| 1 |
E-Beam Lithography System-I |
전자빔리소그래피시스템-I |
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| 2 |
E-Beam Lithography System-Ⅱ |
전자빔리소그래픽시스템-Ⅱ |
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| 3 |
Laser Lithography System |
레이저리소그래피시스템(Cr Mask 제작) |
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| 4 |
I-Line Stepper-I |
노광기-I |
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| 5 |
PR Track-I |
트렉 시스템-I |
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| 6 |
EUV-IL PR Track |
극자외선 트렉 시스템 |
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| 7 |
PR Spin Coater |
감광막 도포 시스템 |
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| 8 |
Wet Station_Organic |
습식현상 |
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| 9 |
Atomic Layer Deposition (ALD) |
원자층증착장치 |
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| 10 |
UHV-CVD |
초고진공화학기상증착기 |
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| 11 |
Sputter-I |
물리증착장치(스퍼터)-I |
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| 12 |
Sputter-Ⅱ |
물리증착장치(스퍼터)-Ⅱ |
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| 13 |
AP-CVD |
대기압 화학증착장치 |
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| 14 |
LP-CVD |
저압 화학증착장치 |
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| 15 |
Anneal Furnace |
열처리 장비 |
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| 16 |
PE-CVD-I |
플라즈마증착장치-I |
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| 17 |
Sputter-Ⅲ |
물리증착장치(스퍼터)- III |
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| 18 |
PE-CVD-Ⅱ |
플라즈마증착장치-Ⅱ |
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| 19 |
Dry Etcher_ICP |
ICP 식각장치 |
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| 20 |
Dry Etcher_20nm급 |
플라즈마 유도결합 식각장치 |
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| 21 |
Dry Etcher_Oxide |
산화막 식각장치 |
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| 22 |
Dry Etcher_Poly Si |
다결정규소막 식각장치 |
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| 23 |
PR Asher_FEOL-I |
감광제 제거 시스템-I |
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| 24 |
Dry Etcher_Metal |
금속막 식각장치 |
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| 25 |
Wet Station_Acid |
세정 및 에칭장치 |
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| 26 |
Spin Rinse Dryer |
스핀건조기 |
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| 27 |
Wet Station_Pre Clean-Ⅱ |
Wafer 전처리 장치-Ⅱ |
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| 28 |
Furnace_N+ Dopant Anneal |
N+ 불순물 열처리로 |
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| 29 |
Furnace_Poly Si-I |
다결정규소박막증착로-I |
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| 30 |
Furnace_High T Anneal-I |
고온열처리로-I |
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| 31 |
Furnace_Dry Oxidation-I |
건식열산화막 반응로-I |
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| 32 |
RTP for Silicide |
실리사이드용 급속열처리기 |
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| 33 |
High Current Implanter |
고전류 이온주입장치 |
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| 34 |
Medium Current Implanter |
중전류 이온주입장치 |
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| 35 |
CD-SEM |
임계치수 측정 주사현미경 |
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| 36 |
Spectroscopic Ellipsometer |
박막두께측정기 |
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| 37 |
4 Point Probe-I |
4단 면저항 측정기-I |
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| 38 |
3D Profiler |
3차원 프로파일러 |
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| 39 |
Stress Measurement System |
스트레스측정시스템 |
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| 40 |
HR FE-SEM (in Clean Room) |
전계방출전자현미경 |
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| 41 |
Thickness Measurement |
박막두께측정기 |
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| 42 |
Cryogenic RF Measurement System |
초저온RF측정시스템 |
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| 43 |
Flicker Noise Measurement System |
노이즈분석측정시스템 |
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| 44 |
CNT Synthesis System |
탄소나노튜브 합성장치 |
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| 45 |
Mask Aligner for NEMS |
마스크얼라이너 |
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| 46 |
Mask Aligner (ME) |
마스크얼라이너(기계과) |
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| 47 |
PR Asher for NEMS |
감광제 제거 시스템 |
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| 48 |
NEMS Base System (Spin coater-I) |
