stress Measurement System |
스트레스측정시스템 |
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42 |
HR FE-SEM (in Clean Room) |
전계방출전자현미경 |
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43 |
Thickness Measurement |
박막두께측정기 |
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44 |
Cryogenic RF Measurement System |
초저온RF측정시스템 |
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45 |
CNT Synthesis System |
탄소나노튜브 합성장치 |
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46 |
Mask Aligner for NEMS |
마스크얼라이너 |
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47 |
Mask Aligner (ME) |
마스크얼라이너(기계과) |
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48 |
PR Asher for NEMS |
감광제 제거 시스템 |
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49 |
NEMS Base System (Spin coater-I) |
NEMS 제작을 위한 Base System |
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50 |
NEMS Base System (Spin Coater-Ⅱ) |
NEMS 제작을 위한 Base System |
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51 |
NEMS Base System (Wet station-I) |
NEMS 제작을 위한 Base System |
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52 |
NEMS Base System (Wet station-Ⅱ) |
NEMS 제작을 위한 Base System |
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53 |
NEMS Base System (Wet station-Ⅲ) |
NEMS 제작을 위한 Base System |
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54 |
NEMS Base System (Wet station-Ⅳ) |
NEMS 제작을 위한 Base System |
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55 |
NEMS Base System (optical microscope) |
NEMS 제작을 위한 Base System |
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56 |
E-Beam Evaporator-I |
전자빔증착기-I |
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57 |
Deep Reactive Ion Etcher (DRIE) |
이온실리콘식각장치 |
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58 |
Spin Coater with Glove Box |
스핀코터 |
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59 |
Mask Aligner |
마스크 정렬 노광 장비 |
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60 |
OMBD_Metal Evaporation System |
유기&금속 증착 시스템 |
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61 |
OLED Evaporation System |
OLED 증착장비(200x200 glass) |
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62 |
Sputter (OLED) |
스퍼터 (OLED) |
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63 |
Probe Station_Power Semiconductor |
프로브스테이션_파워반도체(소자) |
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64 |
Semiconductor technical support service (강민재) |
반도체 기술지원 서비스 (강민재) |
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65 |
Semiconductor technical support service (박일몽) |
반도체 기술지원 서비스 (박일몽) |
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66 |
I-Line Stepper-Ⅱ |
노광기-Ⅱ |
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67 |
I-Line Stepper-Ⅲ |
노광기-Ⅲ |
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68 |
PR Track-Ⅱ |
트렉 시스템-Ⅱ |
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69 |
PR Asher_FEOL-Ⅱ |
감광제 제거 시스템-Ⅱ |
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70 |
Furnace_Poly Si-Ⅱ |
다결정규소박막증착로-Ⅱ |
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71 |
Furnace_High T Anneal-Ⅱ |
고온열처리로-Ⅱ |
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72 |
Optical Microscopes-I |
광학현미경-I |
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73 |
Optical Microscopes-Ⅱ |
광학현미경-Ⅱ |
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74 |
Optical Microscopes-Ⅲ |
광학현미경-Ⅲ |
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75 |
Optical Microscopes-Ⅳ |
광학현미경-Ⅳ |
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76 |
Optical Microscopes-Ⅴ |
광학현미경-Ⅴ |
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77 |
Semiconductor technical support service (황현주) |
반도체 기술지원 서비스 (황현주) |
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78 |
Semiconductor technical support service (이정익) |
반도체 기술지원 서비스 (이정익) |
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79 |
Semiconductor technical support service (김수곤) |
반도체 기술지원 서비스 (김수곤) |
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80 |
High Temperature Anneal Furnace |
고온열처리로-II |
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81 |
E-beam Evaporator-Ⅱ |
전자빔 증착장비 |
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82 |
High Temperature Pyro Oxidation Furnace |
고온 습식/건식 산화로 |
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83 |
PE-CVD-Ⅲ |
플라즈마증착장치-III |
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84 |
Dry Etcher_ICP - II |
ICP 식각 장치 - 2 |
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85 |
Deep Reactive Ion Etcher-II(DRIE-II) |
실리콘 고종횡비 식각장치 - 2 |
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86 |
I-Line Stepper -IV |
자동 정렬 노광기 |
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87 |
PR Track -Ⅲ |
자동 반송 도포, 현상기 |
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88 |
PR Track-IV |
자동 반송 코팅기 |
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89 |
PR Track -V |
자동반송 현상기 |
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90 |
Metal Lift-Off |
- |
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91 |
Furnace_Dry Oxidation -Ⅲ |
건식열산화막 반응로 |
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92 |
Semiconductor technical support service (김동현) |
반도체 기술지원 서비스 (김동현) |
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93 |
Dry Etcher - TEL |
절연막건식 식각 장비 |
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94 |
Maskless laser lithography system |
마스크리스 레이저 리소그래피 시스템 |
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