NEMS 제작을 위한 Base System |
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| 49 |
NEMS Base System (Spin Coater-Ⅱ) |
NEMS 제작을 위한 Base System |
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| 50 |
NEMS Base System (Wet station-I) |
NEMS 제작을 위한 Base System |
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| 51 |
NEMS Base System (Wet station-Ⅱ) |
NEMS 제작을 위한 Base System |
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| 52 |
NEMS Base System (Wet station-Ⅲ) |
NEMS 제작을 위한 Base System |
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| 53 |
NEMS Base System (Wet station-Ⅳ) |
NEMS 제작을 위한 Base System |
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| 54 |
NEMS Base System (optical microscope) |
NEMS 제작을 위한 Base System |
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| 55 |
E-Beam Evaporator-I |
전자빔증착기-I |
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| 56 |
Deep Reactive Ion Etcher (DRIE) |
이온실리콘식각장치 |
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| 57 |
Spin Coater with Glove Box |
스핀코터 |
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| 58 |
Mask Aligner |
마스크 정렬 노광 장비 |
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| 59 |
OMBD_Metal Evaporation System |
유기&금속 증착 시스템 |
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| 60 |
OLED Evaporation System |
OLED 증착장비(200x200 glass) |
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| 61 |
Sputter (OLED) |
스퍼터 (OLED) |
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| 62 |
OLED Probe Station with Glove Box |
OLED 프로브스테이션_글로브 박스 |
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| 63 |
Semiconductor technical support service (강민재) |
반도체 기술지원 서비스 (1) |
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| 64 |
Semiconductor technical support service (이정윤) |
반도체 기술지원 서비스 (2) |
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| 65 |
I-Line Stepper-Ⅱ |
노광기-Ⅱ |
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| 66 |
I-Line Stepper-Ⅲ |
노광기-Ⅲ |
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| 67 |
PR Track-Ⅱ |
트렉 시스템-Ⅱ |
|
| 68 |
PR Asher_FEOL-Ⅱ |
감광제 제거 시스템-Ⅱ |
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| 69 |
Furnace_Poly Si-Ⅱ |
다결정규소박막증착로-Ⅱ |
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| 70 |
Furnace_High T Anneal-Ⅱ |
고온열처리로-Ⅱ |
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| 71 |
Optical Microscopes-I |
광학현미경-I |
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| 72 |
Optical Microscopes-Ⅱ |
광학현미경-Ⅱ |
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| 73 |
Optical Microscopes-Ⅲ |
광학현미경-Ⅲ |
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| 74 |
Optical Microscopes-Ⅳ |
광학현미경-Ⅳ |
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| 75 |
Optical Microscopes-Ⅴ |
광학현미경-Ⅴ |
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| 76 |
Semiconductor technical support service (이원범) |
반도체 기술지원 서비스 (이원범) |
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| 77 |
Semiconductor technical support service (기종) |
반도체 기술지원 서비스 (기종) |
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| 78 |
Semiconductor technical support service (김수곤) |
반도체 기술지원 서비스 (김수곤) |
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| 79 |
High Temperature Anneal Furnace |
고온열처리로-II |
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| 80 |
E-beam Evaporator-Ⅱ |
전자빔 증착장비 |
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| 81 |
High Temperature Pyro Oxidation Furnace |
고온 습식/건식 산화로 |
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| 82 |
PE-CVD-Ⅲ |
플라즈마증착장치-III |
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| 83 |
Wafer Bonder |
웨이퍼 접합 장비 |
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| 84 |
Dry Etcher_ICP - II |
ICP 식각 장치 - 2 |
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| 85 |
Deep Reactive Ion Etcher-II(DRIE-II) |
실리콘 고종횡비 식각장치 - 2 |
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| 86 |
I-Line Stepper -IV |
- |
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| 87 |
PR Track -Ⅲ |
- |
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| 88 |
PR Track-IV |
- |
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| 89 |
PR Track -V |
- |
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| 90 |
Sorter |
- |
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| 91 |
Furnace_Dry Oxidation -Ⅲ |
건식열산화막 반응로 |
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